片状导电体和使用该片状导电体的触摸屏

摘要

片状导电体被配置在显示画面上，至少具有：绝缘体；第1检测电极，其被设置在绝缘体的与显示画面相反侧的面上，被配置在观察侧；以及第2检测电极，其被设置在绝缘体的显示画面侧的面上，被配置在与观察侧相反侧，第1检测电极和第2检测电极由金属细线形成为网眼状，在设第1检测电极的金属细线的线宽为线宽Wa，第2检测电极的金属细线的线宽为线宽Wb时，线宽Wa和线宽Wb，满足下述式(1)和(2)：0.5μm≤Wb＜Wa≤10μm……(1)Wa‑Wb≤4.0μm……(2)。

权利要求

1.一种片状导电体，其被配置在显示画面上，其特征在于，所述片状导电体至少具有：

绝缘体；

第1检测电极，其被设置在所述绝缘体的与所述显示画面相反侧的面上，被配置在观察侧；以及第2检测电极，其被设置在所述绝缘体的所述显示画面侧的面上，被配置在观察侧的相反侧，所述第1检测电极和所述第2检测电极由金属细线形成为网眼状，在设所述第1检测电极的所述金属细线的线宽为线宽Wa、所述第2检测电极的所述金属细线的线宽为线宽Wb时，所述线宽Wa与所述线宽Wb满足下述式(1)和(2)：

0.5μm≤Wb＜Wa≤10μm……(1)Wa-Wb≤4.0μm……(2)。

2.根据权利要求1所述的片状导电体，其特征在于，所述线宽Wa与所述线宽Wb处于以下的式(3)的关系：

0.5μm≤Wa-Wb≤2.0μm……(3)。

3.根据权利要求1或2所述的片状导电体，其特征在于，所述线宽Wa与所述线宽Wb满足以下的式(4)：

1.0μm≤Wb＜Wa≤6.0μm……(4)。

4.根据权利要求1或2所述的片状导电体，其特征在于，所述第1检测电极的网眼结构的金属细线之间的线间距为100μm～500μm，所述第2检测电极的网眼结构的金属细线之间的线间距为100μm～500μm。

5.根据权利要求1或2所述的片状导电体，其中，所述第1检测电极的电极宽度小于所述第2检测电极的电极宽度。

6.一种片状导电体，其特征在于，所述片状导电体至少具有：绝缘体；

第1检测电极，其被设置在所述绝缘体的一个面上；

第2检测电极，其被设置在所述绝缘体的另一个面上；

所述第1检测电极和所述第2检测电极由金属细线构成为网眼状，在设所述第1检测电极的所述金属细线的线宽为线宽Wa、所述第2检测电极的所述金属细线的线宽为线宽Wb时，所述线宽Wa与所述线宽Wb满足下述式(1)和(2)，且所述第1检测电极的电极宽度小于所述第2检测电极的电极宽度：

0.5μm≤Wb＜Wa≤10μm……(1)Wa-Wb≤4.0μm……(2)。

7.根据权利要求6所述的片状导电体，其特征在于，所述线宽Wa与所述线宽Wb处于以下的式(3)的关系：

0.5μm≤Wa-Wb≤2.0μm……(3)。

8.根据权利要求6或7所述的片状导电体，其特征在于，所述线宽Wa与所述线宽Wb满足以下的式(4)：

1.0μm≤Wb＜Wa≤6.0μm……(4)。

9.根据权利要求6或7所述的片状导电体，其特征在于，所述第1检测电极的网眼结构的金属细线之间的线间距为100μm～500μm，所述第2检测电极的网眼结构的金属细线之间的线间距为100μm～500μm。

10.一种触摸屏，其使用了权利要求1～9中的任意一项所述的片状导电体。

说明书

片状导电体和使用该片状导电体的触摸屏

技术领域

[0001] 本发明涉及片状导电体和使用该片状导电体的触摸屏，其中，片状导电体具有分别由金属细线构成为网眼状的观察侧的检测电极及其相反侧的检测电极。

背景技术

[0002] 以往，在触摸屏显示器等中，利用了导电片等由片状导电体构成的触摸屏传感器，其中，所述片状导电体具有由金属细线构成的网眼状的2层结构的检测电极(参照例如专利文献1)。

[0003] 专利文献1公开如下导电片的发明，该导电片具有基体；在基体的一个主面上形成的由金属细线构成的第1导电部；以及在基体的另一个主面上形成的由金属细线构成的第2导电部，专利文献1公开了如下情况：第1导电部的金属细线的线宽(第1导电图案的线宽)与第2导电部的金属细线的线宽(第2导电图案的线宽)相同。

[0004] 现有技术文献

[0005] 专利文献

[0006] 专利文献1：日本特开2011-175967号公报

发明内容

[0007] 发明要解决的课题

[0008] 但是，在专利文献1所示的例如作为观察侧的检测电极的第1导电部的金属细线的线宽与作为其相反侧的检测电极的第2导电部的金属细线的线宽相等的导电片中，在导电片被载置于黑色板那样的情况下，例如，在触摸屏显示器中，在显示器的电源断开而显示黑色的画面的情况下，存在可观察到导电片的金属细线这样的问题。

[0009] 此外，期待的是，在具有由不透明的金属细线网眼状地构成的观察侧(例如上侧)检测电极及其相反侧(例如下侧)检测电极的片状导电体中，基于上侧检测电极和下侧检测电极的金属细线的辨认性这点，考虑距观察者的距离，使位于距观察者较远的位置的下侧检测电极的金属细线的线宽大于上侧检测电极的金属细线的线宽，在从观察者的角度看的情况下，上侧检测电极的金属细线的线宽和下侧检测电极的金属细线的线宽看上去相等。

[0010] 但是，根据本发明人的研究得知，在考虑距观察者的距离，制造位于距观察者较远的位置的下侧检测电极的金属细线的线宽大于上侧检测电极的金属细线的线宽的片状导电体时，存在与专利文献1的情况同样地不能得到期望的辨认性能这样的问题。

[0011] 本发明的目的在于，解决上述以往技术的问题，提供片状导电体和使用该片状导电体的触摸屏，能够提高由金属细线构成的网眼状的电极引起的辨认性，而不会降低透射率。

[0012] 用于解决课题的手段

[0013] 本发明人注意到，如通常进行的那样，使由网眼状的金属细线构成的观察侧的第1检测电极与其相反侧的第2检测电极的金属细线的线宽相同来观测片状导电体的结果是，与相同的线宽无关地，第2检测电极的金属细线可显著地观察到。

[0014] 本发明人鉴于上述问题和知识而认识到，使位于距观察者较远的位置的第2检测电极的金属细线的线宽小于第1检测电极的金属细线的线宽，由此，能够实现片状导电体的辨认性的提高，而不会降低透射率，从而得到本发明。

