OLED薄膜封装结构及其制作方法转让专利

申请号 : CN201610623611.0

文献号 : CN106129267B

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法律信息:

相似专利:

发明人 : 陈永胜徐湘伦

申请人 : 武汉华星光电技术有限公司

摘要 :

本发明提供一种OLED薄膜封装结构及其制作方法,该一种OLED薄膜封装结构包括:一基板;第一有机层,其设置于所述基板上;第一无机层,其设置于所述第一有机层以及所述基板上,所述第一无机层为疏水层;第二有机层,其设置于所述第一无机层上;第二无机层,其设置于所述第一无机层以及所述第二有机层上,所述第二无机层为疏水层;所述第一有机层和/或所述第二有机层上设置有多个间隔分布的第一凸起。本发明的OLED薄膜封装结构通过在第一有机层或第二有机层设置多个第一凸起从而形成微结构,达到增加出光亮度,提高出光效率的目的。

权利要求 :

1.一种OLED薄膜封装结构,其特征在于,包括:

一基板;

第一有机层,其设置于所述基板上;

第一无机层,其设置于所述第一有机层以及所述基板上,所述第一无机层为疏水层;

第二有机层,其设置于所述第一无机层上;

第二无机层,其设置于所述第一无机层以及所述第二有机层上,所述第二无机层为疏水层;

所述第一有机层设置有多个间隔分布的第一凸起,所述第一无机层的远离所述第一有机层的一面设置有多个第二凸起,每一所述第二凸起分别与一所述第一凸起对应并正对;

所述第二有机层朝向所述第一无机层的一面设置有多个第一凹槽,每一所述第二凸起分别与一所述第一凹槽对应且适配,每一所述第二凸起分别收容在对应的第一凹槽中。

2.根据权利要求1所述的OLED薄膜封装结构,其特征在于,所述第一凸起呈圆球状、半圆球状、椭圆球状或半椭圆球状。

3.根据权利要求1或2所述的OLED薄膜封装结构,其特征在于,该多个第一凸起呈矩形阵列分布。

4.根据权利要求1所述的OLED薄膜封装结构,其特征在于,所述第二有机层设置有所述多个间隔分布的第一凸起,所述第二无机层的远离所述第二有机层的一面设置有多个第三凸起,每一所述第三凸起分别与一所述第一凸起对应并正对。

5.一种OLED薄膜封装结构的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:在基板上形成第一有机层;

在所述第一有机层以及所述基板上形成第一无机层,所述第一无机层为疏水层;

在所述第一无机层上形成第二有机层;

在所述第一无机层以及所述第二有机层上形成第二无机层,所述第二无机层为疏水层;

所述第一有机层设置有多个间隔分布的第一凸起,所述第一无机层的远离所述第一有机层的一面设置有多个第二凸起,每一所述第二凸起分别与一所述第一凸起对应并正对;

所述第二有机层朝向所述第一无机层的一面设置有多个第一凹槽,每一所述第二凸起分别与一所述第一凹槽对应且适配,每一所述第二凸起分别收容在对应的第一凹槽中。

6.根据权利要求5所述的OLED薄膜封装结构的制作方法,其特征在于,所述第一凸起呈圆球状、半圆球状、椭圆球状或半椭圆球状。

7.根据权利要求5所述的OLED薄膜封装结构的制作方法,其特征在于,所述第二有机层设置有所述多个间隔分布的第一凸起,所述第二无机层的远离所述第二有机层的一面设置有多个第三凸起,每一所述第三凸起分别与一所述第一凸起对应并正对。

8.根据权利要求5所述的OLED薄膜封装结构的制作方法,其特征在于,该多个第一凸起呈矩形阵列分布。

说明书 :

OLED薄膜封装结构及其制作方法

技术领域

[0001] 本发明涉及薄膜封装领域,特别是涉及一种OLED薄膜封装结构及其制作方法。

背景技术

[0002] 因为OLED薄膜封装结构中有机、无机堆叠的膜层都是逐水氧膜层,并没有增光效果,且薄膜封装结构的有机膜层中因为黏度的关系,膜层表面相当平坦,且材料折射率也大
多固定在1.5~1.6之间,对光学效应并没有多大影响,增光效果较差。
[0003] 因此,现有技术存在缺陷,急需改进。

