用于从气流中除去气态单质汞的方法和装置

摘要

本发明涉及一种从气流中除去气态单质汞的方法和装置和涉及进行该方法的装置。该装置包括用于接收气流的第一清洗塔(2)，用于接收来自于第一清洗塔(2)的经一次加工的气流(5)的第二清洗塔(6)，和用于接收来自于第二清洗塔(6)的经两次加工的气流(23)和配置以排出经清洁的气流(12)的第三清洗塔(9)。

权利要求

1.用于从气流中除去气态单质汞的方法，其中所述方法包括：

(i)将所述气流(1)供入第一清洗塔(2)中，

(ii)用第一清洗溶液(3)在第一清洗塔(2)中处理所述气流(1)，以形成气流(1)的经一次加工的气流(5)，所述第一清洗溶液(3)在第一封闭系统(4)中循环通过第一清洗塔(2)并且包含汞(II)离子，(iii)将经一次加工的气流(5)从第一清洗塔(2)供入第二清洗塔(6)，(iv)用第二清洗溶液(7)在第二清洗塔(6)中处理经一次加工的气流(5)，形成经一次加工的气流(5)的经两次加工的气流(23)，所述第二清洗溶液(7)在第二封闭系统(8)中循环通过第二清洗塔(6)并且其包含的汞(II)离子浓度高于第一清洗溶液(3)，(v)将经两次加工的气流(23)从第二清洗塔(6)供入第三清洗塔(9)，(vi)用第三清洗溶液(10)在第三清洗塔(9)中处理经两次加工的气流(23)，来形成经两次加工的气流(23)的经清洁的气流(12)，所述第三清洗溶液在第三封闭系统(11)中循环通过第三清洗塔(9)并且其包含的汞(II)离子浓度低于第一清洗溶液(3)，和(vii)从第三清洗塔(9)排出经清洁的气流(12)。

2.根据权利要求1的方法，特征在于将含有汞(II)离子的另外的清洗溶液(13)从槽装置(14)供入在第一封闭系统(4)中循环的第一清洗溶液(3)中。

3.根据权利要求1或2的方法，特征在于从在第一封闭系统(4)中循环的第一清洗溶液(3)中除去甘汞(15)。

4.根据权利要求1或2的方法，特征在于将在第二封闭系统(8)中循环的第二清洗溶液(7)的一部分(16)供入在第一封闭系统(4)中循环的第一清洗溶液(3)，以从所述第二清洗溶液(7)中除去甘汞。

5.根据权利要求1或2的方法，特征在于将含有汞(II)离子的另外的清洗溶液(13)从槽装置(14)供入在第二封闭系统(8)中循环的第二清洗溶液(7)中。

6.根据权利要求1或2的方法，特征在于将经清洁的气流(12)带至过滤器(33)用于吸收任何剩余的气态单质汞。

7.根据权利要求1或2的方法，特征在于依靠主动过滤器(34)从在第三封闭系统(11)中循环的第三清洗溶液(10)中除去汞。

8.根据权利要求1或2的方法，特征在于使用具有如下的汞(II)离子含量的第一清洗溶液(3)：0.1g/L-2g/L。

9.根据权利要求1或2的方法，特征在于使用具有如下的汞(II)离子含量的第一清洗溶液(3)：0.2g/L-1.5g/L。

10.根据权利要求1或2的方法，特征在于使用具有如下的汞(II)离子含量的第一清洗溶液(3)：0.3g/L-1g/L。

11.根据权利要求1或2的方法，特征在于使用另外含有一定量的选自如下的离子的第一清洗溶液(3)：氯、溴、碘、氰根和硫氰根离子，其所述离子的量至少是汞(II)离子量的两倍。

12.根据权利要求1或2的方法，特征在于使用具有如下的汞(II)离子含量的第二清洗溶液(7)：大于3.0g/L。

13.根据权利要求1或2的方法，特征在于使用具有如下的汞(II)离子含量的第二清洗溶液(7)：大于2g/L。

14.根据权利要求1或2的方法，特征在于使用具有如下的汞(II)离子含量的第二清洗溶液(7)：大于1.5g/L。

15.根据权利要求1或2的方法，特征在于使用另外含有一定量的选自如下的离子的第二清洗溶液(7)：氯、溴、碘、氰根和硫氰根离子，其所述离子的量至少是汞(II)离子量的两倍。