[0015] 即，本发明的第1方式提供片状导电体，片状导电体被配置在显示画面上，至少具有：绝缘体；第1检测电极，其被设置在绝缘体的与显示画面相反侧的面上，被配置在观察侧；以及第2检测电极，其被设置在绝缘体的显示画面侧的面上，被配置在观察侧的相反侧，第1检测电极和第2检测电极由金属细线形成为网眼状，在设第1检测电极的金属细线的线宽为线宽Wa，第2检测电极的金属细线的线宽为线宽Wb时，线宽Wa和线宽Wb，满足下述式(1)和(2)。

[0016] 0.5μm≤Wb＜Wa≤10μm……(1)

[0017] Wa-Wb≤4.0μm……(2)

[0018] 此外，优选的是，线宽Wa与线宽Wb处于以下的式(3)的关系。

[0019] 0.5μm≤Wa-Wb≤2.0μm……(3)

[0020] 此外，优选的是，线宽Wa与线宽Wb满足以下的式(4)。

[0021] 1.0μm≤Wb＜Wa≤6.0μm……(4)

[0022] 此外，优选的是，第1检测电极和第2检测电极的金属细线间的线间距分别为100μm～500μm。

[0023] 此外，优选的是，第1检测电极的电极宽度小于第2检测电极的电极宽度。

[0024] 此外，本发明的第2方式提供片状导电体，其特征在于，至少具有：绝缘体；设置在绝缘体的一个面上的第1检测电极；以及设置在绝缘体的另一个面上的第2检测电极，第1检测电极和第2检测电极由金属细线构成为网眼状，在设第1检测电极的金属细线的线宽为线宽Wa、第2检测电极的金属细线的线宽为线宽Wb时，线宽Wa和线宽Wb满足下述式(1)和(2)，且第1检测电极的电极宽度小于第2检测电极的电极宽度。

[0025] 0.5μm≤Wb＜Wa≤10μm……(1)

[0026] Wa-Wb≤4.0μm……(2)

[0027] 此外，本发明的第3方式提供使用了上述第1或第2方式的片状导电体的触摸屏。

[0028] 发明效果

[0029] 根据本发明，能够提高由金属细线构成的网眼状的电极引起的片状导电体的辨认性，而不会降低片状导电体的透射率。

[0030] 此外，根据本发明，能够提高触摸屏的显示画面的辨认性，而不会降低片状导电体的透射率。

附图说明

[0031] 图1是示意性示出本发明的实施方式1的片状导电体的检测区域的一部分的局部剖视图。

[0032] 图2的(A)是示意性示出图1的片状导电体的第1检测电极的一部分的平面放大图，图2的(B)是示意性示出图1的片状导电体的第2检测电极的一部分的平面放大图。

[0033] 图3是示意性示出包含图1的检测区域的片状导电体的整体结构的俯视图。

[0034] 图4是示意性示出本发明的实施方式2的片状导电体的检测区域的一部分的概略局部剖视图。

[0035] 图5是示意性示出本发明的实施方式3的片状导电体的检测区域的一部分的局部剖视图。

[0036] 图6是在表面和背面设置有保护罩的评价用导电性片的概略局部剖视图。

[0037] 图7是示出第1检测电极的金属细线的线宽Wa和第2检测电极的金属细线的线宽Wb与片状导电体的辨认性之间的关系的曲线图。

具体实施方式

[0038] 以下，基于附图所示的适当实施方式，对本发明的片状导电体进行详细说明。

[0039] 以下，以触摸屏用的导电性膜为代表例，对本发明的片状导电体进行说明，但本发明不限于此，只要具有配置在由绝缘体的构成的基板的双面的电极即可，例如，当然也可以是设置在各种显示装置的显示画面上的片状导电体，也可以是电磁波屏蔽用的片状导电体等。此外，在本说明书中，使用“～”表示的数值范围表示将记载在“～”的前后的数值作为下限值和上限值而包含在内的范围。

[0040] (实施方式1)

[0041] 图1是示出本发明的实施方式1的片状导电体的检测区域的一例的局部放大剖视图。

[0042] 图1所示的片状导电体1具有绝缘性基板11(以下，简单称作基板)、配置在观察侧的第1检测电极12和配置在与观察侧相反侧的第2检测电极13。此外，在使用片状导电体1来构成触摸屏显示器的情况下，第1检测电极12被配置在观察显示器的显示画面的操作者侧，第2检测电极13被配置在显示器的显示画面上。

[0043] 基板11构成本发明的绝缘体，支承层状地配置在一个表面上的第1检测电极12，并支承层状地配置在另一个表面上的第2检测电极13。

[0044] 基板11优选使光适当地透过，具体而言，优选具有85％～100％的全光线透射率。

[0045] 此外，基板11具有电绝缘性，使第1检测电极12与第2检测电极13之间电绝缘。

[0046] 作为基板11，优选为透明绝缘性基板，例如可举出透明绝缘树脂基板、透明陶瓷基板、玻璃基板等。其中，透明绝缘树脂基板因韧性优异而是优选的。

[0047] 更具体而言，作为构成透明绝缘树脂基板的材料，例如可举出聚乙烯对苯二甲酸酯、聚醚磺酸、聚丙烯腈类树脂、聚氨酯类树脂、聚酯、聚碳酸酯、聚砜、聚酰胺、聚芳基、聚烯烃、纤维素类树脂、聚氯乙烯、环烯烃类树脂等。其中，聚乙烯对苯二甲酸酯、环烯烃类树脂、聚碳酸酯、三乙醯纤维素树脂由于透明性优异而是优选的。

[0048] 基板11可以是单层，也可以是2层以上的复层。基板11的厚度没有特别限定，优选为5～350μm，更优选为30～150μm。如果处于上述的范围内，则可得到期望的可见光的透射率，且容易处理。

[0049] 此外，基板11的俯视时形状例如可以是矩形，此外，例如也可以是圆形、多边形。

[0050] 第1检测电极12和第2检测电极13分别层状地配置在基板11的一个(观察侧)面(图中上表面)和另一个(与观察侧相反侧)面(图中下表面)。第1检测电极12由金属细线12N构成，第2检测电极13由金属细线13N构成。

[0051] 出于能够较容易地形成低电阻的电极的观点(导电性的观点)和辨认性的观点，金属细线12N的线宽Wa构成为满足以下的(1a)式。

[0052] 0.5μm＜Wa≤10.0μm……(1a)

[0053] 此外，金属细线13N的线宽Wb与金属细线12N同样地，出于导电性的观点和辨认性的观点，构成为满足以下的(1b)式。

[0054] 0.5μm≤Wb＜10.0μm……(1b)

[0055] 此处，线宽Wa、Wb是指在与金属细线的延伸方向垂直的面将片状导电体样品切断，利用电子显微镜观测细线截面的横向宽度(与基板呈水平的方向的最大宽度)而测定出的情况下的线宽(10个部位的平均值)。

[0056] 此外，出于辨认性的观点，金属细线12N的线宽Wa与金属细线13N的线宽Wb构成为满足以下的(1c)式的关系。即，线宽Wa需要大于线宽Wb。

[0057] Wb＜Wa……(1c)