发明内容

[0004] 本发明的目的在于提供一种OLED薄膜封装结构及其制作方法;以解决现有的OLED薄膜封装结构的增光效果差的技术问题。
[0005] 为解决上述技术问题,本发明提供一种OLED薄膜封装结构,包括:
[0006] 一基板;
[0007] 第一有机层,其设置于所述基板上;
[0008] 第一无机层,其设置于所述第一有机层以及所述基板上,所述第一无机层为疏水层;
[0009] 第二有机层,其设置于所述第一无机层上;
[0010] 第二无机层,其设置于所述第一无机层以及所述第二有机层上,所述第二无机层为疏水层;
[0011] 所述第一有机层和/或所述第二有机层上设置有多个间隔分布的第一凸起。
[0012] 在本发明所述的OLED薄膜封装结构中,所述第一凸起呈圆球状、半圆球状、椭圆球状或半椭圆球状。
[0013] 在本发明所述的OLED薄膜封装结构中,该多个第一凸起呈矩形阵列分布。
[0014] 在本发明所述的OLED薄膜封装结构中,所述第一有机层设置有所述多个间隔分布的第一凸起,所述第一无机层的远离所述第一有机层的一面设置有多个第二凸起,每一所
述第二凸起分别与一所述第一凸起对应并正对;所述第二有机层朝向所述第一无机层的一
面设置有多个第一凹槽,每一所述第二凸起分别与一所述第一凹槽对应且适配,每一所述
第二凸起分别收容在对应的第一凹槽中。
[0015] 在本发明所述的OLED薄膜封装结构中,所述第二有机层设置有所述多个间隔分布的第一凸起,所述第二无机层的远离所述第二有机层的一面设置有多个第三凸起,每一所
述第三凸起分别与一所述第一凸起对应并正对。
[0016] 本发明还提供了一种OLED薄膜封装结构的制作方法,其特征在于,在基板上形成第一有机层;
[0017] 在所述第一有机层以及所述基板上形成第一无机层,所述第一无机层为疏水层;
[0018] 在所述第一无机层上形成第二有机层;
[0019] 在所述第一无机层以及所述第二有机层上形成第二无机层,所述第二无机层为疏水层;
[0020] 所述第一有机层和/或所述第二有机层上设置有多个间隔分布的第一凸起。
[0021] 在本发明所述的OLED薄膜封装结构的制作方法中,所述第一凸起呈圆球状、半圆球状、椭圆球状或半椭圆球状。
[0022] 在本发明所述的OLED薄膜封装结构的制作方法中,所述第一有机层设置有所述多个间隔分布的第一凸起,所述第一无机层的远离所述第一有机层的一面设置有多个第二凸
起,每一所述第二凸起分别与一所述第一凸起对应并正对;所述第二有机层朝向所述第一
无机层的一面设置有多个第一凹槽,每一所述第二凸起分别与一所述第一凹槽对应且适
配,每一所述第二凸起分别收容在对应的第一凹槽中。
[0023] 在本发明所述的OLED薄膜封装结构的制作方法中,所述第二有机层设置有所述多个间隔分布的第一凸起,所述第二无机层的远离所述第二有机层的一面设置有多个第三凸
起,每一所述第三凸起分别与一所述第一凸起对应并正对。
[0024] 在本发明所述的OLED薄膜封装结构的制作方法中,该多个第一凸起呈矩形阵列分布。
[0025] 相较于现有技术,本优选实施例的本发明实施例中的OLED薄膜封装结构通过在第一有机层或第二有机层设置多个第一凸起从而形成微结构,达到增加出光亮度,提高出光
效率的目的。
[0026] 为让本发明的上述内容能更明显易懂,下文特举优选实施例,并配合所附图式,作详细说明如下:

附图说明

[0027] 图1为本发明第一优选实施例中的OLED薄膜封装结构的结构示意图;
[0028] 图2为本发明第二优选实施例中的OLED薄膜封装结构的结构示意图;
[0029] 图3为本发明第一优选实施例中的OLED薄膜封装结构的制作方法流程图;
[0030] 图3A-3D是图3所述实施例中的OLED薄膜封装结构的制作方法的示意图;
[0031] 图4为本发明第二优选实施例中的OLED薄膜封装结构的制作方法流程图;
[0032] 图4A-4D是图4所述实施例中的OLED薄膜封装结构的制作方法的示意图。