16.根据权利要求1或2的方法，特征在于使用具有如下的汞(II)离子含量的第三清洗溶液(10)：小于0.3g/L。

17.根据权利要求1或2的方法，特征在于使用具有如下的汞(II)离子含量的第三清洗溶液(10)：小于0.2g/L。

18.根据权利要求1或2的方法，特征在于使用具有如下的汞(II)离子含量的第三清洗溶液(10)：小于0.1g/L。

19.根据权利要求1或2的方法，特征在于使用另外含有一定量的选自如下的离子的第三清洗溶液(10)：氯、溴、碘、氰根和硫氰根离子，所述离子的量至少是汞(II)离子量的两倍。

说明书

用于从气流中除去气态单质汞的方法和装置

发明领域

[0001] 本发明涉及独立权利要求1的前序部分所定义的从气流中除去气态单质汞的方法。

[0002] 本发明还涉及独立权利要求14的前序部分所定义的从气流中除去气态单质汞的装置。

[0003] 本发明还涉及进行权利要求27所定义的方法的装置。

[0004] 对于在硫化物矿山煅烧中所产生的气体所产生的硫化物酸中低的汞含量的需求已经增加。在过去，酸中1mg/kg的汞含量被认为是令人满意的，但是现在，低于0.2mg/kg的汞含量逐渐变成更经常的需要。所以，重要的是开发气体清洁方法和装置，用于从硫化物矿山煅烧所产生的气体中除去和回收汞，其满足目前的需求。但是，所提出的方法和装置还可以用于从其他气体中除去和回收汞。

[0005] 在冶金领域中，一种从气体中除去汞的方法被称作“Boliden-Norzink方法”。这种方法的实施方案描述在例如公开文献US3849537，US4233274和US4640751中。

[0006] 公开文献US4233274提出了一种从含有气态单质汞的气体中萃取汞的方法，其包括在闭路中，用含有0.1-300mmol/L汞(II)离子的水溶液处理所述气体，并且至少两倍于该离子含量能够与汞(II)离子形成可溶性络合物，其后回收溶液中所吸收的汞，并且将该溶液再循环。

[0007] 通过在Boliden-Norzink方法之后加入硒过滤器，汞含量可以降低到较低的值。

[0008] 公开文献US3786619提出了一种净化含有气态汞的气体的方法。将含汞的气体送过大量净化材料，该净化材料含有作为活性成分的组成为硒，硫化硒或者其他硒化合物或者其混合物的材料。

[0009] 公开文献US2003/099585提出了一种基本上完全消除了气体例如含有SO2的煅烧炉气体中残留的痕量汞的方法，并且其已经在氯化物清洗机中处理来除去单质Hg，特征在于将该气体引入洗涤器设备中，在这里将其用清洗溶液清洗，以使得气体中任何含量的气态HgCl2被清洗溶液吸收，该气体在洗涤器中经历了紊流和机械作用，来将粒子或小滴中存在的任何Hg，HgCl2和Hg2Cl2和Hg的其他化合物物理混合在一起，形成更大的聚集体或者团块，并且将因此形成的聚集体或者团块和存在的较大的粒子与所述气体分离，然后收集和除去。所处理的气体可以带到具有硒作为活性化合物的过滤器，来吸收任何剩余的气态单质Hg。

