一种转印板清洗设备及其清洗方法

摘要

本发明涉及清洁技术领域，公开一种转印板清洗设备及其清洗方法，转印板清洗设备包括机架；安装于机架的清洗槽，枢装于机架的清洗辊，清洗辊的柱面的至少一部分位于清洗槽内、且清洗辊的柱面设有用于将卷绕于柱面上的转印板固定的转印板固定机构；清洗辊的柱面设置有与转印板上的凹陷一一对应的凸起，且凸起的周边设有用于对转印板进行吸附的真空吸孔；安装于清洗槽内的摩擦清洗装置，摩擦清洗装置通过清洗辊与其产生相对运动以对转印板进行摩擦清洗；安装于机架的驱动装置，驱动装置用于使清洗辊与摩擦清洗装置之间产生相对运动。该设备可有效清除转印板上的凹陷内的PI液固化物，提高液晶显示面板的生产良率。

权利要求

1.一种转印板清洗设备，其特征在于，包括：

机架；

安装于所述机架的清洗槽，所述清洗槽用于容置清洗液；

枢装于所述机架的清洗辊，所述清洗辊的柱面的至少一部分位于所述清洗槽内、且所述清洗辊的柱面设有用于将卷绕于所述柱面上的转印板固定的转印板固定机构；所述清洗辊的柱面设置有与所述转印板上的凹陷一一对应的凸起，且所述凸起的周边设有用于对转印板进行吸附的真空吸孔，所述凸起用于在所述真空吸孔吸附转印板时在背离其凹陷的一侧将所述凹陷的底面沿朝向所述凹陷的开口方向顶起；

安装于所述清洗槽内的摩擦清洗装置，所述摩擦清洗装置用于与卷绕于所述清洗辊上的转印板接触，并通过所述清洗辊与其产生相对运动以对所述转印板进行摩擦清洗；

安装于所述机架的驱动装置，所述驱动装置与所述清洗辊传动连接，和/或，所述驱动装置与所述摩擦清洗装置传动连接，用于使所述清洗辊与所述摩擦清洗装置之间产生相对运动。

2.根据权利要求1所述的转印板清洗设备，其特征在于，所述摩擦清洗装置包括枢装于所述清洗槽内的摩擦辊，所述摩擦辊的柱面上设有用于对转印板进行摩擦清洗的刷毛。

3.根据权利要求2所述的转印板清洗设备，其特征在于，所述驱动装置为电机。

4.根据权利要求1所述的转印板清洗设备，其特征在于，所述摩擦清洗装置包括固定于所述清洗槽内的摩擦片，所述摩擦片上设有用于对转印板进行摩擦清洗的刷毛。

5.根据权利要求1所述的转印板清洗设备，其特征在于，还包括超声清洗装置，所述超声清洗装置包括设置于所述清洗槽底面的超声波换能器、和与所述超声波换能器电连接的超声波发生器。

6.根据权利要求1所述的转印板清洗设备，其特征在于，所述清洗槽设有用于检测清洗液中的杂质浓度的浓度检测装置。

7.根据权利要求1所述的转印板清洗设备，其特征在于，还包括安装于所述机架的用于容置所述清洗槽排出的清洗液的储液槽、和用于将所述储液槽内的清洗液泵入所述清洗槽内的上液泵。

8.根据权利要求7所述的转印板清洗设备，其特征在于，还包括用于过滤由所述储液槽泵入所述清洗槽内的清洗液的过滤装置。

9.根据权利要求1所述的转印板清洗设备，其特征在于，所述固定机构为固定夹。

10.一种转印板的清洗方法，其特征在于，包括：

将转印板卷绕并固定于清洗辊的柱面，并使转印板设有凹陷的一侧背离所述清洗辊的柱面；

通过设置于所述清洗辊的柱面的真空吸孔对转印板进行吸附，使设置于真空吸孔内的凸起将与其对应的凹陷在背离其凹陷的一侧将所述凹陷的底面沿朝向所述凹陷的开口方向顶起；

将转印板浸入清洗槽内的清洗液内，通过摩擦清洗装置和所述清洗辊之间的相对转动对转印板进行摩擦清洗。

11.根据权利要求10所述的转印板的清洗方法，其特征在于，所述通过摩擦清洗装置和所述清洗辊之间的相对运动对转印板进行摩擦清洗，包括：通过摩擦辊与所述清洗辊之间的相对转动对转印板进行摩擦清洗；或，通过摩擦片与所述清洗辊之间的相对运动对转印板进行摩擦清洗。

