掩膜版框架及主体、掩膜版及制作方法、基板和显示面板

摘要

本发明公开了一种掩膜版框架及主体、掩膜版及制作方法、基板和显示面板，用以增强掩膜版框架的稳定性。所述掩膜版框架的受力侧的外边界与该外边界相对应的内边界之间的厚度，按照所述受力侧的中间位置指向非受力侧的方向依次减小。

权利要求

1.一种掩膜版框架，其特征在于，

所述掩膜版框架的受力侧的外边界与相对应的内边界之间的厚度，按照所述受力侧的中间位置指向非受力侧的方向依次减小。

2.根据权利要求1所述的掩膜版框架，其特征在于，所述掩膜版框架的内边界组成的形状为矩形。

3.根据权利要求1所述的掩膜版框架，其特征在于，所述受力侧的外边界与相对应的内边界之间的厚度，与以所述受力侧的外边界与相对应的内边界之间的最小厚度为恒定厚度的参考受力侧在受到相同拉力后产生的形变量成正相关关系。

4.根据权利要求3所述的掩膜版框架，其特征在于，所述与以所述受力侧的外边界与相对应的内边界之间的最小厚度为恒定厚度的参考受力侧在受到相同拉力后产生的形变量成正相关关系，具体为：△D＝a+k*△SD(a、k、△SD均大于0)

a为固定常数，k为系数常数，△SD为以受力侧的外边界与相对应的内边界之间的最小厚度为恒定厚度的参考受力侧在受到相同拉力后产生的形变量，△D为受力侧的外边界与相对应的内边界之间的厚度。

5.根据权利要求4所述的掩膜版框架，其特征在于，所述受力侧的外边界的形状为弧形。

6.根据权利要求1所述的掩膜版框架，其特征在于，所述受力侧的外边界的形状为阶梯状。

7.一种掩膜版主体，其特征在于，包括利用权利要求1-6任一权项所述的掩膜版框架进行焊接的掩膜版主体。

8.一种掩膜版，其特征在于，所述掩膜版包括权利要求1-6任一权项所述的掩膜版框架或权利要求7所述的掩模板主体。

9.根据权利要求8所述的掩膜版，其特征在于，所述掩模板框架的所述受力侧的外边界的形状为阶梯状；所述阶梯状的阶梯个数与所述掩膜版主体的个数相同。

10.一种权利要求8所述的掩膜版的制作方法，其特征在于，该方法包括：对所述掩膜版主体施加拉力，使得所述掩膜版主体产生相反方向的回缩力；

将具有回缩力的掩膜版主体放在所述掩膜版框架中，并对所述掩膜版主体进行焊接。

说明书

掩膜版框架及主体、掩膜版及制作方法、基板和显示面板

技术领域

[0001] 本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩膜版框架及主体、掩膜版及制作方法、基板和显示面板。

背景技术

[0002] 显示面板一般包括液晶显示(Liquid Crystal Display，LCD)，有机电激光显示(Organic Light-Emitting Diode，OLED)和等离子显示(Plasma Display Panel，PDP)，电子墨水显示等多种。其中，OLED显示具有轻薄，低功耗，高对比度，高色域，可以实现柔性显示等优点，是下一代显示器的发展趋势。OLED显示包括被动式有机电激发光二极管(Passive matrix Organic Light-Emitting Diode，PMOLED)和有源矩阵有机发光二极管(Active-matrix organic light emitting diode，AMOLED)，其中AMOLED显示的实现方式包括采用低温多晶硅(Low Temperature Poly-silicon，LTPS)背板和精细金属掩膜版(Fine Metal Mask，FMM)方式实现，或者采用氧化物(Oxide)背板和白光OLED以及彩膜的方式实现。前者方式主要应用于小尺寸面板，对应手机和移动应用；后者主要应用于大尺寸面板，对应显示器和电视等应用。现在LTPS背板和精细金属掩膜版的方式已经初步成熟，实现了量产。

[0003] 精细金属掩膜(FMM Mask)模式，是通过蒸镀方式将OLED材料按照预定程序蒸镀到LTPS背板上，利用FMM上的图形，形成红绿蓝器件。现在应用于AMOLED的金属掩膜板框架，均为中间掏空的规则长方体，如图1所示，掩膜版框架包括内边界16和外边界15，其中外边界15围成的图形为矩形，内边界16围城的图形为矩形。传统的金属掩膜版框架(Frame)易发生不稳定变形，当所有Mask条经过拉伸并全部焊接在框架上时，会使Frame向内收缩，产生变形，从而带动焊接在Frame上的Mask发生像素位置精度(PPA)移位(Shift)。