[0058] 此外，与上述(1c)式相反，在构成为线宽Wb为线宽Wa以上的情况下，即，在按以下的(1d)式子来构成的情况下，不能如构成为满足(1c)式的情况那样得到由金属细线构成的网眼状的电极带来的提高片状导电体的辨认性的效果。

[0059] Wa≤Wb……(1d)

[0060] 而且，汇总这些(1a)～(1c)式，则金属细线12N的线宽Wa与金属细线13N的线宽Wb需要满足以下的(1)式。

[0061] 0.5μm≤Wb＜Wa≤10.0μm……(1)

[0062] 此外，关于金属细线12N的线宽Wa和金属细线13N的线宽Wb，两者的差分需要满足下述式(2)。

[0063] Wa-Wb≤4.0μm……(2)

[0064] 将金属细线12N的线宽Wa与金属细线13N的线宽Wb限定于上述式(1)的范围的原因在于，如果线宽Wa和Wb小于0.5μm，则金属细线12N和13N过细，导电性下降或者有可能断线。另一方面，如果线宽Wa和Wb超过10.0μm，则金属细线12N和13N过粗，辨认性下降，有可能在显示器的显示画面、尤其是电源断开时的黑色的显示画面中观察到金属细线12N和13N。此外，在金属细线12N的线宽Wa为金属细线13N的线宽Wb以下的情况下、即在满足上述式(1d)时，金属细线13N被显著地观察到在实际的线宽以上。

[0065] 此外，将线宽Wa与线宽Wb的差分限定于上述式(2)的范围的原因在于，在其差分偏离该范围而大于4.0μm时，相反金属细线12N可显著地观察到，看不到辨认性的提高效果。

[0066] 此外，在片状导电体中，如果满足上述式(1)和(2)，则能够得到辨认性提高的效果，而不会降低透射率。

[0067] 在本发明中，更优选满足下述式(3)。

[0068] 0.5μm≤Wa-Wb≤2.0μm……(3)

[0069] 通过设为上述式(3)的范围，能够进一步提高辨认性。

[0070] 此外，在本实施方式中，金属细线12N的线宽Wa与金属细线13N的线宽Wb需要满足上述式(1)，而出于导电性、制造容易性和辨认性的观点，优选满足以下的(4)式。此外，通过满足以下的(4)式的条件且满足上述式(3)的条件，能够进一步提高片状导电体的辨认性。

[0071] 1.0μm≤Wb＜Wa≤6.0μm……(4)

[0072] 此外，金属细线12N、13N的厚度没有特别限制，出于导电性和辨认性的观点，可从0.00001mm(0.01μm)～0.2mm中选择，优选为30μm以下，更优选为20μm以下，进一步优选为
0.01～9μm，最优选为0.05～5μm。

[0073] 作为金属细线12N、13N的材料，例如，可举出金(Au)、银(Ag)、铜(Cu)、铝(Al)等金属或合金、氧化锡、氧化锌、氧化镉、氧化镓、氧化钛等金属氧化物等。其中，出于使金属细线12N、13N的导电性优异的原因，优选为银。

[0074] 此外，在片状导电体的第1检测电极12和第2检测电极13中，该金属细线12N、13N可以由金属氧化物粒子、银膏或铜膏等金属膏形成。其中，出于导电性和透明性优异这点，金属细线12N、13N优选为通过对卤化银曝光/显影而形成的银细线。因此，优选为将第1检测电极12和第2检测电极13设为由银细线构成的导电膜。

[0075] 出于金属细线12N、13N与基板11的贴合性的观点，在金属细线12N、13N中优选包含结合剂。

[0076] 作为结合剂，出于使金属细线12N、13N与基板11的贴合性变得更优的原因，优选为水溶性高分子。作为结合剂的种类，例如，可举出明胶、角叉菜胶、聚乙烯醇(PVA)、聚乙烯吡咯烷酮(PVP)、淀粉等多糖类、纤维素及其衍生物、聚环氧乙烷、多糖、聚乙基胺、壳聚糖、聚丙啶、聚丙烯腈酸、聚藻胶酸、聚玻尿酸、羧基纤维素、阿拉伯树胶、藻朊酸钠等。其中，出于使金属细线12N、13N与基板11的贴合性变得更优的原因，优选为明胶。

[0077] 此外，作为明胶，除了石灰处理明胶以外，也可以使用酸处理明胶，也可以使用对明胶的加水分解物、明胶酵素分解物、其它氨基、羧基进行了修饰的明胶(邻苯二甲氧化明胶、乙酰化明胶)。

[0078] 此外，作为结合剂，也可以与明胶一同使用和上述明胶不同的高分子(以后，也简单称作高分子)。

[0079] 作为所使用的高分子的种类，只要与明胶不同，则没有特别限制，例如可举出从由丙烯类树脂、苯乙烯类树脂、乙烯类树脂、聚烯烃类树脂、聚酯类树脂、聚氨酯类树脂、聚酰胺类树脂、聚碳酸酯类树脂、聚二烯类树脂、环氧类树脂、硅类树脂、纤维素类聚合物和壳聚糖类聚合物的构成的组中选择的至少任意一种树脂或由构成这些树脂的单量体构成的共聚物等。

[0080] 金属细线12N、13N中的金属与结合剂的体积比(金属的体积/结合剂的体积)优选为1.0以上，更优选为1.5以上。通过将金属与结合剂的体积比设为1.0以上，能够进一步提高金属细线12N、13N的导电性。对上限没有特别限制，出于生产率的观点，上限优选为6.0以下，更优选为4.0以下，更优选为2.5以下。

[0081] 此外，金属与结合剂的体积比能够通过金属细线12N、13N中包含的金属和结合剂3
的密度来计算。例如，在金属为银的情况下，设银的密度为10.5g/cm ，在结合剂明胶的情况下，设明胶的密度为1.34g/cm3来计算而求出。

[0082] 此外，虽然没有图示，但如后述那样，也可以是在图1所示的片状导电体的第1和第2检测电极12和13的各自的外侧(图中上表面和下表面)具有分别保护第1和第2检测电极12和13的保护罩。

[0083] 接下来，对本发明的片状导电体的第1和第2检测电极的网眼结构进行说明。

[0084] 图2的(A)示出第1检测电极12的一部分的平面放大图，图2的(B)示出第2检测电极13的一部分的平面放大图。

[0085] 如图2的(A)所示，第1检测电极12是沿x方向延伸的网眼状的导电线，由金属细线12N构成，包含由交叉的金属细线12N构成的多个格子g1。

[0086] 此外，如图2的(B)所示，第2检测电极13是沿y方向延伸的网眼状的导电线，由金属细线13N构成，与上述的金属细线12N同样地，包含由交叉的金属细线13N构成的多个格子g2。