[0010] 但是，硒的价格近年来显著上升。这使得硒过滤器是昂贵的选择，因为过滤器物质必须定期进行更换。

[0011] 公开文献GB2098186提出了从带有SO2的气体中除去Hg。

[0012] 发明目标

[0013] 本发明的目标是提供一种有效的方法和装置，用于从气流中除去气态单质汞。

[0014] 发明概述

[0015] 本发明的方法特征在于独立权利要求1的定义。

[0016] 该方法优选的实施方案是从属权利要求2-13所定义的。

[0017] 本发明的装置相应的特征在于独立权利要求14的定义。

[0018] 该装置优选的实施方案是从属权利要求15-26定义的。

[0019] 用于进行本发明方法的装置相应的特征在于权利要求27的定义。

[0020] 进行所述方法的装置优选的实施方案是从属权利要求28-39定义的。

[0021] 本发明基于现有的Boliden Norzink方法，但是提供了一种用于洗涤领域的改进的方法和装置。

[0022] 该方法和装置使得所述方法中形成甘汞蒸气的风险最小化。

[0023] 该方法和装置提供了有效除去汞，而无需使用过滤器例如含硒过滤器。

[0024] 附图列表

[0025] 在下面，本发明将参考附图来更详细地描述，在其中

[0026] 图1是所述装置第一实施方案的图示，

[0027] 图2是所述装置第二实施方案的图示，

[0028] 图3是所述装置第三实施方案的图示，

[0029] 图4是所述装置第四实施方案的图示，

[0030] 图5是所述装置第五实施方案的图示，和

[0031] 图6是所述装置第六实施方案的图示。

具体实施方式

[0032] 所述图显示了从气流中除去气态单质汞的方法和装置的例子。

[0033] 首先，将更详细地描述从气流中除去气态单质汞(Hg0(g))的方法以及该方法的一些优选的实施方案和变体。

[0034] 该方法包括将气流1供入第一清洗塔2。

[0035] 该方法包括用第一清洗溶液3在第一清洗塔2中处理气流1来形成气流1的经一次加工的气流5，该第一清洗溶液3在第一封闭系统4中循环通过第一清洗塔2，并且其包含汞(II)离子和可能另外的至少是这个量的两倍的选自氯，溴，碘，氰根和硫氰根离子的离子。

[0036] 在第一清洗塔2中进行的方法的该第一阶段中，除去了所述气体中大部分的汞蒸气(Hg°)。第一清洗溶液3中汞(II)离子(Hg2+)含量可以低于对于所谓的Boliden-Norzink方法通常推荐的最小含量大约1-大约2g/L，例如小于大约1.5g/L，但是可以高于大约0.1-大约0.3g/L的某些最小含量，例如大于大约0.2g/L。这将降低在气体中形成氯化汞(Hg2Cl2)雾气或者甘汞雾气的风险。

[0037] 在第一清洗塔2中进行的所述方法的该第一清洗阶段中的主反应如下：

[0038] Hg0(g)+HgCln-(2+n)->Hg2Cl2(s)+n Cl-，其中0≤n≤2

[0039] 该方法包括将经一次加工的气流5从第一清洗塔2供入第二清洗塔6。

[0040] 该方法包括将经一次加工的气流5在第二清洗塔6中用第二清洗溶液7处理，来形成经一次加工的气流5的经两次加工的气流23，该第二清洗溶液7在第二封闭系统8中循环通过第二清洗塔6，并且其包含汞(II)离子的浓度高于第一清洗溶液3，例如大于大约1-大约2g/L，例如大于大约1.5g/L的汞(II)离子，和可能的另外至少这个量的两倍的选自氯，溴，碘，氰根和硫氰根离子的离子。

[0041] 在该方法的该第二阶段，汞蒸气(Hg0)的量将降低到非常低的值。

[0042] 在第二清洗塔中进行的所述方法的该第二清洗阶段的主反应如下：

[0043] Hg0(g)+HgCln-(2+n)->Hg2Cl2(s)+n Cl-，其中0≤n≤2

[0044] 该方法包括将经两次加工的气流23从第二清洗塔6供入第三清洗塔9。

[0045] 该方法包括将经两次加工的气流23在第三清洗塔9中用第三清洗溶液10处理，来形成经两次加工的气流(23)的经清洁的气流(12)，该第三清洗溶液10在第三封闭系统11中循环通过第三清洗塔9，并且包含汞(II)离子浓度低于第一清洗溶液3，例如低于大约0.1-大约0.3g/L，例如小于大约0.2g/L的汞(II)离子，和可能另外至少这个量的两倍的选自氯，溴，碘，氰根和硫氰根离子的离子。

[0046] 在第三清洗塔9中进行的所述方法的这个第三阶段中，将第二清洗塔6中形成的氯化汞(Hg2Cl2)蒸气从所述气体中除去。重要地是避免将Hg2+还原成Hg0，并且这可以通过仔细控制第三清洗溶液10中的Hg浓度来实现，其不允许超过大约10mg/L的某个最大含量。

[0047] 在第三清洗塔9中进行的所述方法的该第三清洗阶段的主反应如下：

[0048] HgCl2(g)+H20->HgCl2(a)