[0004] 现有技术中，通过蒸镀方式将OLED材料按照预定程序蒸镀到LTPS背板上时，参见图2(a)，需要先对掩膜版主体1施加拉力，使得掩膜版主体1产生相反方向的回缩力，当将掩膜版主体放置在掩膜版框架上进行焊接时，回缩力会使得掩膜版框架产生变形，其中掩膜版主体1中包括多个与每一像素对应的像素单元11。因此为了保证像素对位的精准度，需要减轻Frame变形。因此，参见图2(b)，预先向金属掩膜版框架2施加推力，使得金属掩膜版框架2产生向外扩张的变形力；然后将具有回缩力的掩膜版主体放置在掩膜版框架上进行张网焊接。利用掩膜版框架上向外扩张的力与Mask向内的收缩力相互抵消的原理，减小掩膜版框架的变形量，从而减小Mask PPA Shift程度。参见图2(c)，掩膜版框架2与掩膜版主体1处于平衡状态，完成了五个掩膜版主体的焊接。

[0005] 但对Frame施加的推力后产生的扩张力是实时动态分阶段释放的过程，此时的Frame由于扩张力的存在，焊接前始终处于动态过程。一个始终有力存在的动态过程，每一条Mask焊接前均需要进行整体频繁对位，增加了作业时间。

[0006] 因此，现有技术中，每次焊接金属掩膜版时，均需要对Mask和金属掩膜版框架频繁进行对位，增加了作业时间，且容易使金属掩膜版框架产生变形，产生像素的混色现象。

发明内容

[0007] 本发明提供一种掩膜版框架及主体、掩膜版及制作方法、基板和显示面板，用以增强掩膜版框架的稳定性。

[0008] 本发明提供的一种掩膜版框架，所述掩膜版框架的受力侧的外边界与相对应的内边界之间的厚度，按照所述受力侧的中间位置指向非受力侧的方向依次减小。

[0009] 在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述掩膜版框架中，所述掩膜版框架的内边界组成的形状为矩形。

[0010] 在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述掩膜版框架中，所述受力侧的外边界与相对应的内边界之间的厚度，与以所述受力侧的外边界与相对应的内边界之间的最小厚度为恒定厚度的参考受力侧在受到相同拉力后产生的形变量成正相关关系。

[0011] 在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述掩膜版框架中，所述与以所述受力侧的外边界与相对应的内边界之间的最小厚度为恒定厚度的参考受力侧在受到相同拉力后产生的形变量成正相关关系，具体为：

[0012] △D＝a+k*△SD(a、k、△SD均大于0)

[0013] a为固定常数，k为系数常数，△SD为以受力侧的外边界与相对应的内边界之间的最小厚度为恒定厚度的参考受力侧在受到相同拉力后产生的形变量，△D为受力侧的外边界与相对应的内边界之间的厚度。

[0014] 在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述掩膜版框架中，所述受力侧的外边界的形状为弧形。

[0015] 在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述掩膜版框架中，所述受力侧的外边界的形状为阶梯状。

[0016] 相应地，本发明实施例还提供了一种掩膜版主体，包括利用本发明实施例提供的任一种掩膜版框架进行焊接的掩膜版主体。

[0017] 相应地，本发明实施例还提供了一种掩膜版，所述掩膜版包括本发明实施例提供的任一种掩膜版框架或本发明实施例提供的掩膜板主体。

[0018] 在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述掩膜版中，所述掩模板框架的所述受力侧的外边界的形状为阶梯状；所述阶梯状的阶梯个数与所述掩膜版主体的个数相同。

[0019] 相应地，本发明实施例还提供了一种基板，所述基板是利用本发明实施例提供的掩膜版制作的。

[0020] 相应地，本发明实施例还提供了一种显示面板，包括本发明实施例提供的基板。

[0021] 相应地，本发明实施例还提供了一种本发明实施例提供的掩膜版的制作方法，该方法包括：

[0022] 对所述掩膜版主体施加拉力，使得所述掩膜版主体产生相反方向的回缩力；

[0023] 将具有回缩力的掩膜版主体放在所述掩膜版框架中，并对所述掩膜版主体进行焊接。

[0024] 本发明有益效果如下：

[0025] 本发明实施例提供了一种掩膜版框架及主体、掩膜版及制作方法、基板和显示面板，所述掩膜版框架的受力侧的外边界与相对应的内边界之间的厚度，按照所述受力侧的中间位置指向非受力侧的方向依次减小。因此，本发明实施例通过增加受力侧的外边界与相应的内边界之间的厚度，按照受力侧的中间位置指向非受力侧的方向依次减小，使得较厚的受力侧在受到相同拉力的作用时，不容易发生形变。可见，本发明提供的掩膜版框架增强了抵抗外界拉力作用的能力，使得掩膜版框架在受到拉力作用后，不容易产生形变，提高了掩膜版框架的稳定性。

