锆酸铅钡薄膜的制备方法转让专利

申请号 : CN201610368299.5

文献号 : CN106064944A

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发明人 : 樊慧庆赵扬董广志彭彪林

申请人 : 西北工业大学

摘要 :

本发明公开了一种锆酸铅钡薄膜的制备方法,用于解决现有制备的电卡制冷材料获得最大电卡制冷温度变化值时的温度过高的技术问题。技术方案是根据钙钛矿结构的性质,制定合理的原料配比,在钙钛矿结构的锆酸铅中掺杂了合适的元素钡。采用溶胶凝胶法,以醋酸铅、醋酸钡和四正丙氧基锆为原料分别制成铅钡溶液与锆溶液,将之混合制成锆酸铅钡溶胶,涂抹在Pt(111)/TiOx/SiO2/Si(100)基片上最终制得锆酸铅钡薄膜材料。该方法制得的锆酸铅钡薄膜纳米级铁电与反铁电相共存的弛豫特性,在室温附近获得了良好的电卡制冷性能,最大电卡效应的温度为290K,相对于背景技术中的温度413K,更加接近室温,实用性强。

权利要求 :

1.一种锆酸铅钡薄膜的制备方法,其特征在于包括以下步骤:

(a)将醋酸铅与醋酸钡一起溶解在冰醋酸与去离子水中;为了补偿晶化过程中铅元素的挥发造成的损失,原料中加入15%~20%过量的醋酸铅;

(b)将乙酰丙酮加入至四正丙氧基锆与2-甲氧基乙醇混合溶液中,并在室温下搅拌30~35分钟;

(c)将步骤(a)制得的铅/钡溶液与步骤(b)制得的锆溶液混合并于室温下搅拌2~2.5小时,获得锆酸铅钡溶胶;

(d)时效24小时后,用直径0.2微米的过滤器将锆酸铅钡溶胶进行过滤,然后将其均匀地滴在事先用丙酮和1-丙醇洗涤干净的Pt(111)/TiOx/SiO2/Si(100)基片上;

(e)自旋涂膜转速为4000/rpm,单层涂膜时间为25~35秒,每涂完一层,先将其置于300~350℃热板上热解3~4分钟,以充分去除有机物;然后再将其置于500~550℃热板上预晶化5~7分钟;

(f)待沉积完8层厚后,将锆酸铅钡薄膜置于管式炉中进行最终晶化退火处理,退火温度为700~800℃,时间为30~40分钟,气氛为空气。

2.根据权利要求1所述的锆酸铅钡薄膜的制备方法,其特征在于:所述锆酸铅钡薄薄膜的厚度约300~350纳米。

3.根据权利要求1所述的锆酸铅钡薄膜的制备方法,其特征在于:所述锆酸铅钡溶胶的浓度为0.25~0.35摩尔。

说明书 :

锆酸铅钡薄膜的制备方法

技术领域

[0001] 本发明属于电卡制冷技术领域,特别是涉及一种锆酸铅钡薄膜的制备方法。

背景技术

[0002] 电卡制冷效应是指在绝热条件下施加或者去掉电场的过程中可极化电介质材料中所产生的温度或熵的变化现象。利用这一效应,理论上可以设计出与气态压缩机制冷相似的固态电卡材料制冷机。2006年,Mischenko等在反铁电材料PbZr0.95Ti0.05O3中靠近其反铁电相-顺电相转变点500K,处首次观察到大的电卡效应。在绝热条件下施加或者去掉电场的过程中,该材料中所产生的温度变化ΔT为12K,熵的变化ΔS为8J/(K·kg)),在材料与物理界掀起了新一轮的电卡制冷研究热潮。
[0003] 文献“Electrocaloric effect of PMN-PT thin film near morphotropic phase boundary.Bull.Mater.Sci.2009,32(3):259-262”公开了一种掺钛铌镁酸铅薄膜的制备方法。采用激光脉冲沉积法,在700℃及2ⅹ10-6mbar气压下,通过脉冲激光烧蚀掺钛铌镁酸铅靶材,烧蚀剥落物在氧气环境下沉积在La0.5Sr0.5CoO3临时层上,得到焦绿石型钙钛矿结构掺钛铌镁酸铅薄膜。该材料在温度413K时得到ΔT为31K。但该温度远高于室温,难以满足实践应用的需求。