[0087] 格子g1包含由金属细线12N围着的开口区域。第1检测电极12的网眼结构的金属细线12N间的线间距Pa基于导电性和辨认性的观点，而适当设定，优选为500μm以下，且优选为100μm以上。

[0088] 同样，格子g2包含由金属细线13N围着的开口区域。同样，第2检测电极13的网眼结构的金属细线13N间的线间距Pb基于导电性和辨认性的观点而适当设定，优选为500μm以下，且优选为100μm以上。

[0089] 此处，优选将金属细线12N间的线间距Pa与金属细线13N之间的线间距Pb限定为100μm～500μm的原因在于，通过将线间距Pa和Pb设为该范围内，既能够优化导电性与辨认性的平衡，又能够实现所需的透射率。

[0090] 在第1检测电极12和第2检测电极13中，出于可见光透射率、例如380nm～780nm的波长区域中的透射率这点，开口率优选为85％以上，更优选为90％以上，最优选为95％以上。开口率相当于在第1检测电极12或第2检测电极13中的规定区域中，除了金属细线12N、13N之外的开口区域(透光部)占整体的面积比例。

[0091] 格子g1和g2在图示例中具有大致正方形的形状。此外，在本发明中，不限于此，也可以是其它多边形状(例如三角形、四边形、六边形、菱形、随机多边形)。此外，除了可以将一个边的形状设为直线状以外，还可以设为弯曲形状，也可以设为圆弧状。在设为圆弧状的情况下，例如，针对对置的2个边，可以设为朝外侧凸出的圆弧状，针对其它对置的2个边，可以设为朝内侧凸出的圆弧状。此外，也可以将各边的形状设为朝外侧凸出的圆弧和朝内侧凸出的圆弧连续的波线形状。当然，也可以将各边的形状设为正弦曲线或余弦曲线。在格子形状为正多边形的情况下，将边的长度作为间距。在格子形状不是正多边形的情况下，在相邻格子之间，将格子的中心间距离作为间距。在随机的格子形状的情况下按30个格子测定间距，将其平均值作为间距。

[0092] 此外，在图2的(A)和(B)所示的例子中，图2的(A)所示的第1检测电极12的电极宽度与图2的(B)所示的第2检测电极13的电极宽度相等，但本发明不限于此，在本发明的其它实施方式中，第1检测电极12的电极宽度也可以小于第2检测电极13的电极宽度。此处，电极宽度定义为沿着1个方向延伸的网眼状的导电线的1个方向的其正交方向的两侧的包络线的间隔(宽度)。即，第1检测电极12的电极宽度定义为沿x方向延伸的网眼状导电线的y方向两侧的包络线的间隔(宽度)，第2检测电极13的电极宽度定义为沿y方向延伸的网眼状导电线的x方向两侧的包络线的间隔(宽度)。

[0093] 这样使第1检测电极12的电极宽度小于第2检测电极13的电极宽度的原因在于，来自第2检测电极13的电场被第1检测电极12屏蔽的面积减小，用手指接触时的静电电容的变化量增大，即提高S/N比。在该情况下，电极宽度较小的电极为观察者侧的电极，电极宽度较大的电极配置在显示装置侧。因此，通过使构成电极宽度较大的电极的金属细线的线宽小于构成电极宽度较小的电极的金属细线的线宽，由此得到本发明效果。

[0094] (静电电容式触摸屏传感器)

[0095] 图3是示出具有由上述的片状导电体1构成的检测区域的静电电容式触摸屏传感器10的整体结构的俯视图。

[0096] 图3所示的静电电容式触摸屏传感器10是如下传感器：其被配置在显示装置(未图示)的显示画面上(操作者侧)，利用人类的手指等外部导体接触或接近时产生的静电电容的变化，检测人类的手指等外部导体的位置。

[0097] 静电电容式触摸屏传感器10的结构没有特别限制，通常具有检测电极(尤其是，沿x方向延伸的检测电极和沿y方向延伸的检测电极)，通过检测手指接触或接近的检测电极的静电电容变化，由此确定手指的坐标。

[0098] 静电电容式触摸屏传感器由检测区域E1和外侧区域E0构成。检测区域E1是能够由使用者进行输入操作的区域(能够检测物体的接触的输入区域(感测部))，在位于检测区域E1的外侧的外侧区域E0，配置有第1引出配线22、第2引出配线23和柔性印刷配线板31。

[0099] 检测区域E1由在图1和图2的(A)和(B)中说明的基板11、第1检测电极12、和第2检测电极13构成，第1检测电极12被配置在基板11的观察侧的面上，第2检测电极13被配置在基板11的与观察侧相反侧的面、即与形成有第1检测电极的面相反侧的面上。沿x方向延伸的多个第1检测电极12和沿y方向延伸的多个第2检测电极13隔着基板11交叉。

[0100] 第1检测电极12和第2检测电极13是感知静电电容的变化的感测电极，构成感知部(传感器部)。即，在使手指尖与检测区域E1接触时，第1检测电极12和第2检测电极13之间的相互静电电容发生变化，基于该变化量，利用IC电路，来对手指尖的位置进行运算。

[0101] 第1检测电极12具有检测与检测区域E1接近的使用者的手指在x方向上的输入位置的作用，具有与手指之间产生静电电容的功能。第1检测电极12是沿第1方向(x方向)延伸且在与第1方向正交的第2方向(y方向)上隔开规定的间隔排列的电极，具有图2的(A)所示的规定的网眼状的图案。

[0102] 第2检测电极13具有检测与检测区域E1接近的使用者的手指在y方向上的输入位置的作用，具有与手指之间产生静电电容的功能。第2检测电极13是沿第2方向(y方向)延伸且在第1方向(x方向)上隔开规定的间隔排列的电极，具有图2的(B)所示的规定的网眼状的图案。在图3中，第1检测电极12设置有5个，第2检测电极13设置有5个，但其数量没有特别限制。

[0103] 外侧区域E0由从检测区域E1连续地延伸的基板11、配置在基板11上的第1引出配线22、第2引出配线23和柔性印刷配线板31构成。

[0104] 第1引出配线22和第2引出配线23是发挥用于分别向上述第1检测电极12和第2检测电极13施加电压的作用的部件。

[0105] 第1引出配线22的一端与对应的第1检测电极12电连接，另一端与柔性印刷配线板31电连接。

[0106] 第2引出配线23的一端与对应的第2检测电极13电连接，另一端与柔性印刷配线板31电连接。

[0107] 此外，在图3中记载了，第1引出配线22为5条，第2引出配线23为5条，但其数量没有特别限制，通常根据检测电极的数量来配置。

[0108] 作为构成第1引出配线22和第2引出配线23的材料，例如可举出金(Au)、银(Ag)、铜(Cu)等金属或氧化锡、氧化锌、氧化镉、氧化镓、氧化钛等金属氧化物等。其中，出于导电性优异的原因，优选为银。此外，也可以由银膏、铜膏等金属膏、铝(Al)、钼(Mo)等金属或合金薄膜构成。在为金属膏的情况下，适当使用丝网印刷或喷墨印刷法，在金属或合金薄膜的情况下，适当使用通过光刻法对溅射膜进行图案化的方法等。