[0049] 该方法包括将经清洁的气流12从第三清洗塔9中排出。

[0050] 该方法可以包括将含有汞(II)离子的另外的清洗溶液13从槽装置14供入在第一封闭系统4中循环的第一清洗溶液3中。

[0051] 该方法可以包括从在第一封闭系统4中循环的第一清洗溶液3中除去甘汞15。

[0052] 该方法可以包括将在第二封闭系统8中循环的第二清洗溶液7的一部分16从第二封闭系统8供入在第一封闭系统4中循环的第一清洗溶液3。

[0053] 该方法可以包括将含有汞(II)离子的另外的清洗溶液13从槽装置14供入在第二封闭系统8中循环的第二清洗溶液7中。

[0054] 该方法可以包括从在第三封闭系统11中循环的第三清洗溶液10中滤出汞。

[0055] 该方法可以包括将在第三封闭系统11中循环的第三清洗溶液21供给至加工步骤(图中未示出)，其是在本文所述的方法之前进行的。通过这样的供给，第三清洗溶液21的量将降低，并且将更容易保持该第三清洗溶液21的最佳化学组成。

[0056] 在所述方法的一种实施方案中，例如在图4-6所示的实施方案中，该方法包括提供第一清洗塔2，其包括第一入口(未用附图标记进行标记)，用于将气流1导入第一清洗塔2，第一出口(未用附图标记进行标记)，用于将经一次加工的气流5从第一清洗塔2导出，第一填料体24，第一喷嘴25，用于将第一清洗溶液3注入到第一填料体24上，和第一小滴分离器26，用于防止第一清洗溶液3被离开第一清洗塔2的经一次加工的气流5所夹带。在这个实施方案中，第一清洗溶液3是在第一清洗塔2的底部(未用附图标记进行标记)收集的，并且第一清洗溶液3由此在第一封闭系统4中循环。

[0057] 在所述方法的一种实施方案中，例如在图4-6所示的实施方案中，所述方法包括提供第二清洗塔6，其包括第二入口(未用附图标记进行标记)，用于将经一次加工的气流5导入第二清洗塔6，第二出口(未用附图标记进行标记)，用于将经两次加工的气流23从第二清洗塔6中导出，第二填料体27，第二喷嘴28，用于将第二清洗溶液7注入到第二填料体27上，和第二小滴分离器29，用于防止第二清洗溶液7被离开第二清洗塔6的经两次加工的气流23所夹带。在这种实施方案中，第二清洗溶液7是在第二清洗塔6的底部(未用附图标记进行标记)收集的，并且第二清洗溶液7由此在第二封闭系统8中循环。

[0058] 在所述方法的一种实施方案中，例如图4-6所示的实施方案中，所述方法包括提供第三清洗塔9，其包括第三入口(未用附图标记进行标记)，用于将经两次加工的气流23导入第三清洗塔9中，第三出口(未用附图标记进行标记)，用于将经清洁的气流12从第三清洗塔9导出，第三填料体30，第三喷嘴31，用于将第三清洗溶液10注入到第三填料体30上，和第三小滴分离器32，用于防止第三清洗溶液10被离开第三清洗塔9的经清洁的气流12所夹带。在这个实施方案中，第三清洗溶液10是在第三清洗塔9底部(未用附图标记进行标记)收集的，并且第三清洗溶液10由此在第三封闭系统11中循环。

[0059] 在该方法中，该经清洁的气体12可以带至过滤器33，用于吸收任何剩余的气态单质汞。可以例如使用含有硒和/或碳的过滤器33。

[0060] 该方法可以包括依靠主动过滤器(active filter)34，从在第三封闭系统11中循环的第三清洗溶液10中除去汞。

[0061] 下面将更详细地描述用于从气流中除去气态单质汞(Hg0(g))的装置和该装置的一些优选的实施方案和变体。

[0062] 该装置包括第一清洗塔2，用于接收气流1。

[0063] 配置第一清洗塔2来用第一清洗溶液3处理气流1，第一清洗溶液3在第一封闭系统4中循环通过第一清洗塔2且包含汞(II)离子和可能的另外至少这个量两倍的选自氯，溴，碘，氰根和硫氰根离子的离子。第一清洗溶液3中汞(II)离子(Hg2+)含量可以低于对所谓的Boliden-Norzink方法通常推荐的最小含量大约1-大约2g/L，例如小于大约1.5g/L，但是可以高于大约0.1-大约0.3g/L的某一最小含量，例如大于大约0.2g/L。这将降低在气体中形成氯化汞(Hg2Cl2)雾气或者甘汞雾气的风险。