12.根据权利要求11所述的转印板的清洗方法，其特征在于，所述通过摩擦辊与所述清洗辊之间的相对转动对转印板进行摩擦清洗，包括：驱动所述摩擦辊转动以带动所述清洗辊转动对转印板进行摩擦清洗；或，驱动所述清洗辊转动以带动所述摩擦辊转动对转印板进行摩擦清洗；或，驱动所述清洗辊和所述摩擦辊同时相对转动对转印板进行摩擦清洗。

13.根据权利要求12所述的转印板的清洗方法，其特征在于，所述驱动所述清洗辊和所述摩擦辊同时相对转动进行摩擦清洗之后，还包括：驱动所述清洗辊转动以带动所述摩擦辊转动对转印板进行摩擦清洗，并采用去离子水进行清洗。

14.根据权利要求10所述的转印板的清洗方法，其特征在于，还包括：在通过摩擦清洗装置和所述清洗辊之间的相对转动对转印板进行摩擦清洗时，采用超声清洗装置对所述清洗液内的转印板进行超声振动，并根据转印板的凹陷的直径大小输出对应频率的超声波。

15.根据权利要求14所述的转印板的清洗方法，其特征在于，所述根据转印板的凹陷的直径大小输出对应频率的超声波，具体包括：在转印板上的凹陷的直径大于10μm时，输出40kHz的超声波；

在在转印板上的凹陷的直径小于等于10μm时，输出72kHz的超声波。

16.根据权利要求10所述的转印板的清洗方法，其特征在于，在所述通过摩擦清洗装置和所述清洗辊之间的相对转动对转印板进行摩擦清洗之后，还包括：通过浓度检测装置对所述清洗液进行杂质浓度检测；

在所述清洗液内的杂质浓度超过预设阈值时，更换所述清洗液。

说明书

一种转印板清洗设备及其清洗方法

技术领域

[0001] 本发明涉及清洁技术领域，特别涉及一种转印板清洗设备及其清洗方法。

背景技术

[0002] 在液晶显示面板的生产过程中，为实现液晶分子的取向，需要进行配向膜处理工艺，包括在阵列基板和彩膜基板的表面形成聚酰亚胺(PI，Polyimide)膜的印刷工艺、和在PI膜上进行摩擦(Rubbing)的配向工艺。

[0003] 印刷工艺中常采用取向层印刷机在阵列基板和彩膜基板上印刷PI膜，取向层印刷机中包括辊轮和包覆在辊轮的圆周面上的转印(Asahikasei Photosensitive Resin，APR)板，印刷过程中在转印板上涂覆PI液，并使包裹在辊轮上的转印板与玻璃基板(如阵列基板、彩膜基板)接触，通过辊轮在玻璃基板上的滚动使PI液涂布在玻璃基板上，形成PI膜。

[0004] 为使PI液在转印板上涂布均匀，转印板上设有网状排布的微小凹陷，凹陷可使PI液在转印板上分布更加均匀，提高PI膜的印刷品质。在印刷过程中，转印板长期接触PI液，其凹陷内残存的少量的PI液会产生固化，在印刷时会造成部分PI膜缺失，进而导致液晶面板不良，因此在PI膜的印刷过程中需对转印板进行清洗，以去除其凹陷内的PI液固化物。