[0109] 此外，在第1引出配线22和第2引出配线23中，出于与基板11的贴合性更优这点，优选包含结合剂。结合剂的种类为上述那样。

[0110] 柔性印刷配线板31是在基板上设置有多个配线和端子而成的板，起到连接第1引出配线22各自的另一端和第2引出配线23各自的另一端，并连接静电电容式触摸屏传感器10与外部装置(例如显示装置)的作用。

[0111] (触摸屏显示器)

[0112] 将上述的静电电容式触摸屏传感器10的检测区域E1设置在显示装置(未图示)的显示画面上，并由保护罩覆盖，由此构成触摸屏显示器。此外，在静电电容式触摸屏传感器10与显示装置的接合以及静电电容式触摸屏与保护罩的接合中，可以使用透明的粘接片。

[0113] 用户确认触摸屏显示器的显示画面中显示的输入操作用图像等，碰触与输入操作用图像等对应的触摸面，由此，能够进行通过触摸屏传感器的各种输入操作。

[0114] (保护罩)

[0115] 保护罩是配置在粘接片上的基板，起到从外部环境保护静电电容式触摸屏传感器的作用，而且，其主面构成触摸面。

[0116] 作为保护罩，优选为透明基板，可使用塑料膜、塑料板、玻璃板等。期望的是，基板的厚度根据各自的用途来适当选择。

[0117] 作为上述塑料膜和塑料板的原料，例如可以使用：聚乙烯对苯二甲酸酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等聚酯类；聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯、乙烯·醋酸乙烯基共聚物(EVA)等聚烯烃类；聚乙烯类树脂；聚碳酸酯(PC)、聚酰胺、聚酰亚胺、丙烯树脂、三乙醯纤维素(TAC)、环烯烃类树脂(COP)等。

[0118] 此外，作为保护罩，可以使用偏光板、圆偏光板等。

[0119] (显示装置)

[0120] 虽然没有图示，但显示装置是具有显示图像的显示画面的装置，在显示画面侧配置有各部件。

[0121] 显示装置的种类没有特别限制，可以使用公知的显示装置。例如，可举出阴极射线管(CRT)显示装置、液晶显示装置(LCD)、有机发光二极管(OLED)显示装置、真空荧光显示器(VFD)、等离子显示器(PDP)、表面电场显示器(SED)或场致发射显示器(FED)或电子纸(E-Paper)等。

[0122] (片状导电体的制造方法)

[0123] 片状导电体的制造方法没有特别限制，可以采用公知的方法。此外，片状导电体不仅是具有检测电极的检测区域E1，具有引出配线的外侧区域E0也能够一体形成。例如，可举出如下方法：对在基板11的两主面上形成的金属箔上的光致抗蚀剂膜进行曝光/显影处理，形成抗蚀剂图案，对从抗蚀剂图案露出的金属箔进行蚀刻。此外，可举出如下方法：在基板11的两主面上印刷包含金属微粒或金属纳米线的膏并烧结后，进行金属镀覆。此外，可举出在基板11上通过丝网印刷版或凹版相片印刷版印刷形成的方法或通过喷墨来形成的方法。

[0124] 此外，除了上述方法以外，还可举出使用卤化银的方法。更具体而言，可举出如下具有如下工序的方法：工序(1)，在基板11的双面上，分别形成含有卤化银和结合剂的卤化银乳剂层(以后，也简单称作感光性层)；以及工序(2)，在对感光性层曝光之后，显影处理。

[0125] 以下，对各工序进行说明。

[0126] [工序(1)：感光性层形成工序]

[0127] 工序(1)是在基板11的双面上形成含有卤化银和结合剂的感光性层的工序。

[0128] 形成感光性层的方法没有特别限制，出于生产率这点，优选为如下方法：使含有卤化银和结合剂的感光性层形成用组合物与基板11接触，在基板11的双面上形成感光性层。

[0129] 以下，在对在上述方法中使用的感光性层形成用组合物的方式进行详细记述后，对工序的步骤进行详细记述。

[0130] 感光性层形成用组合物中含有卤化银和结合剂。

[0131] 卤化银中含有的卤素元素可以是氯、溴、碘和氟中的任意一种，也可以组合它们。作为卤化银，例如，优选使用以氯化银、溴化银、碘化银为主体的卤化银，更优选使用以溴化银或氯化银为主体的卤化银。

[0132] 所使用的结合剂的种类如上述的那样。此外，结合剂也可以以乳胶的方式包含在感光性层形成用组合物中。

[0133] 感光性层形成用组合物中包含的卤化银和结合剂的体积比没有特别限制，按上述金属细线12N、13N中的金属与结合剂的合适的体积比的范围而适当调整。

[0134] 在感光性层形成用组合物中，根据需要含有溶剂。

[0135] 作为所使用的溶剂，例如可举出水、有机溶剂(例如甲醇等酒精类、丙酮等酮类、甲酰胺等醯胺类、二甲基亚砜等亚砜类、醋酸乙酯等酯类、醚类等)、离子性液体、或它们的混合溶剂。

[0136] 所使用的溶剂的含有量没有特别限制，相对于卤化银和结合剂的合计质量，优选为30质量％～90质量％的范围，更优选为50质量％～80质量％的范围。

[0137] (工序的步骤)

[0138] 对使感光性层形成用组合物与基板11接触的方法没有特别限制，可以采用公知的方法。例如，可举出在基板11上涂布感光性层形成用组合物的方法或将基板11浸渍在感光性层形成用组合物中的方法等。

[0139] 所形成的感光性层中的结合剂的含有量没有特别限制，优选为0.3g/m2～5.0g/m2，更优选为0.5g/m2～2.0g/m2。

[0140] 此外，感光性层中的卤化银的含有量没有特别限制，出于金属细线12N、13N的导电2 2 2 2
特性更优这点，按银换算优选为1.0g/m～20.0g/m，更优选为5.0g/m～15.0g/m。

[0141] 此外，根据需要，可以在感光性层上进一步设置由结合剂构成的保护层。通过设置保护层，防止擦伤以及改善力学特性。

[0142] [工序(2)：曝光显影工序]

[0143] 工序(2)是如下工序：在对通过上述工序(1)得到的感光性层进行图案曝光后，通过显影处理，形成由网眼状的金属细线12N构成的第1检测电极12和第1引出配线22、由网眼状的金属细线13N构成的第2检测电极13和第2引出配线23。

[0144] 首先，以下，对图案曝光处理进行详细记述，然后，对显影处理进行详细记述。

[0145] (图案曝光)

[0146] 对感光性层实施图案状的曝光，由此，曝光区域中的感光性层中的卤化银形成潜像。形成有该潜像的区域通过后述的显影处理形成网眼状的金属细线。另一方面，在未进行曝光的未曝光区域中，在后述的定影处理时，卤化银溶解而从感光性层流出，得到透明的膜，形成作为透光部的开口区域。