[0064] 在该第一清洗阶段中的主反应如下：

[0065] Hg0(g)+HgCln-(2+n)->Hg2Cl2(s)+n Cl-，其中0≤n≤2

[0066] 该装置包括第二清洗塔6，用于接收来自于第一清洗塔2的经一次加工的气流5。

[0067] 配置第二清洗塔6来将经一次加工的气流5用第二清洗溶液7处理，该第二清洗溶液7在第二封闭系统8中循环通过第二清洗塔6，并且其包含汞(II)离子的浓度高于第一清洗溶液3，例如大于大约1-大约2g/L，例如大于大约1.5g/L的汞(II)离子，和其包含可能的另外至少这个量的两倍的选自氯，溴，碘，氰根和硫氰根离子的离子。

[0068] 在该第二清洗阶段的主反应如下：

[0069] Hg0(g)+HgCln-(2+n)->Hg2Cl2(s)+n Cl-，其中0≤n≤2

[0070] 该装置包括第三清洗塔9，用于接收第二清洗塔6中的经两次加工的气流23。

[0071] 配置该第三清洗塔9来将经两次加工的气流23用第三清洗溶液10处理，该第三清洗溶液10在第三封闭系统11中循环通过第三清洗塔9，并且包含汞(II)离子浓度低于第一清洗溶液3，例如低于大约0.1-大约0.3g/L，例如小于大约0.2g/L的汞(II)离子，和其包含可能另外至少这个量的两倍的选自氯，溴，碘，氰根和硫氰根离子的离子。

[0072] 在该第三清洗阶段的主反应如下：

[0073] HgCl2(g)+H20->HgCl2(a)

[0074] 配置第二清洗塔6来将经清洁的气流12从第三清洗塔9排出。

[0075] 该装置可以包括第一供给装置17，用于将含有汞(II)离子的另外的清洗溶液13从槽装置14供入在第一封闭系统4中循环的第一清洗溶液3。

[0076] 该装置可以包括第一除去装置18，用于从在第一封闭系统4中循环的第一清洗溶液3中除去甘汞15。

[0077] 该装置可以包括第二供给装置19，用于将在第二封闭系统8中循环的第二清洗溶液7的一部分16供入在第一封闭系统4中循环的第一清洗溶液3中。

[0078] 该装置可以包括第三供给装置20，用于将含有汞(II)离子的另外的清洗溶液13从槽装置14供入在第二封闭系统8中循环的第二清洗溶液7。

[0079] 该装置可以包括第四供给装置22，用于将在第三封闭系统11中循环的第三清洗溶液21供入在本文所述方法之前进行的加工步骤(图中未示出)。通过这样的供给，第三清洗溶液21的量将降低，并且将更容易保持第三清洗溶液21的最佳化学组成。

[0080] 在该装置的一种实施方案中，例如在图4-6所示的实施方案中，第一清洗塔2包括第一入口(未用附图标记进行标记)，用于将气流1导入第一清洗塔2，第一出口(未用附图标记进行标记)，用于将经一次加工的气流5从第一清洗塔2导出，第一填料体24，第一喷嘴25，用于将第一清洗溶液3注入到第一填料体24上，和第一小滴分离器26，用于防止第一清洗溶液3被离开第一清洗塔2的经一次加工的气流5所夹带。在这个实施方案中，配置第一清洗溶液3来在第一清洗塔2的底部(未用附图标记进行标记)收集，且第一清洗溶液3由此配置来在第一封闭系统4中循环。

[0081] 在所述装置的一种实施方案中，例如在图4-6所示的实施方案中，第二清洗塔6包括第二入口(未用附图标记进行标记)，用于将经一次加工的气流5导入第二清洗塔6，第二出口(未用附图标记进行标记)，用于将经两次加工的气流23从第二清洗塔6导出，第二填料体27，第二喷嘴28，用于将第二清洗溶液7注入到第二填料体27上，和第二小滴分离器29，用于防止第二清洗溶液7被离开第二清洗塔6的经两次加工的气流23所夹带。在这种实施方案中，配置第二清洗溶液7来在第二清洗塔6底部(未用附图标记进行标记)收集，并且第二清洗溶液7由此配置来在第二封闭系统8中循环。