[0005] 目前常用的转印板的清洗设备采用将转印板展开成平板状并浸入清洗液中进行超声清洗的清洗方法，该清洗方法的清洗效率较低，且不能有效去除转印板上的凹陷内的PI液固化物，导致PI膜的印刷品质下降，进而降低了液晶显示面板的生产良率。

发明内容

[0006] 本发明提供了一种转印板清洗设备及其清洗方法，该转印板清洗设备的清洗效率较高，可有效清除转印板上的凹陷内的PI液固化物，从而提高了PI膜的印刷品质，进而可提高液晶显示面板的生产良率。

[0007] 为实现上述目的，本发明提供如下的技术方案：

[0008] 一种转印板清洗设备，包括：

[0009] 机架；

[0010] 安装于所述机架的清洗槽，所述清洗槽用于容置清洗液；

[0011] 枢装于所述机架的清洗辊，所述清洗辊的柱面的至少一部分位于所述清洗槽内、且所述清洗辊的柱面设有用于将卷绕于所述柱面上的转印板固定的转印板固定机构；所述清洗辊的柱面设置有与所述转印板上的凹陷一一对应的凸起，且所述凸起的周边设有用于对转印板进行吸附的真空吸孔，所述凸起用于在所述真空吸孔吸附转印板时在背离其凹陷的一侧将所述凹陷的底面沿朝向所述凹陷的开口方向顶起；

[0012] 安装于所述清洗槽内的摩擦清洗装置，所述摩擦清洗装置用于与卷绕于所述清洗辊上的转印板接触，并通过所述清洗辊与其产生相对运动以对所述转印板进行摩擦清洗；

[0013] 安装于所述机架的驱动装置，所述驱动装置与所述清洗辊传动连接，和/或，所述驱动装置与所述摩擦清洗装置传动连接，用于使所述清洗辊与所述摩擦清洗装置之间产生相对运动。

[0014] 本发明提供的转印板清洗设备在进行转印板清洗过程中，将待清洗的转印板具有凹陷的一侧向外卷绕于清洗辊的柱面并进行固定，然后使真空吸孔对转印板背离其凹陷的一侧进行吸附，真空吸孔内的凸起将与其对应的凹陷的底面沿朝向凹陷的开口方向顶起，以使转印板上的凹陷展开，清洗槽内注入清洗液使清洗辊的柱面的至少一部分浸入清洗液内，并通过驱动装置使清洗辊转动以使转印板浸润清洗液，并使摩擦清洗装置与清洗辊之间产生相对运动，使得摩擦清洗装置与转印板之间进行摩擦，以对转印板进行清洗。

[0015] 该转印板清洗设备中，因转印板上的凹陷在清洗过程中已展开，可使凹陷中的PI液固化物露出，便于进行清洗，其清洗效率较高，且可有效清除转印板上的凹陷内的PI液固化物，从而提高了PI膜的印刷品质，进而可提高液晶显示面板的生产良率。

[0016] 优选地，所述摩擦清洗装置包括枢装于所述清洗槽内的摩擦辊，所述摩擦辊的柱面上设有用于对转印板进行摩擦清洗的刷毛。

[0017] 优选地，所述驱动装置为电机。

[0018] 优选地，所述摩擦清洗装置包括固定于所述清洗槽内的摩擦片，所述摩擦片上设有用于对转印板进行摩擦清洗的刷毛。

[0019] 优选地，还包括超声清洗装置，所述超声清洗装置包括设置于所述清洗槽底面的超声波换能器、和与所述超声波换能器电连接的超声波发生器。

[0020] 优选地，所述清洗槽设有用于检测清洗液中的杂质浓度的浓度检测装置。

[0021] 优选地，还包括安装于所述机架的用于容置所述清洗槽排出的清洗液的储液槽、和用于将所述储液槽内的清洗液泵入所述清洗槽内的上液泵。

[0022] 优选地，还包括用于过滤由所述储液槽泵入所述清洗槽内的清洗液的过滤装置。

[0023] 优选地，所述固定机构为固定夹。

[0024] 一种转印板的清洗方法，包括：

[0025] 将转印板卷绕并固定于清洗辊的柱面，并使转印板设有凹陷的一侧背离所述清洗辊的柱面；

[0026] 通过设置于所述清洗辊的柱面的真空吸孔对转印板进行吸附，使设置于真空吸孔内的凸起将与其对应的凹陷在背离其凹陷的一侧将所述凹陷的底面沿朝向所述凹陷的开口方向顶起；