[0147] 曝光时使用的光源没有特别限制，可举出可见光线、紫外线等光或X线等放射线等。

[0148] 进行图案曝光的方法没有特别限制，例如，可以通过利用了光掩模的面曝光来进行，也可以通过基于激光束的扫描曝光来进行。此外，图案的形状没有特别限制，可根据希望形成的金属细线的图案而适当调整。

[0149] (显影处理)

[0150] 显影处理的方法没有特别限制，可以采用公知的方法。例如，可以使用在银盐摄影胶卷、印像纸、印刷制版用膜、光掩模用乳液掩模等中使用的通常的显影处理的技术。

[0151] 显影处理时使用的显影液的种类没有特别限制，例如可以使用PQ显影液、MQ显影液、MAA显影液等。在销售品中，例如可以使用富士胶片公司处方的CN-16、CR-56、CP45X、FD-3、PAPITOL、KODAK公司处方的C-41、E-6、RA-4、D-19、D-72等显影液或其套件中包含的显影液。此外，可以使用LITH显影液。

[0152] 显影处理可以包含为了去除未曝光部分的银盐、变得稳定化而进行的定影处理。定影处理可以使用在银盐摄影胶卷、印像纸、印刷制版用膜、或光掩模用乳液掩模等中使用的定影处理的技术。

[0153] 定影工序中的定影温度优选为20℃～50℃，更优选为25～45℃。此外，定影时间优选为5秒～1分，更优选为7秒～50秒。

[0154] 显影处理后的曝光部(金属细线)中包含的金属银的质量相对于曝光前的曝光部中包含的银的质量优选为50质量％以上的含有率，更优选为80质量％以上。如果曝光部中包含的银质量相对于曝光前的曝光部中包含的银的质量为50质量％以上，则能够得到较高的导电性，因而是优选的。

[0155] 除了上述工序以外，还可以根据需要，实施以下的下涂层形成工序、反光晕层形成工序或加热处理。

[0156] (下涂层形成工序)

[0157] 出于基板11与卤化银乳剂层的贴合性优异的原因，优选在上述工序(1)之前，实施在基板11的双面上形成包含上述结合剂的下涂层的工序。

[0158] 所使用的结合剂如上述的那样。下涂层的厚度没有特别限制，出于贴合性和进一步抑制相互静电电容的变化率这点，优选为0.01μm～0.5μm，更优选为0.01μm～0.1μm。

[0159] (反光晕层形成工序)

[0160] 出于金属细线12N、13N的细线化的观点，优选实施在下涂层上形成反光晕层的工序。

[0161] (工序(3)：加热工序)

[0162] 工序(3)是在上述显影处理之后实施加热处理的工序。通过实施本工序，在结合剂之间发生熔接，使得金属细线12N、13N的硬度进一步提高。尤其是，当在感光性层形成用组合物中分散有聚合物粒子作为结合剂的情况下(结合剂为乳胶中的聚合物粒子的情况下)，通过实施本工序，使得在聚合物粒子之间发生熔接，形成表现出期望的硬度的金属细线12N、13N。

[0163] 加热处理的条件根据所使用的结合剂而适当选择合适的条件，但出于聚合物粒子的造膜温度的观点，优选为40℃以上，更优选为50℃以上，进一步优选为60℃以上。此外，出于抑制基板的挠曲等的观点，优选为150℃以下，更优选为100℃以下。

[0164] 加热时间没有特别限定，出于抑制基板的挠曲等的观点和生产率的观点，优选为1分钟～5分钟，更优选为1分钟～3分钟。

[0165] 此外，该加热处理通常能够兼用作在曝光、显影处理之后进行的干燥工序，因此，不需要为了聚合物粒子的成膜而增加新的工序，出于生产率、成本等观点是优良的。

[0166] 此外，通过实施上述工序，在金属细线12N之间的开口区域和金属细线13N之间的开口区域形成包含结合剂的透光部。透光部中的透射率为380nm～780nm的波长区域中的透射率、即可见光透射率的最小值所示的透射率优选为90％以上，更优选为95％以上，进一步优选为97％以上，特别优选为98％以上，最优选为99％以上。

[0167] 此外，在上述的片状导电体的制造方法中，在基板11的一个面上形成第1检测电极12和第1引出配线22，在另一个面上形成第2检测电极13和第2引出配线23，不是必须在基板的双面上形成这些检测电极和引出配线，可以仅在基板的单面形成任意一个的检测电极和引出配线。

[0168] 本发明的实施方式1的片状导电体和触摸屏基本上如上述那样构成。

[0169] (实施方式2)

[0170] 本发明的片状导电体的方式不限于上述图1的方式，也可以是其它方式。例如，也可以是图4所示的方式的片状导电体。

[0171] 图4是示意性示出本发明的实施方式2的片状导电体的检测区域的一部分的概略局部剖视图。

[0172] 如图4所示，本实施方式2的片状导电体101具有：第1基板111；第2基板211；第1检测电极12，其被这些基板111、211夹着配置在第1基板111上；粘接片40；以及第2检测电极13，其被配置在第2基板211上。在片状导电体101中，第1检测电极12和第2检测电极13由粘接片40接合。

[0173] 此外，在图4所示的实施方式2的说明中，为了简化，仅进行了图3的检测区域E1内的结构的说明，省略了与外侧区域E0的第1引出配线、第2引出配线和柔性印刷配线板相关的说明。

[0174] 如图4所示，片状导电体101是使在第1基板111上形成的第1检测电极12与在第2基板211上形成的第2检测电极13相对而通过粘接片40黏合而成的。片状导电体101除了第1基板111和第2基板211以及配置在第1检测电极12和第2检测电极13之间的粘接片40不同这点以外，具有与图1的片状导电体1相同的结构，因此，对相同构成要素标注相同参照符号，省略其说明。此外，第1检测电极12和第2检测电极13通过与上述的片状导电体的制造方法相同的方法分别在第1基板111和第2基板211上形成。

[0175] 第1基板111和第2基板211具有与上述基板11相同的结构，因此，此处省略其说明，在本实施方式中，第1基板111和第2基板211配置在片状导电体101的两外侧(图中上表面和下表面)，因此，发挥作为上述保护罩的作用。此外，也可以使第1检测电极12与第1基板111之间以及第2检测电极13与第2基板211之间具有剥离性，使第1基板111和第2基板211从片状导电体101剥离。由此，可以作为由第1检测电极12、第2检测电极13和粘接片40构成的片状导电体单元101a来使用。

[0176] 粘接片40构成本发明的绝缘体，与图1所示的基板11同样地具有电绝缘性，使第1检测电极12与第2检测电极13之间电绝缘，并且，粘接片40是用于在其双面上分别贴合第1检测电极12和第2检测电极13的层，粘接片40优选光学透明、即透明的绝缘性粘接片。作为构成粘接片40的材料，使用了公知的材料。此外，粘接片40发挥基板11的作用，因此，优选具有与基板11相同的性能。