附图说明

[0026] 图1为现有技术提供的一种金属掩膜版框架的结构示意图；

[0027] 图2(a)-图2(c)为现有技术提供的一种采用图1所示的金属掩膜版框架制作掩膜版的原理示意图；

[0028] 图3为本发明实施例提供的一种掩膜版框架的结构示意图；

[0029] 图4为本发明实施例提供的第二种掩膜版框架的结构示意图；

[0030] 图5为现有技术提供的一种掩膜版框架在受到外界力的作用下的形变量的结构示意图；

[0031] 图6为本发明实施例提供的第三种掩膜版框架的结构示意图；

[0032] 图7为本发明实施例提供的第四种掩膜版框架的结构示意图；

[0033] 图8为本发明实施例提供的第五种掩膜版框架的结构示意图；

[0034] 图9为本发明实施例提供的一种掩膜版主体的结构示意图；

[0035] 图10为本发明实施例提供的一种掩膜版的结构示意图；

[0036] 图11为本发明实施例提供的一种掩膜版的制作方法的流程示意图。

具体实施方式

[0037] 为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。

[0038] 本发明实施例提供了一种掩膜版框架及主体、掩膜版及制作方法、基板和显示面板，用以增强掩膜版框架的稳定性。

[0039] 下面结合附图，对本发明实施例提供的掩膜版框架及主体、掩膜版及制作方法、基板和显示面板的具体实施方式进行详细地说明。

[0040] 参见图3，本发明实施例提供的一种掩膜版框架10，掩膜版框架10的受力侧13的外边界与相对应的内边界之间的厚度d，按照受力侧的中间位置指向非受力侧(如图3中虚线箭头的方向)的方向依次减小。

[0041] 其中，图3中仅以受力侧的外边界与内边界之间的厚度在增厚的过程中，外边界具有外凸的效果为例进行示意，当然，也可以受力侧的外边界与内边界之间的厚度在增厚的过程中，内边界具有凸起的效果，同样适用于焊接掩膜版主体的掩膜版框架，因此，本发明实施例提供的掩膜版框架不限于仅以图3所示的掩膜版框架的形状。另外，掩膜版框架的非受力侧的外边界和内边界的形状在此不作具体限定。

[0042] 在将掩膜版主体放置在掩膜版框架中前，需要对掩膜版主体施加拉力，使得掩膜版主体具有相反方向的回缩力。由于掩膜版主体的回缩力，会影响掩膜版框架的内侧受到由外向内的拉力。因此，本发明实施例中的受力侧会在掩膜版主体的回缩力的影响下产生的拉力。本发明实施例中的受力侧是指给掩膜版框架施加推力的侧和受到拉力作用的侧，如图3所示，掩膜版框架的左右两侧均为受力侧13。

[0043] 另外，将掩膜版主体在掩膜版框架中进行焊接时，是按照从掩膜版框架的中间位置依次向两边进行焊接，且每次焊接时均需要给掩膜版主体施加相同的拉开，使得每个掩膜版主体产生方向和大小均相同的回缩力，该回缩力为本发明实施例中掩膜版框架的受力侧受到的拉力。掩膜版框架的受力侧受到相同拉力作用后，位于中间位置的内边界由于没有非受力侧的内边界的支撑作用，因此受到的形变量较大，位于中间位置两侧的内边界由于存在非受力侧的内边界的固定作用受到拉力后产生的形变量较小。例如，参见图3，虚线箭头的方向为从中间向非受力侧的指示方向。因此，本发明实施例中受力侧的外边界与相对应的内边界之间的厚度从大到小的方向也如图3虚线箭头所指的方向。

[0044] 需要说明的是，受力侧的外边界与该外边界相对应的内边界之间的厚度，按照受力侧的中间位置指向非受力侧的方向依次减小的趋势，可以为连续，或者非连续的。如图3，受力侧的外边界与该外边界相对应的内边界之间的厚度的变化趋势为连续的，但不限于如图3所示的方式进行变化，其他变化方式也属于本发明的保护范围。在此不做具体限定。