[0027] 将转印板浸入清洗槽内的清洗液内，通过摩擦清洗装置和所述清洗辊之间的相对运动对转印板进行摩擦清洗。

[0028] 优选地，所述通过摩擦清洗装置和所述清洗辊之间的相对转动对转印板进行摩擦清洗，包括：

[0029] 通过摩擦辊与所述清洗辊之间的相对转动对转印板进行摩擦清洗；或，[0030] 通过摩擦片与所述清洗辊之间的相对运动对转印板进行摩擦清洗。

[0031] 优选地，所述通过摩擦辊与所述清洗辊之间的相对转动对转印板进行摩擦清洗，包括：

[0032] 驱动所述摩擦辊转动以带动所述清洗辊转动对转印板进行摩擦清洗；或，[0033] 驱动所述清洗辊转动以带动所述摩擦辊转动对转印板进行摩擦清洗；或，[0034] 驱动所述清洗辊和所述摩擦辊同时相对转动对转印板进行摩擦清洗。

[0035] 优选地，所述驱动所述清洗辊和所述摩擦辊同时相对转动进行摩擦清洗之后，还包括：

[0036] 驱动所述清洗辊转动以带动所述摩擦辊转动对转印板进行摩擦清洗，并采用去离子水进行清洗。

[0037] 优选地，还包括：

[0038] 在通过摩擦清洗装置和所述清洗辊之间的相对转动对转印板进行摩擦清洗时，采用超声清洗装置对所述清洗液内的转印板进行超声振动，并根据转印板的凹陷的直径大小输出对应频率的超声波。