[0177] 此外，如图3所示，在图4所示的片状导电体101中，分别使用多个第1检测电极12和第2检测电极13，两者如图3所示那样彼此正交地配置。

[0178] (实施方式3)

[0179] 此外，作为片状导电体的其它方式，可举出图5所示的方式。

[0180] 图5是示意性示出本发明的实施方式3的片状导电体的检测区域的一部分的局部剖视图。

[0181] 如图5所示，本实施方式3的片状导电体201具有第1基板111、配置在第1基板111上的第1检测电极12、粘接片40、第2基板211和配置在第2基板211上的第2检测电极13。在片状导电体201中，通过粘接片40来接合第1检测电极12与第2基板211。

[0182] 图5所示的片状导电体201是以在第1基板111上形成的第1检测电极12与在第2基板211上形成的第2检测电极13同向重叠的方式，通过粘接片40贴合而形成的，除了图4所示的片状导电体101、第2基板211和第2检测电极13的配置不同这点以外，具有相同的结构，因此，对相同的构成要素标注相同的参照符号，省略其说明。

[0183] 此外，与上述的实施方式2的片状导电体201同样地，第1基板111被配置在片状导电体201的外侧(图中上表面)，因此，如上所述，发挥作为保护第1检测电极12的保护罩的作用。此外，也可以是在第1检测电极与第1基板111之间具有剥离性，使第1基板111从片状导电体201剥离。由此，可以作为片状导电体单元201a来使用。

[0184] 在粘接片40和第2基板211中，粘接片40与上述的片状导电体101和201同样地发挥基板11的作用，因此，优选具有与基板11相同的性能。

[0185] 此外，如图3所示，图5中的第1检测电极12和第2检测电极13分别使用多个，两者如图3所示那样彼此正交地配置。

[0186] 如上所述，根据本发明的片状导电体，使观察侧的第1检测电极的金属细线的线宽大于其相反侧的第2检测电极的金属细线的线宽，且使这些金属细线的线宽收敛于规定的范围内，由此，能够使金属细线难以辨认。

[0187] 此外，如上所述，根据本发明的片状导电体，使观察侧的第1检测电极的金属细线的线宽与其相反侧的第2检测电极的金属细线的线宽的差分收敛在规定的范围内，由此，能够使金属细线更加难以辨认。此外，片状导电体的透射率不会因这些结构而下降。

[0188] 因此，用户(操作者、观察者)在利用具有本发明的片状导电体作为触摸屏传感器的触摸屏显示器的情况下，不会因片状导电体的金属细线而难以辨认显示画面的影像，此外，即使在显示画面的影像消失的情况下、或者在触摸屏显示器的电源未接通的情况下，也难以辨认金属细线。

[0189] 以上，对本发明的片状导电体和触摸屏进行了详细说明，但本发明不限于上述实施方式，在不脱离本发明的主旨的范围内，可以进行各种改良或变更。

[0190] 实施例

[0191] (实施例)

[0192] 以下，基于实施例，对本发明进行具体说明。

[0193] 作为实施例，首先，通过以下的步骤制造片状评价用层叠导电体3，该片状评价用层叠导电体3具有与图1所示的本发明的片状导电体1相同的结构，在图6所示的片状导电体2的两侧粘合有保护罩51和52。

[0194] 此外，以下的实施例所示的材料、使用量、比例，处理内容，处理步骤等只要不脱离本发明主旨，则可适当变更。即，本发明的范围不应该按以下所示的具体例而限定性解释。

[0195] (卤化银乳剂的调制)

[0196] 在保持38℃且pH4.5的下述1液中，在20分钟期间内，在搅拌的同时添加分别与下述的2液和3液的90％相当的量，形成0.16μm的核粒子。接下来，在8分钟期间内，添加下述4液和5液，此外，在2分钟期间，添加下述的2液和3液的剩余的10％的量，核粒子成长到0.21μm。此外，添加碘化钾0.15g，经过5分钟成熟，结束粒子形成。

[0197] 1液：

[0198]

[0199] 2液：

[0200] 水                  300ml

[0201] 硝酸银              150g

[0202] 3液：

[0203]

[0204] 4液：

[0205] 水                   100ml

[0206] 硝酸银               50g

[0207] 5液：

[0208]

[0209] 然后，按照通常方式，利用凝聚(flocculation)法进行水洗。具体而言，使温度下降到35℃，使用硫酸降低pH，直至卤化银沉降(pH3.6±0.2的范围)。接下来，去除大约3升上澄液(第一水洗)。进而，添加3升蒸留水后，添加硫酸，直至卤化银沉降。再次，去除3升上澄液(第二水洗)。进而，重复1次与第二水洗相同的操作，(第三水洗)，结束水洗·脱盐工序。将水洗·脱盐后的乳剂调整为pH6.4、pAg7.5，添加3.9g明胶、10mg苯硫代磺酸钠、3mg苯硫代亚磺酸钠、10mg硫代硫酸钠15mg和氯化金酸，实施化学增感，以在55℃得到最优灵敏度，添加100mg的1，3，3a，7-C6H5ClN4作为稳定剂，添加100mg PROXEL(商品名，ICI有限公司制)作为防腐剂。最终得到的乳剂包含0.08摩尔％的碘化银，将氯溴化银的比率设为氯化银70摩尔％，溴化银30摩尔％，平均粒径0.22μm、变动系数9％的碘氯溴化银立方体粒子乳剂。

[0210] (感光性层形成用组合物的调制)

[0211] 在上述乳剂中添加1，3，3a，7-C6H5ClN4 1.2×10-4摩尔/摩尔Ag、对苯二酚1.2×10-2摩尔/摩尔Ag、柠檬酸3.0×10-4摩尔/摩尔Ag、2，4-二氯-6-羟基-1，3，5-三嗪钠盐
0.90g/摩尔Ag，使用柠檬酸，将涂布液pH调整为5.6，得到感光性层形成用组合物。

[0212] (感光性层形成工序)

[0213] 在作为图6所示的片状评价用层叠导电体3的片状导电体2的基板311的、宽度为30cm、厚度为100μm的聚乙烯对苯二甲酸酯(PET)片的双面上，设置厚度为0.1μm的明胶层作为下涂层，进而，在下涂层上设置反光晕层，该反光晕层包含以光学浓度约1.0并利用显影液的碱脱色的染料。

[0214] 在上述反光晕层上，以25cm的宽度，涂布20cm上述感光性层形成用组合物，进而，设置厚度为0.15μm的明胶层，以在涂布的中央部剩余24cm的方式，将两端分别切除3cm，得到在双面上形成有感光性层的PET片。在带有该感光性层的PET片上形成的感光性层的银量为4.8g/m2，明胶量为1.0g/m2。