[0045] 本发明实施例提供的掩膜版框架可以适用于各种类型掩膜版的制作过程中。较佳地，可以应用在用于蒸镀高精度AMOLED的金属掩膜版框架，也可以应用在现有刻蚀掩膜版和电镀掩膜版的张网焊接中。在此不做具体限定。

[0046] 本发明实施例提供的掩膜版框架，与传统的掩膜版框架相比，在具有矩形内边界的掩膜版框架中，将受力侧的外边界与该外边界相对应的内边界之间的厚度，按照受力侧的中间位置指向非受力侧的方向依次减小的方式进行设计，如图3所示。因此，本发明实施例提供的掩膜版框架的受力侧的中间位置的厚度最厚，使得受力侧具有较强的抵抗力，受力侧中外边界与内边界之间的厚度越厚，形成的抵抗力越大，从而避免了掩膜版框架的变形，增加了掩膜版框架的稳定性。

[0047] 在具体实施例中，参见图3，掩膜版框架10的内边界12组成的形状为矩形,。

[0048] 本发明实施例中的掩膜版框架的内边界为矩形，用于放置多个掩膜版主体。当然，掩膜版内边界组成的形状不仅限于矩形，还包括用于焊接掩膜版主体的其他形状，例如焊接异型屏的掩膜版主体的掩膜版框架的内边界的形状可以不为矩形。在此不做具体限定。

[0049] 在具体实施例中，本发明实施例提供的上述掩膜版框架中，为了进一步提高掩膜版框架的稳定性，可以根据掩膜版的受力侧的外边界与相对应的内边界之间的最小厚度为恒定厚度的参考受力侧在受到拉力后的形变量来确定受力侧的厚度。具体地，受力侧的外边界与该外边界相对应的内边界之间的厚度，与以受力侧的外边界与相对应的内边界之间的最小厚度为恒定厚度的参考受力侧在受到相同拉力后产生的形变量成正比相关关系。

[0050] 在具体实施例中，本发明实施例提供的上述掩膜版框架中，为了进一步确定掩膜版框架中受力侧的外边界与内边界之间的厚度与以受力侧的外边界与相对应的内边界之间的最小厚度为恒定厚度的参考受力侧在受到相同拉力后产生的形变量的比例关系，具体地，满足公式一：

[0051] △D＝a+k*△SD(a、k、△SD均大于0)    公式一

[0052] a为固定常数，k为系数常数，△SD为以受力侧的外边界与相对应的内边界之间的最小厚度为恒定厚度的参考受力侧在受到相同拉力后产生的形变量，△D为受力侧的外边界与相对应的内边界之间的厚度。

[0053] 其中，a和k的值是根据不同型号的掩膜版框架决定的。具体地，a为掩膜版框架受力侧的外边界与该外边界所对应的内边界之间的厚度的最小值，以该厚度值的受力侧作为参考受力侧，，k与掩膜版框架的材质以及掩膜版框架的形状保持性能有关，因此，k为经验常数。不同的掩膜版框架，a和k的值均不同。△D和△SD均为微米数量级。

[0054] 在具体实施例中，本发明实施例提供的上述掩膜版框架中，参见图4，受力侧13的外边界11的形状为弧形。

[0055] 其中弧形中弧度的大小可以根据上述公式一进行设计，也可以自行设计弧度的大小，在此不做具体限定。

[0056] 下面通过具体实施例，且以受力侧的外边界为弧形为例详细描述公式一的计算原理。

[0057] 首先，为了更清楚地描述△SD的形变量，我们通过图示的形式进行解释。参见图5，现有技术中提供的掩膜版框架2为矩形，且受力侧的外边界与受力侧的内边界平行，受力侧掩膜版框架的外边界与内边界之间的厚度均为a。在对掩膜版进行焊接时，掩膜版主体1依次放置在掩膜版框架2中，在将掩膜版主体放置在掩膜版框架之间，需要在每次放置前，对每条掩膜版主体相同的拉力，使得每条掩膜版主体产生方向和大小均相同的回缩力，由于掩膜版主体1产生的回缩力，会使得掩膜版框架2产生形变，由于掩膜版框架的结构，使得位于受力侧的中间位置受到回缩力后产生的形变量最大，位于中间位置两侧的位置受到回缩力后产生的形变量依次减小。因此，在掩膜版主体1的回缩力的作用下，使得掩膜版框架2受力侧产生的形变量从中间向边缘依次减小，如图5，按照受力侧产生从中间向边缘的方向，产生的形变量依次为△SD1、△SD2和△SD3。其中，掩膜版框架2产生的形变量的数值根据实际应用的不同而不同，在此不做具体限定。因此，本发明根据现有技术中提供的掩膜版框架2的形变量来改进掩膜版框架的结构。

