一种杂质清除设备

摘要

本发明公开了一种杂质清除设备，包括清除管道和设于该清除管道一端的清除部件；清除管道包含内管和外管，且内管与外管之间具有空隙；清除部件包含喷头、及围绕在该喷头外侧的真空罩，且真空罩与喷头之间留有空隙；喷头与内管密封连接，内管中输送的清除气体从所述喷头中喷出，真空罩与外管密封连接，且真空罩与喷头之间的空隙，连通于内管和外管之间的空隙，以将清除气体吸除。内管输送清除气体，并从喷头中喷出，将使得沉积于基座上的particle被吹离基座表面，在外管道的吸除作用下，被吹离基座表面的particle将从真空罩与喷头之间的空隙处被外管道吸出，从而，有效地将真空腔室内基座上的particle吸除。

权利要求

1.一种杂质清除设备，其特征在于，所述杂质清除设备包括清除管道和设于该清除管道一端的清除部件；所述清除管道包含内管和外管，所述内管与外管之间具有空隙；

所述清除部件包含喷头、及围绕在该喷头外侧的真空罩，所述真空罩与所述喷头之间留有空隙；所述真空罩用于在清除杂质时，扣接在附有杂质的基座上；

所述喷头与所述内管密封连接，所述内管中输送的清除气体从所述喷头中喷出；

所述真空罩与所述外管密封连接，所述真空罩与所述喷头之间的空隙，连通于所述内管和外管之间的空隙，以将所述清除气体吸除。

2.如权利要求1所述的杂质清除设备，其特征在于，所述内管另一端设有清除气体阀门，该清除气体阀门向所述内管中输入清除气体。

3.如权利要求2所述的杂质清除设备，其特征在于，所述清除气体包括压缩干燥空气CDA。

4.如权利要求1所述的杂质清除设备，其特征在于，所述外管另一端设有高真空HV吸气阀门，该HV吸气阀门将所述清除气体通过所述外管吸除。

5.如权利要求1所述的杂质清除设备，其特征在于，所述清除部件柔性连接于所述清除管道。

说明书

一种杂质清除设备

技术领域

[0001] 本发明涉及杂质清除设备领域，尤其涉及一种应用于真空腔室内的杂质清除设备。

背景技术

[0002] 目前，随着显示技术的发展，显示面板(诸如：AMOLED面板、LED面板等等)得到了广泛应用。在显示面板的制程中，需要在显示面板上进行镀膜、刻蚀等工艺，用以增强显示面板的显示特性或使用特性。

[0003] 上述工艺通常在真空腔室中完成，如图1所示，图1中，真空腔室内设置有基座(susceptor)，显示面板放置于基座上，以进行上述工艺。

[0004] 基于此，对于镀膜工艺而言，可以采用诸如蒸镀、等离子体增强化学气相沉积(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，PECVD)方式在显示面板上成膜。成膜过程中，所使用的镀膜材料会产生一定量的残渣颗粒(particle)，这些particle会沉积于基座表面。

[0005] 对于刻蚀工艺而言，可以对显示面板上的薄膜采用干法刻蚀，该过程也会产生大量的particle并沉积于基座表面。

[0006] 在后续的制程中，沉积在基座表面的particle有可能附着在显示面板上，从而对显示面板的产品质量造成影响。

[0007] 现有技术针对真空腔室之内的particle，常采用沾有无水乙醇的无尘布单向擦拭，或者通过高真空(High Vacuum，HV)吸管将particle吸除。

[0008] 但是，对于现有技术中的上述方式而言，采用无尘布擦拭时，particle将不断粘附在布料表面，在擦拭的过程中，布料表面的particle仍有可能粘附在基座表面；采用HV吸管吸除时，对于基座上粘附较牢固的particle，HV吸管并不能完全将particle吸除。

发明内容

[0009] 本发明实施例提供一种杂质清除设备，用以解决传统的方式难以有效将真空腔室中的杂质颗粒清除的问题。

[0010] 本发明提供一种杂质清除设备，包括：清除管道和设于该清除管道一端的清除部件；所述清除管道包含内管和外管，所述内管与外管之间具有空隙；

[0011] 所述清除部件包含喷头、及围绕在该喷头外侧的真空罩，所述真空罩与所述喷头之间留有空隙；

[0012] 所述喷头与所述内管密封连接，，所述内管中输送的清除气体从所述喷头中喷出；

[0013] 所述真空罩与所述外管密封连接，所述真空罩与所述喷头之间的空隙，连通于所述内管和外管之间的空隙，以将所述清除气体吸除。

[0014] 进一步地，所述内管另一端设有清除气体阀门，该清除气体阀门向所述内管中输入清除气体。

[0015] 进一步地，所述清除气体包括压缩干燥空气CDA

[0016] 进一步地，所述外管另一端设有高真空HV吸气阀门，该HV吸气阀门将所述清除气体通过所述外管吸除。

[0017] 进一步地，所述清除部件柔性连接于所述清除管道。

[0018] 本发明中的杂质清除设备包含具有双层管道结构的清除管道，以及具有喷头和真空罩的清除部件，在实际使用过程中，清除部件的真空罩扣于基座上，形成局部的密封环境，内管输送CDA气体，并从喷头中喷出，CDA将使得沉积于基座上的particle被吹离基座表面，在外管道的吸除作用下，被吹离基座表面的particle将从真空罩与喷头之间的空隙处被外管道吸出。与现有技术相比，从喷头中喷出的CDA气流有较强的压力，可以有效地将particle吹离基座表面，同时，由于真空罩扣在基座表面形成密封环境，因此被吹离的particle将不会散布于真空腔室中，而是立即被外管吸出。从而，有效地将真空腔室内基座上的particle吸除。