[0039] 优选地，所述根据转印板的凹陷的直径大小输出对应频率的超声波，具体包括：

[0040] 在转印板上的凹陷的直径大于10μm时，输出40kHz的超声波；

[0041] 在转印板上的凹陷的直径小于等于10μm时，输出72kHz的超声波。

[0042] 优选地，在所述通过摩擦清洗装置和所述清洗辊之间的相对转动对转印板进行摩擦清洗之后，还包括：

[0043] 通过浓度检测装置对所述清洗液进行杂质浓度检测；

[0044] 在所述清洗液内的杂质的浓度超过预设阈值时，更换所述清洗液。

附图说明

[0045] 图1是本发明实施例一提供的转印板清洗设备的结构示意图；

[0046] 图2a是一种实现方式中的摩擦清洗装置的结构示意图；

[0047] 图2b是另一种实现方式中的摩擦清洗装置的结构示意图；

[0048] 图3是图2a和图2b中所示的A区域的局部放大图；

[0049] 图4是本发明实施例二提供的转印板清洗方法的流程图；

[0050] 图5是图4中步骤S103的一种优选方法的流程图。

[0051] 附图标记：

[0052] 100，转印板；101，凹陷；10，机架；20，清洗槽；

[0053] 21，排液口；30，清洗辊；31，固定夹；32，凸起；

[0054] 33，真空吸孔；40，摩擦清洗装置；41，摩擦辊；42，摩擦片；

[0055] 50，驱动装置；51、52，电机；60，超声清洗装置；61，超声波发生器；

[0056] 62，超声波换能器；70，储液槽；80，上液泵；81，第一管道；

[0057] 82，第二管道。

具体实施方式

[0058] 下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

[0059] 实施例一：

[0060] 如图1所示，本实施例中提供了一种转印板清洗设备，包括：

[0061] 机架10；

[0062] 安装于机架10的清洗槽20，清洗槽20用于容置清洗液；

[0063] 枢装于机架10的清洗辊30，清洗辊30的柱面的至少一部分位于清洗槽20内，参见图2a和图2b所示，清洗辊30的柱面设有用于将卷绕于柱面上的转印板100固定的转印板固定机构，优选地，参见图2a和图2b所示，固定机构为固定夹31，固定夹31可将转印板100的两端夹持以使其卷绕在清洗辊30的柱面上；优选地，清洗辊30的柱面直径大于与待清洗的转印板100相配套的印刷辊的直径，以使转印板100卷绕在清洗辊30的柱面上时被拉伸以使其上的凹陷101伸展；

[0064] 参见图3所示，清洗辊30的柱面设置有与转印板100上的凹陷101一一对应的凸起32，且凸起32的周边设有用于对转印板100进行吸附的真空吸孔33，凸起32用于在真空吸孔
33吸附转印板100时在背离其凹陷101的一侧将凹陷101的底面沿朝向凹陷101的开口方向顶起；

[0065] 安装于清洗槽20内的摩擦清洗装置40，摩擦清洗装置40用于与卷绕于清洗辊30上的转印板100接触，并通过清洗辊30与其产生相对运动以对转印板100进行摩擦清洗；

[0066] 安装于机架的驱动装置50，驱动装置50与清洗辊30传动连接，和/或，驱动装置50与摩擦清洗装置40传动连接，用于使清洗辊30与摩擦清洗装置40之间产生相对运动，优选地，如图1所示，驱动装置50包括与清洗辊30连接的电机51。

[0067] 本发明提供的转印板清洗设备在进行转印板清洗过程中，将待清洗的转印板100具有凹陷101的一侧向外卷绕于清洗辊30的柱面并进行固定，然后使真空吸孔33对转印板100背离其凹陷101的一侧进行吸附，真空吸孔33内的凸起32将与其对应的凹陷101的底面沿朝向凹陷101的开口方向顶起，以使转印板100上的凹陷101展开，清洗槽20内注入清洗液使清洗辊30的柱面的至少一部分浸入清洗液内，并通过驱动装置使清洗辊30转动以使转印板100浸润清洗液，并使摩擦清洗装置40与清洗辊30之间产生相对运动，使得摩擦清洗装置
40与转印板100之间进行摩擦，以对转印板100进行清洗。

[0068] 该转印板清洗设备中，因转印板100上的凹陷101在清洗过程中已展开，可使凹陷101中的PI液固化物露出，便于进行清洗，其清洗效率较高，且可有效清除转印板100上的凹陷101内的PI液固化物，从而提高了PI膜的印刷品质，进而可提高液晶显示面板的生产良率。

[0069] 在具体实施过程中，摩擦清洗装置40可采用如下两种方式实现：

[0070] 实现方式一，如图2a所示，摩擦清洗装置40包括枢装于清洗槽20内的摩擦辊41，为进一步提高清洗效果，摩擦辊41的柱面上设有用于对转印板100进行摩擦清洗的刷毛。

[0071] 在采用摩擦辊41对转印板100进行清洗时，优选地，驱动装置50还包括与摩擦辊41连接的电机52，电机52用于带动摩擦辊41转动，以增强清洗效果。

[0072] 摩擦辊41与清洗辊30之间的相对运动可采用如下方式：

[0073] 方式一，摩擦辊41主动，清洗辊30从动，以摩擦辊41带动清洗辊30转动；

[0074] 方式二，摩擦辊41从动，清洗辊30主动，以清洗辊30带动摩擦辊41转动；

[0075] 方式三，摩擦辊41和清洗辊30相对转动。

[0076] 实现方式二，如图2b所示，摩擦清洗装置40包括固定于清洗槽20内的摩擦片42，为进一步提高清洗效果，摩擦片42上设有用于对转印板100进行摩擦清洗的刷毛。