[0058] 参见图6，本发明实施例提供的掩膜版框架是基于图5所示的掩膜版框架2进行的改进。其中，掩膜版框架2的受力侧的外边界与内边界之间的厚度为a，即为受力侧的参考受力侧，参见图6，掩膜版框架10中受力侧的外边界与该外边界所对应的内边界之间的厚度的最小值为a。与图5所对应的掩膜版主体的位置，在图6中可见，△D1＝a+k*△SD1，△D2＝a+k*△SD2，△D3＝a+k*△SD3。因此，本发明实施例提供的掩膜版框架10的结构可以抵消由于现有技术中提供的掩膜版框架2在受到掩膜版主体的回缩力的情况下产生的形变量，增加了掩膜版框架的稳定性。

[0059] 为了进一步增加掩膜版框架的稳定性，在根据公式一设计掩膜版框架的受力侧的外边界形状时，可以增加计算△D的次数，使得掩膜版框架的受力侧在任何位置受到相同拉力作用时，均能抵消该拉力。

[0060] 较佳地，计算△D的次数与利用本发明实施例提供的掩膜版框架焊接的掩膜版主体的个数相同。

[0061] 需要说明的是，在计算△D和△SD时，均与掩膜版主体的中心线对应为较佳选择。

[0062] 在具体实施例中，本发明实施例提供的上述掩膜版框架中，参见图7，受力侧13的外边界11的形状为阶梯状。

[0063] 较佳地，为了进一步增强掩膜版框架的稳定性，受力侧的外边界设计为阶梯状时，可以根据公式一依次计算每一阶梯状中阶梯的大小。其中每计算一个△D，则对应一个阶梯。

[0064] 需要说明的是，本发明实施例提供的掩膜版框架均有相向而置的两个受力侧，两个受力侧的外边界均为弧形，或者两个受力侧的外边界均为阶梯状，或者，参见图8，一个受力侧的外边界为弧形，另一个受力侧的外边界为阶梯状。在此不做具体限定。

[0065] 综上，本发明实施例提供的掩膜版框架的受力侧的外边界与相对应的内边界之间的厚度，按照受力侧的中间位置指向非受力侧的方向依次减小，具体地，掩膜版框架的受力侧的外边界的形状为弧形，或掩膜版框架的受力侧的外边界的形状为阶梯状。由于掩膜版框架的受力侧的外边界与相对应的内边界之间的厚度是根据受力侧的外边界与相对应的内边界之间的最小厚度为恒定厚度的参考受力侧在受到相同拉力后产生的形变量而确定的。因此，本发明实施例提供的掩膜版框架的受力侧在受到外界拉力的作用后，加厚的受力侧具有较强的抵抗力，受力侧中外边界与内边界之间的厚度越厚，形成的抵抗力越大，从而避免了掩膜版框架的变形，增加了掩膜版框架的稳定性。

[0066] 基于同一发明思想，本发明实施例还提供了一种掩膜版主体，包括利用本发明实施例提供的任一种掩膜版框架焊接的掩膜版主体。

[0067] 在具体实施例中，本发明实施例提供的上述掩膜版主体中，参见图9，掩膜版框架的阶梯状的阶梯个数与本发明实施例提供的掩膜版主体22的个数相同。

[0068] 其中，图9中仅示意性的画出了掩膜版中包括5个掩膜版主体，在实际应用中，可以用于放置多个掩膜版主体。在此仅是作为示意，不代表实际应用中掩膜版主体的大小和数量。

[0069] 具体地，掩膜版框架在掩膜版主体的回缩力的影响下，使得受力侧受到大小相同的拉力，每一个掩膜版主体均具有的回缩力，则受力侧受到的拉力个数与掩膜版主体的个数相同。为了掩膜版框架在受到每一次拉力时，均有相对稳定的结构避免掩膜版框架不产生形变。因此，阶梯状的阶梯个数与受力侧的内边界受到的拉力的个数相同，且每一阶梯的大小均通过公式一得到。