附图说明

[0019] 此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本发明的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：

[0020] 图1为现有技术中的显示面板处于真空腔室中的示意图；

[0021] 图2a为本发明实施例提供的一种杂质清除设备D1的结构示意图；

[0022] 图2b为图2a中的杂质清除设备D1的清除管道10的截面示意图；

[0023] 图3a和3b为本发明实施例提供的杂质清除设备D1在实际应用时的示意图；

[0024] 图4为本发明实施例提供的另一种杂质清除设备D2的结构示意图；

[0025] 图5为图4中的杂质清除设备D2的整体截面示意图。

具体实施方式

[0026] 为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明具体实施例及相应的附图对本发明技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

[0027] 如图2a所示，本发明实施例提供了一种杂质清除设备D1的主要结构，其中，杂质清除设备D1主要包括：清除管道10、清除部件20。清除部件20具体包括喷头201和真空罩202。如图2b所示，为清除管道10的截面示意图，该清除管道10中包含内管101和外管102。

[0028] 结合图2a和2b，清除部件20设于清除管道10一端。清除管道包含的内管101与外管102不贴合，之间具有空隙。

[0029] 清除部件20包含喷头201、及围绕在该喷头201外侧的真空罩202，且所述真空罩202与所述喷头201之间留有空隙。

[0030] 所述喷头201与所述内管101密封连接，所述真空罩202与所述外管102密封连接，且所述真空罩202与所述喷头201之间的空隙，连通于所述内管101和外管102之间的空隙。

[0031] 在实际应用中，内管101用于输送清除气体，由于内管101与喷头201密封连接，所以，清除气体就可以从喷头201中喷出。外管102用于吸除清除气体。清除气体具体可以是一种称为压缩干燥空气(CDA)的气体。

[0032] 具体地，杂质清除设备D1进行杂质清除时的示意图如图3a及3b所示，杂质清除设备D1可以扣在基座表面上，也即，真空罩202扣在基座表面，形成密封区域，此时，清除管道10中的内管101输送CDA气体，CDA气体从喷头201中喷出并作用于基座表面，将基座上的沉积的particle吹离基座表面，与此同时，清除管道10中的外管102将被吹离的particle吸除。

[0033] 这里需要说明的是，清除管道10的内管101和外管102的材质可以是金属、合金、聚氯乙烯(PVC)等。清除部件20的喷头201的材质也可以是金属、合金、聚氯乙烯(PVC)等；真空罩202的材质可以是密封橡胶，或树脂、气凝胶毡-聚氨酯等复合材料。这里并不构成对本申请的限定。

[0034] 可见，本发明中的杂质清除设备包含具有双层管道结构的清除管道，以及具有喷头和真空罩的清除部件，在实际使用过程中，清除部件的真空罩扣于基座上，形成局部的密封环境，内管输送CDA气体，并从喷头中喷出，CDA将使得沉积于基座上的particle被吹离基座表面，在外管道的吸除作用下，被吹离基座表面的particle将从真空罩与喷头之间的空隙处被外管道吸出。与现有技术相比，从喷头中喷出的CDA气流有较强的压力，可以有效地将particle吹离基座表面，同时，由于真空罩扣在基座表面形成密封环境，因此被吹离的particle将不会散布于真空腔室中，而是立即被外管吸出。从而，有效地将真空腔室内基座上的particle吸除。

[0035] 作为本发明的另一实施例，如图4所示，本发明还提供一种杂质清除设备D2。在图4中，

[0036] 在实际应用中，内管101’另一端设有压缩干燥空气CDA阀门30，用于输送CDA气体。外管102’另一端设有高真空HV吸气阀门40，用于吸出杂质。具体的连接方式可以如图5所示，图5是杂质清除设备的整体剖视图，在图5中可见，CDA阀门30穿透外管102’的管壁与内管101’连接，用以输入CDA气体(当然，在实际应用中，CDA阀门30与能够提供CDA气体的外部设备相连，这里并不构成对本发明的限定，故并未在图5中示出)。相应地，在图5中，HV吸气阀门40与外管102’连接，用以排除气体及particle(同样地，在实际应用中，HV吸气阀门40与具有HV吸气功能的设备相连接，不构成对本发明的限定，故并未在图5中示出)。

[0037] 在本实施例中的一种方式下，所述清除部件20’柔性连接于所述清除管道10’，换言之，清除部件20’的角度和方向可以任意调节，便于在进行杂质清除时使用。

[0038] 以上所述仅为本发明的实施例而已，并不用于限制本发明。对于本领域技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原理之内所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的权利要求范围之内。