[0082] 在所述装置的一种实施方案中，例如在图4-6所示的实施方案中，第三清洗塔9包括第三入口(未用附图标记进行标记)，用于将经两次加工的气流23导入第三清洗塔9，第三出口(未用附图标记进行标记)，用于将经清洁的气流12从第三清洗塔9导出，第三填料体30，第三喷嘴31，用于将第三清洗溶液10注入到第三填料体30上，和第三小滴分离器32，用于防止第三清洗溶液10被离开第三清洗塔9的经清洁的气流12所夹带。在这种实施方案中，配置第三清洗溶液10来在第三清洗塔9底部(未用附图标记进行标记)收集，并且第三清洗溶液10由此配置来在第三封闭系统11中循环。

[0083] 该装置可以包括过滤器33，用于吸收经清洁的气体12中任何剩余的气态单质汞。过滤器33可以包含硒和/或碳。

[0084] 第三封闭系统11可以具有主动过滤器34，来从在第三封闭系统11中循环的第三清洗溶液10中除去汞。

[0085] 图6所示装置的第一封闭系统4还包括第一泵35，用于将第一清洗溶液3在第一封闭系统4中循环。

[0086] 图6所示装置的第二封闭系统8还包括第二泵36，用于将第二清洗溶液7在第二封闭系统8中循环。

[0087] 图6所示装置的第三封闭系统11还包括第三泵37，用于将第三清洗溶液10在第三封闭系统11中循环。

[0088] 接下来将更详细地描述用于进行从气流中除去气态单质汞的方法的装置以及进行所述方法的装置的一些优选的实施方案和变体。

[0089] 进行所述方法的装置包括第一清洗塔2，用于接收气流1。

[0090] 配置第一清洗塔2来用第一清洗溶液3处理气流1，第一清洗溶液3在第一封闭系统4中循环通过第一清洗塔2且包含汞(II)离子和可能的另外至少这个量两倍的选自氯，溴，
2+
碘，氰根和硫氰根离子的离子。第一清洗溶液3中汞(II)离子(Hg )含量可以低于对所谓的Boliden-Norzink方法通常推荐的最小含量大约1-大约2g/L，例如小于大约1.5g/L，但是可以高于大约0.1-大约0.3g/L的某一最小含量，例如大于大约0.2g/L。这将降低在气体中形成氯化汞(Hg2Cl2)雾气或者甘汞雾气的风险。

[0091] 在这个第一清洗阶段中的主反应如下：

[0092] Hg0(g)+HgCln-(2+n)->Hg2Cl2(s)+n Cl-，其中0≤n≤2

[0093] 进行所述方法的装置包括第二清洗塔6，用于接收来自于第一清洗塔2的经一次加工的气流5。

[0094] 配置第二清洗塔6来将经一次加工的气流5用第二清洗溶液7处理，该第二清洗溶液7在第二封闭系统8中循环通过第二清洗塔6，并且其包含的汞(II)离子的浓度高于第一清洗溶液3，例如大于大约1-大约2g/L，例如大于大约1.5g/L的汞(II)离子，和其含有可能的另外至少这个量的两倍的选自氯，溴，碘，氰根和硫氰根离子的离子。

[0095] 在该第二清洗阶段的主反应如下：

[0096] Hg0(g)+HgCln-(2+n)->Hg2Cl2(s)+n Cl-，其中0≤n≤2

[0097] 进行所述方法的装置包括第三清洗塔9，用于接收第二清洗塔6中的经两次加工的气流23。

[0098] 配置该第三清洗塔9来将经两次加工的气流23用第三清洗溶液10处理，该第三清洗溶液10在第三封闭系统11中循环通过第三清洗塔9，并且其包含的汞(II)离子浓度低于第一清洗溶液3，例如低于大约0.1-大约0.3g/L，例如小于大约0.2g/L的汞(II)离子，和其含有可能另外至少这个量的两倍的选自氯，溴，碘，氰根和硫氰根离子的离子。

[0099] 在该第三清洗阶段的主反应如下：

[0100] HgCl2(g)+H20->HgCl2(a)