发明内容

[0004] 为了克服现有方法制备的电卡制冷材料获得最大电卡制冷温度变化值时的温度过高的不足,本发明提供一种锆酸铅钡薄膜的制备方法。该方法根据钙钛矿结构的性质,制定合理的原料配比,在钙钛矿结构的锆酸铅中掺杂了合适的元素钡。采用溶胶凝胶法,以醋酸铅、醋酸钡和四正丙氧基锆为原料分别制成铅钡溶液与锆溶液,将之混合制成锆酸铅钡溶胶,涂抹在Pt(111)/TiOx/SiO2/Si(100)基片上最终制得锆酸铅钡薄膜材料。该方法制得的锆酸铅钡薄膜纳米级铁电与反铁电相共存的弛豫特性,可在室温附近获得良好的电卡制冷性能,相对于背景技术中的温度413K,更加利于大规模工业生产。
[0005] 本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种锆酸铅钡薄膜的制备方法,其特点是包括以下步骤:
[0006] (a)将醋酸铅与醋酸钡一起溶解在冰醋酸与去离子水中。为了补偿晶化过程中铅元素的挥发造成的损失,原料中加入15%~20%过量的醋酸铅;
[0007] (b)将乙酰丙酮加入至四正丙氧基锆与2-甲氧基乙醇混合溶液中,并在室温下搅拌30~35分钟;
[0008] (c)将步骤(a)制得的铅/钡溶液与步骤(b)制得的锆溶液混合并于室温下搅拌2~2.5小时,获得锆酸铅钡溶胶;
[0009] (d)时效24小时后,用直径0.2微米的过滤器将锆酸铅钡溶胶进行过滤,然后将其均匀地滴在事先用丙酮和1-丙醇洗涤干净的Pt(111)/TiOx/SiO2/Si(100)基片上;
[0010] (e)自旋涂膜转速为4000/rpm,单层涂膜时间为25~35秒,每涂完一层,先将其置于300~350℃热板上热解3~4分钟,以充分去除有机物。然后再将其置于500~550℃热板上预晶化5~7分钟;
[0011] (f)待沉积完8层厚后,将锆酸铅钡薄膜置于管式炉中进行最终晶化退火处理,退火温度为700~800℃,时间为30~40分钟,气氛为空气。
[0012] 所述锆酸铅钡薄薄膜的厚度约300~350纳米。
[0013] 所述锆酸铅钡溶胶的浓度为0.25~0.35摩尔。
[0014] 本发明的有益效果是:该方法根据钙钛矿结构的性质,制定合理的原料配比,在钙钛矿结构的锆酸铅中掺杂了合适的元素钡。采用溶胶凝胶法,以醋酸铅、醋酸钡和四正丙氧基锆为原料分别制成铅钡溶液与锆溶液,将之混合制成锆酸铅钡溶胶,涂抹在Pt(111)/TiOx/SiO2/Si(100)基片上最终制得锆酸铅钡薄膜材料。该方法制得的锆酸铅钡薄膜纳米级铁电与反铁电相共存的弛豫特性,在室温附近获得了良好的电卡制冷性能,最大电卡效应的温度为290K,相对于背景技术中的温度413K,更加接近室温,有利于大规模工业生产,实用性强。
[0015] 下面结合具体实施方式对本发明作详细说明。

具体实施方式

[0016] 本发明锆酸铅钡薄膜的制备方法具体步骤如下:
[0017] 先将醋酸铅与醋酸钡一起溶解在冰醋酸与去离子水中。为了补偿晶化过程中铅元素的挥发造成的损失,原料中加入15%~20%过量的醋酸铅。与此同时,将乙酰丙酮加入至四正丙氧基锆与2-甲氧基乙醇混合溶液中,并在室温下搅拌30~35分钟。然后将上述过程中获得的铅钡溶液与锆溶液混合并于室温下搅拌2~2.5小时。最终获得的锆酸铅钡溶胶的浓度为0.25~0.35摩尔。时效24小时后,用直径0.2微米的过滤器将锆酸铅钡溶胶进行过滤,然后将其均匀地滴在事先用丙酮和1-丙醇洗涤干净的Pt(111)/TiOx/SiO2/Si(100)基片上。自旋涂膜转速为4000/rpm,单层涂膜时间为25~35秒,每涂完一层,先将其置于300~350℃热板上热解3~4分钟,以充分去除有机物。然后再将其置于500~550℃热板上预晶化
5~7分钟。待沉积完8层厚后,将锆酸铅钡薄膜置于管式炉中进行最终晶化退火处理,退火温度为700~800℃,时间为30~40分钟,气氛为空气,制得锆酸铅钡薄膜。
[0018] 使用德国西门子公司的全自动X射线衍射仪,型号为Bruker-AXS D5005,对晶体结构进行测试,薄膜的表面形貌观察采用荷兰飞利浦公司的扫描电子显微镜FEIXL30SFEG,薄膜的微观结构分析采用荷兰飞利浦公司的透射电子显微镜CM20。经750度30分钟退火后,锆酸铅钡薄膜为完全晶化的、纯的钙钛矿相结构。通过扫面电镜图片可观察与验证锆酸铅钡薄膜中的铁电与反铁电两相共存结构。
[0019] 采用光刻法制作PBZ薄膜Au/Cr顶电极,顶电极直径为150微米。采用精密阻抗分析仪Wayne-Kerr Electronics,UK测试其介电响应性能,激励电压为100mV。电滞回线(P-E)与漏电流((I(t)))测试采用铁电分析仪RT66A,温度控制采用Peltier系统,控制精度为0.1度。从283K至418K,每隔5K,系统地采集100Hz下的电滞回线P-E。薄膜的介电常数1200远远低于其块体材料中的介电常数12000,居里温度点408K也明显低于其块体材料中的居里温度点425K。漏电流测试中,在1000ms的测试周期内以及598kV/cm的高场下,经超过100次的重复试验,样品中无击穿现象发生,相比之下,当测试周期高于200ms,锆酸铅钡薄膜将发生