[0215] (曝光显影工序)

[0216] 制造后述的第1检测电极(图中上表面)112的和第2检测电极(图中下表面)113的电极图案的光掩模，经由这些光掩模，使用以高压水银灯为光源的平行光对带感光性层的PET片进行曝光。在曝光后，利用下述的显影液进行显影，进而，使用定影液(商品名：CN16X用N3X-R、富士胶片公司制)进行显影处理。此外，利用纯水进行清洗，干燥，由此，得到在基板311的双面上具有由Ag细线构成的第1检测电极112和第2检测电极113的片状导电体2。

[0217] (电极图案)

[0218] 此外，第1检测电极112和第2检测电极113的电极图案如下述这样。

[0219] 第1检测电极112的电极图案为如下正方形：各格子的一边的长度为400μm，构成网眼的Ag细线的交叉角度为90°，Ag细线的线宽为5.5μm。

[0220] 第2检测电极113的电极图案的Ag细线的线宽为3μm，此外与第1检测电极112的电极图案相同。

[0221] 此外，在所得到的片状导电体2中，第1检测电极112和第2检测电极113由网眼状交叉的Ag细线构成。此外，如上所述，第1检测电极112是沿x方向延伸的电极，第2检测电极113是沿y方向延伸的电极，第1检测电极112和第2检测电极113各自以4.5mm间距配置在基板(PET片)311上。

[0222] 接下来，制造片状评价用层叠导电体3。

[0223] 使用所得到的片状导电体2，在片状导电体2的外侧(图中上下)双面上，配置由厚度为100μm的保护罩和粘接层构成的透明粘接片(OCA：Optical Clear Adhesive)，从透明粘接片的双面，以厚度为5mm的玻璃基板夹着该透明粘接片，使用2kg重辊进行贴合。然后，在高压恒温槽中，在40℃、5个大气压的环境中，对所得到的带透明粘接片的片状导电体进行20分种的脱泡处理。

[0224] 这样，如图6所示，得到从观察侧(图中上)朝向其相反侧(图中下)依次层叠有第1保护罩51、第1粘接层141、第1检测电极112、基板311、第2检测电极113、第2粘接层142、和第2保护罩52而成的片状评价用层叠导电体3。

[0225] 将这样得到的片状评价用层叠导电体3切割为4cm×5cm的矩形，设为实施例1。

[0226] 此外，第1检测电极112和第2检测电极113的电极图案的线宽是在与金属细线的延伸方向垂直的面将片状评价用层叠导电体3的样品切断，利用电子显微镜观测细线截面的横向宽度(与基板呈水平的方向的最大宽度)而测定出的(10个部位的平均值)。此外，使用电子显微镜，测定实际制造出的光掩模的电极图案的线宽。结果可以确认，片状评价用层叠导电体3的第1检测电极112的金属细线的线宽和第2检测电极113的金属细线的线宽分别与对应的上述的光掩模的电极图案的线宽相等。

[0227] 此外，使用具有不同线宽的电极图案的光掩模，制造如以下的表1所示那样分别改变了第1检测电极的细线的线宽(以下，称作上表面线宽)和第2检测电极的细线的线宽(以下，称作下表面线宽)的片状评价用层叠导电体3，切割为规定的矩形，设为实施例2～11和比较例1～5。

[0228] [表1]

[0229]

[0230] (评价)

[0231] 将以上的实施例1～11和比较例1～5载置在黑色板上，以下表面电极113为下侧，在从上方照射白色光的状态下，在与这些片状评价用层叠导电体3相距30cm～50cm的高度，以俯角45°进行目视观察。

[0232] 此时，针对金属细线的辨认性，按照明显地观察到金属细线的级别为“1”、一定程度上观察到但不怎么引起注意的级别为“2”、几乎不能观察到的级别为“3”、完全不能观察到的级别为“4”的评价基准，由2名研究员分别进行官能评价，取其平均作为评分。此处，在本发明中，能够允许的金属细线的辨认性的评分为“2”以上。

[0233] 此外，为了对上述的实施例1～11和比较例1～5确认透明性良否，使用分光光度计来测定透射率。

[0234] 在表1中一并示出以上的辨认性的评价结果和测定出的透射率，此外，针对辨认性的评价结果，以下表面线宽为x轴，以上表面线宽为y轴，描绘出图7所示的曲线图。

[0235] 此外，由图7的虚线Sa-Sb夹着的范围是由上述式(2)表示的范围，图7的实线Sc-Sd夹着的范围是由上述式(3)式表示的范围。

[0236] 如表1和图7所示，实施例1～11的评分为2以上，金属细线的辨认性为能够接受的级别或辨认性为良，其中，实施例1～11满足上述式(1)和(2)、即上表面线宽和下表面线宽均为0.5μm以上且10μm以下，上表面线宽大于下表面线宽，上表面线宽和下表面线宽的差分为4μm以下，与此相对，不满足上述式(1)或(2)的比较例1-5的评分为1.5以下，是金属细线的辨认性为不能接受的级别，其中，比较例1-4的上表面线宽小于下表面线宽，比较例5的上表面线宽相比下表面线宽过大，其差分过大。即，可知与比较例1～5相比，实施例1～11的金属细线存在辨认不出或者难以辨认的趋势，能够提高辨认性。

[0237] 此外，实施例6～11的评分为3以上，评分高于实施例1～5，其中，实施例6～11满足上述的(3)式即上表面线宽和下表面线宽的差分为0.5μm以上且2.0μm以下，实施例1～5的上表面线宽和下表面线宽的差分小于0.5μm或大于2.0μm，评分为2.5以下。即，可知通过进一步限定上表面线宽与下表面线宽的差分的收敛范围，能够成为完全或几乎观察不到金属细线的级别，能够进一步提高辨认性。

[0238] 如上所述，通过本发明的实施例，使观察侧的第1检测电极(例如上表面检测电极)的线宽大于其相反侧的第2检测电极(例如下表面检测电极)的线宽，使这些第1检测电极和第2检测电极的线宽收敛在规定的范围内，且使两电极的线宽的差分收敛在规定的范围内，由此，能够在不降低透射率的情况下，成为完全或几乎观察不到金属细线的级别或者几乎注意不到金属细线的级别，能够提高辨认性。

[0239] 通过以上说明，本发明效果变得清楚。

[0240] 标号说明

[0241] 1、2、101、201 片状导电体；3 片状评价用层叠导电体；10 静电电容式触摸屏传感器；11、311 基板；12、112 第1检测电极(上表面检测电极)；12N 金属细线；13、113 第2检测电极(下表面检测电极)；13N 金属细线；22 第1引出配线；23 第2引出配线；31 柔性印刷配线板；40 粘接片；51 上部保护罩；52 下部保护罩；111 第1基板；141 上部粘接层；142 下部粘接层；211 第2基板；E0 外侧区域；E1 检测区域；Pa、Pb 线间距；Wa、Wb 线宽；g1、g2 格子。