[0077] 如图1所示的一种优选方式中，为进一步提高清洗效果，本实施例提供的清洗设备还包括超声清洗装置60，超声清洗装置60包括设置于清洗槽20底面的超声波换能器62、和与超声波换能器62电连接的超声波发生器61。

[0078] 在转印板100的清洗过程中，可打开超声清洗装置60中的超声波发生器61，使超声波发生器61控制超声波换能器62向清洗槽20内发送超声波，以增强清洗效果。

[0079] 一种优选方式中，清洗槽20设有用于检测清洗液中的杂质浓度的浓度检测装置，浓度检测装置用于检测清洗液中的杂质的浓度，在检测到的杂质浓度超过可正常使用范围时，需更换清洗液，以保证清洗效果。

[0080] 如图1所示的一种优选方式中，清洗槽20设有用于排出清洗液的排液口21，本实施例提供的清洗设备还包括安装于机架10的用于容置从清洗槽20排出的清洗液的储液槽70、和用于将储液槽70内的清洗液泵入清洗槽20内的上液泵80，上液泵80包括与清洗槽20连通的第一管道81和与储液槽70连通的第二管道82。通过清洗槽20的排液口21排出的清洗液存储在储液槽70内，并通过上液泵80的带动，经过第一管道81由储液槽70泵出，并通过第二管道82再次进入清洗槽20，以实现清洗液的循环利用，具体实施过程中，清洗液的循环使用次数可根据所需的转印板100的清洁程度选择，在转印板100的清洁程度需求较高时，清洗液可只使用一次；优选地，为减少再利用的清洗液内的杂质，本实施例提供的清洗设备还包括用于过滤由储液槽70泵入清洗槽20内的清洗液的过滤装置(图中未示出)。

[0081] 优选地，上述的浓度检测装置设置在排液口21位置处并用于检测排出的清洗液中的杂质的浓度，当检测到的杂质浓度未超过可正常使用范围时，可将储液槽70内的清洗液泵入清洗槽20内继续使用；在检测到的杂质浓度超过可正常使用范围，需更换清洗液；该过程可采用自动控制实现，浓度检测装置可与一控制装置连接，并将检测到的清洗液中的杂质的浓度信号发送至控制装置，控制装置接收到浓度信号后与预设的浓度阈值进行对比，当杂质浓度超出预设的浓度阈值时，控制装置生产清洗液更换信号，以进行清洗液的更换；清洗液的更换过程同样可以通过自动控制实现，可采用在清洗槽20的排液口设置自动阀以接收清洗液更换信号并打开阀门排出清洗液，同时，可再设置一清洗液补充槽，内设未使用的清洗液，同样采用自动阀控制，在清洗槽20内的清洗液排出后，控制补充槽的自动阀打开，以向清洗槽20内补充清洗液。

[0082] 实施例二：

[0083] 本发明还提供了一种转印板的清洗方法，如图4所示，包括：

[0084] 步骤S101，将转印板卷绕并固定于清洗辊的柱面，并使转印板设有凹陷的一侧背离清洗辊的柱面；

[0085] 步骤S102，通过设置于清洗辊的柱面的真空吸孔对转印板进行吸附，使设置于真空吸孔内的凸起将与其对应的凹陷在背离其凹陷的一侧将凹陷的底面沿朝向凹陷的开口方向顶起；

[0086] 步骤S103，将转印板浸入清洗槽内的清洗液内，通过摩擦清洗装置和清洗辊之间的相对转动对转印板进行摩擦清洗。

[0087] 本实施例提供的转印板清洗方法在进行转印板清洗过程中，将待清洗的转印板具有凹陷的一侧向外卷绕于清洗辊的柱面并进行固定，然后使真空吸孔对转印板背离其凹陷的一侧进行吸附，真空吸孔内的凸起将与其对应的凹陷的底面沿朝向凹陷的开口方向顶起，以使转印板上的凹陷展开，清洗槽内注入清洗液使清洗辊的柱面的至少一部分浸入清洗液内，并通过驱动装置使清洗辊转动以使转印板浸润清洗液，并使摩擦清洗装置与清洗辊之间产生相对运动，使得摩擦清洗装置与转印板之间进行摩擦，以对转印板进行清洗。