[0101] 配置第二清洗塔6来将经清洁的气流12从第三清洗塔9排出。

[0102] 进行所述方法的装置可以包括第一供给装置17，用于将含有汞(II)离子的另外的清洗溶液13从槽装置14供入在第一封闭系统4中循环的第一清洗溶液3。

[0103] 进行所述方法的装置可以包括第一除去装置18，用于从在第一封闭系统4中循环的第一清洗溶液3中除去甘汞15。

[0104] 进行所述方法的装置可以包括第二供给装置19，用于将在第二封闭系统8中循环的第二清洗溶液7的一部分16供入在第一封闭系统4中循环的第一清洗溶液3中。

[0105] 进行所述方法的装置可以包括第三供给装置20，用于将含有汞(II)离子的另外的清洗溶液13从槽装置14供入在第二封闭系统8中循环的第二清洗溶液7。

[0106] 进行所述方法的装置可以包括第四供给装置22，用于将在第三封闭系统11中循环的第三清洗溶液21供入在本文所述方法之前进行的加工步骤(图中未示出)。通过这样的供给，第三清洗溶液21的量将降低，并且将更容易保持第三清洗溶液21的最佳化学组成。

[0107] 在进行所述方法的装置的一种实施方案中，例如在图4-6所示的实施方案中，第一清洗塔2包括第一入口(未用附图标记进行标记)，用于将气流1导入第一清洗塔2，第一出口(未用附图标记进行标记)，用于将经一次加工的气流5从第一清洗塔2导出，第一填料体24，第一喷嘴25，用于将第一清洗溶液3注入到第一填料体24上，和第一小滴分离器26，用于防止第一清洗溶液3被离开第一清洗塔2的经一次加工的气流5所夹带。在这个实施方案中，配置第一清洗溶液3来在第一清洗塔2的底部(未用附图标记进行标记)收集，和第一清洗溶液3由此配置来在第一封闭系统4中循环。

[0108] 在进行所述方法的装置的一种实施方案中，例如在图4-6所示的实施方案中，第二清洗塔6包括第二入口(未用附图标记进行标记)，用于将经一次加工的气流5导入第二清洗塔6，第二出口(未用附图标记进行标记)，用于将经两次加工的气流23从第二清洗塔6导出，第二填料体27，第二喷嘴28，用于将第二清洗溶液7注入到第二填料体27上，和第二小滴分离器29，用于防止第二清洗溶液7被离开第二清洗塔6的经两次加工的气流23所夹带。在这种实施方案中，配置第二清洗溶液7来在第二清洗塔6底部(未用附图标记进行标记)收集，并且第二清洗溶液7由此配置来在第二封闭系统8中循环。

[0109] 在进行所述方法的装置的一种实施方案中，例如在图4-6所示的实施方案中，第三清洗塔9包括第三入口(未用附图标记进行标记)，用于将经两次加工的气流23导入第三清洗塔9，第三出口(未用附图标记进行标记)，用于将经清洁的气流12从第三清洗塔9导出，第三填料体30，第三喷嘴31，用于将第三清洗溶液10注入到第三填料体30上，和第三小滴分离器32，用于防止第三清洗溶液10被离开第三清洗塔9的经清洁的气流12所夹带。在这种实施方案中，配置第三清洗溶液10来在第三清洗塔9底部(未用附图标记进行标记)收集，并且第三清洗溶液10由此配置来在第三封闭系统11中循环。

[0110] 进行所述方法的装置可以包括过滤器33，用于吸收经清洁的气体12中任何剩余的气态单质汞。过滤器33可以包含硒和/或碳。

[0111] 第三封闭系统11可以具有主动过滤器34，来从在第三封闭系统11中循环的第三清洗溶液10中除去汞。

[0112] 图6所示的进行所述方法的装置的第一封闭系统4还包括第一泵35，用于将第一清洗溶液3在第一封闭系统4中循环。

[0113] 图6所示的进行所述方法的装置的第二封闭系统8还包括第二泵36，用于将第二清洗溶液7在第二封闭系统8中循环。

[0114] 图6所示的进行所述方法的装置的第三封闭系统11还包括第三泵37，用于将第三清洗溶液10在第三封闭系统11中循环。

[0115] 对本领域技术人员来说很显然随着技术的进步，本发明的基本理念可以以不同方式执行。本发明和它的实施方案因此不限于上面的例子，但是它们可以在权利要求的范围内变化。