[0070] 基于同一发明思想，本发明实施例还提供了一种掩膜版，参见图10，掩膜版包括掩膜版主体22和本发明实施例提供的任一种掩膜版框架10。其中，图10中，仅以掩膜版框架10以掩膜版框架外边界为弧形为例，当然也可以采用本发明实施例提供的任何一种掩膜版框架，在此不再赘述。在具体实施例中，本发明实施例提供的上述掩膜版中，所述掩模板框架的所述受力侧的外边界的形状为阶梯状，阶梯状的阶梯个数与本发明实施例提供的掩膜版主体的个数相同。

[0071] 相比现有技术，本发明实施例提供的掩膜版具有以下有益效果：

[0072] 1、由于本发明实施例提供的掩膜版框架具有较强的稳定性，不容易变形，因此根据本发明实施例提供的掩膜版框架对掩膜版主体进行焊接形成的掩膜版具有较强的稳定性，确保了像素位置的精度，解决了因掩膜版不稳定造成的混色问题。

[0073] 2、本发明实施例提供的掩膜版，可以适用于制作不同尺寸、不同清晰程度的各种型号的掩膜版的制作。本发明实施例提供的掩膜版，为制作高精度的掩膜版提供了先决条件。

[0074] 3、本发明实施例提供的掩膜版，仅对掩膜版框架的结构进行改进，并未在掩膜版主体上增加任何外置物体，因此为掩膜版的制作提高了更好的优化条件。

[0075] 基于同一发明思想，本发明实施例还提供了一种基板，所述基板是利用本发明实施例提供的掩膜版制作的。

[0076] 通过采用本发明实施例提供的掩膜版制作基板，可以进一步避免基板中混色现象。本发明实施例提供的基板可以为阵列基板，或者彩膜基板等。

[0077] 基于同一发明思想，本发明实施例还提供了一种显示面板，包括本发明实施例提供的基板。

[0078] 基于同一发明思想，参见图11，本发明实施例还提供了一种本发明实施例提供的掩膜版的制作方法，该方法包括：

[0079] S101、对掩膜版主体施加拉力，使得掩膜版主体产生相反方向的回缩力；

[0080] S102、将具有回缩力的掩膜版主体放在所述掩膜版框架中，并对所述掩膜版主体进行焊接。

[0081] 现有技术中，在采用图1所示的掩膜版框架进行掩膜版的制作时，首先对掩膜版主体施加拉力，使得掩膜版主体产生相反反向的回缩力，如图2(a)所示；其次向掩膜版框架施加推力，使得金属掩膜版框架产生向外扩张的变形力，如图2(b)所示，其中由于施加的推力需要抵消每一掩膜版主体焊接时施加的拉力的作用，因此推力的大小需要根据每次焊接掩膜版主体时进行调节。一般地，推力是根据系统仿真以及生产工艺经验进行确定，然后生产工艺经验的幅度也各不相同，因此推力的大小不好掌握；最后，将具有回缩力的掩膜版主体放在掩膜版框架中进行焊接。由于掩膜版框架的推力的释放是动态的，逐级递减的，因此，掩膜版框架的变形处于不同的变形状态中。

[0082] 而本发明实施例采用本发明提供的掩膜版框架进行掩膜版的制作时，首先对掩膜版主体施加拉力，使得掩膜版主体产生相反反向的回缩力，如图2(a)所示；然后将具有回缩力的掩膜版主体放在掩膜版框架中进行焊接。由于本发明实施例提供的掩膜版框架的稳定性较强，且受到掩膜版主体的回缩力的影响时，自身结构可以抵消该回缩力对掩膜版框架的影响。因此，本发明实施例提供的掩膜版的制作方法，不仅简化了一道工序，即无需对掩膜版框架施加推力，又避免了推力的释放的动态过程造成对掩膜版框架的形变量。总之，本发明实施例提供的掩膜版的制作方法提高了掩膜版像素位置的精准度。

[0083] 综上，本发明实施例提供的一种掩膜版框架及主体、掩膜版及制作方法、基板和显示面板，所述掩膜版框架的受力侧的外边界与相对应的内边界之间的厚度，按照所述受力侧的中间位置指向非受力侧的方向依次减小。因此，本发明实施例通过增加受力侧的外边界与内边界之间的厚度，使得较厚的受力侧在受到拉力的作用时，不容易发生形变。可见，本发明提供的掩膜版框架增强了抵抗外界拉力作用的能力，使得掩膜版框架在受到拉力作用后，不容易产生形变，提高了掩膜版框架的稳定性。

[0084] 显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。