[0088] 该转印板清洗方法中，因转印板上的凹陷在清洗过程中已展开，可使凹陷中的PI液固化物露出，便于进行清洗，其清洗效率较高，且可有效清除转印板上的凹陷内的PI液固化物，从而提高了PI膜的印刷品质，进而可提高液晶显示面板的生产良率。

[0089] 一种优选方式中，步骤S103中通过摩擦清洗装置和清洗辊之间的相对运动对转印板进行摩擦清洗，包括：

[0090] 通过摩擦辊与清洗辊之间的相对转动对转印板进行摩擦清洗；或，[0091] 通过摩擦片与清洗辊之间的相对运动对转印板进行摩擦清洗。

[0092] 一种优选方式中，通过摩擦辊与清洗辊之间的相对转动对转印板进行摩擦清洗，包括：

[0093] 驱动摩擦辊转动以带动清洗辊转动对转印板进行摩擦清洗；或，[0094] 驱动清洗辊转动以带动摩擦辊转动对转印板进行摩擦清洗；或，[0095] 驱动清洗辊和摩擦辊同时相对转动对转印板进行摩擦清洗。

[0096] 一种优选方式中，驱动清洗辊和摩擦辊同时相对转动进行摩擦清洗之后，还包括：

[0097] 驱动清洗辊转动以带动摩擦辊转动对转印板进行摩擦清洗，并采用去离子水替代清洗液进行清洗。

[0098] 在具体实施过程中，步骤S103中通过摩擦清洗装置和清洗辊之间的相对运动对转印板进行摩擦清洗，优选地采用如图5所示的步骤：

[0099] 步骤S1031，驱动清洗辊和摩擦辊同时相对转动对转印板进行摩擦清洗。该步骤中的清洗辊与摩擦辊之间的摩擦力较大，可提高清洁效率；

[0100] 步骤S1032，驱动清洗辊转动以带动摩擦辊转动对转印板进行摩擦清洗，并采用去离子水替代清洗液进行清洗。该步骤中清洗辊与摩擦辊之间的摩擦力较小，且采用去离子水清洗，可清洗掉转印板上残留的清洗液和上一步骤中因摩擦产生的PI液固化物。

[0101] 如图4所示的一种优选方式中，本实施例提供的清洗方法还包括：

[0102] 步骤S104，在通过摩擦清洗装置和清洗辊之间的相对转动对转印板进行摩擦清洗时，采用超声清洗装置对清洗液内的转印板进行超声振动，并根据转印板的凹陷的直径大小输出对应频率的超声波。

[0103] 该步骤可通过超声清洗进一步提高对转印板的清洁效果。

[0104] 优选地，根据转印板的凹陷的直径大小输出对应频率的超声波，具体包括：

[0105] 在转印板上的凹陷的直径大于10μm时，输出40kHz的超声波；

[0106] 在转印板上的凹陷的直径小于等于10μm时，输出72kHz的超声波。

[0107] 针对转印板的凹陷的直径大小输出对应频率的超声波，可提高超声清洗的效率，增强对转印板的清洁效果。

[0108] 如图5所示的一种优选方式中，在通过摩擦清洗装置和清洗辊之间的相对转动对转印板进行摩擦清洗之后，还包括：

[0109] 步骤S105，通过浓度检测装置对清洗液进行杂质浓度检测；

[0110] 步骤S106，判断清洗液内的杂质的浓度是否超过预设阈值；

[0111] 步骤S107，在清洗液内的杂质的浓度超过预设阈值时，更换清洗液。

[0112] 步骤S105-S107可检测清洗液中的杂质的浓度，以改善在清洗液中的杂质浓度超过正常使用范围后造成的清洁效果下降的问题。

[0113] 显然，本领域的技术人员可以对本发明实施例进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。