具体实施方式

[0033] 以下各实施例的说明是参考附加的图式,用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语,例如「上」、 「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「内」、「外」、「侧面」等,仅是参考附加图式的方向。因此,使用的方向用语是用以说明及理解本发明,而非用以
限制本发明。
[0034] 在图中,结构相似的单元是以相同标号表示。
[0035] 本发明提供了一种OLED薄膜封装结构,包括:
[0036] 一基板;
[0037] 第一有机层,其设置于所述基板上;
[0038] 第一无机层,其设置于所述第一有机层以及所述基板上,所述第一无机层为疏水层;
[0039] 第二有机层,其设置于所述第一无机层上;
[0040] 第二无机层,其设置于所述第一无机层以及所述第二有机层上,所述第二无机层为疏水层;
[0041] 所述第一有机层和/或所述第二有机层上设置有多个间隔分布的第一凸起。
[0042] 请参照图1,图1为本发明的OLED薄膜封装结构的第一优选实施例的结构示意图。本优选实施例的OLED薄膜封装结构包括基板101、第一有机层102、第一无机层103、第二有
机层104以及第二无机层105。
[0043] 其中,该基板101为玻璃基板,或者塑料透明基板;
[0044] 其中,该第一有机层102设置于该基板101上。具体地,该第一有机层102由多个间隔分布且呈阵列分布的第一凸起组成,该第一凸起可以呈圆球状、半圆球状、椭圆球状或半
椭圆球状;其采用墨水喷涂印刷机器喷涂形成,并且该墨水喷涂印刷机器的 喷头旁边设置
一固化装置,可以使得喷头在喷涂的同时就可以进行固化。该第一有机层102的厚度在
100nm-1000nm之间。第一无机层103设置于第一有机层102以及基板101上,该第一无机层
103为疏水层,也可以为逐水氧膜层。其采用原子层沈积技术或者化学气相沉淀技术形成,
该疏水层的厚度在400nm-4000nm之间。该第一无机层103的远离该第一有机层102的一面上
还设置有多个第二凸起,每一第二凸起106分别与一第一凸起对应并正对,在本实施例中,
该第二凸起106呈半圆球装置或半椭圆球状。
[0045] 第二有机层104设置于第一无机层103上。该第二有机层104采用网印、IJP、Spray或是Coating等方式形成,其厚度在厚度在100nm-1000nm之间。该第二有机层的朝向该第一
无机层的一面设置有多个第一凹槽107,该多个第一凹槽107分别与该多个第二凸起106相
互适配,每一第二凸起106分别收容在一第一凹槽107中。该第一有机层102的折射率与第二
有机层的折射率不同,具体地,并且,该各个第一凸起中任意相邻两个第一凸起的折射率的
平均值均等于第二有机层104的折射率,且每一第一凸起的折射率相对于该第二有机层104
的折射率的偏差值在该第二有机层104的折射率的3%到5%之间。
[0046] 第二无机层105设置于第一无机层103以及所述第二有机层104上,所述第二无机层105为疏水层,其采用原子层沈积技术或者化学气相沉淀技术形成,该疏水层的厚度在
400nm-4000nm之间。
[0047] 由上可知,本发明实施例中的OLED薄膜封装结构通过在第一有机层设置多个第一凸起从而形成微结构,达到增加出光亮度, 提高出光效率的目的。
[0048] 请参照图2,图2为本发明的OLED薄膜封装结构的第一优选实施例的结构示意图。本优选实施例的OLED薄膜封装结构包括基板201、第一有机层202、第一无机层203、第二有
机层204以及第二无机层205。
[0049] 其中,该基板201为玻璃基板,或者塑料透明基板;
[0050] 第一有机层202设置于该基板201上。具体地,该第一有机层202采用网印、IJP、Spray等方式形成,其厚度在厚度在100nm-1000nm之间。
[0051] 第一无机层203设置于第一有机层202以及基板201上,该第一无机层203为疏水层。其采用原子层沈积技术或者化学气相沉淀技术形成,该疏水层的厚度在400nm-4000nm
之间。
[0052] 第二有机层204设置于第一无机层203上。具体地,该第二有机层202由多个间隔分布且呈阵列分布的第一凸起组成,该第一凸起可以呈圆球状、半圆球状、椭圆球状或半椭圆
球状;其采用墨水喷涂印刷机器喷涂形成,并且该墨水喷涂印刷机器的喷头旁边设置一固
化装置,可以使得喷头在喷涂的同时就可以进行固化。该第一有机层202的厚度在100nm-
1000nm之间。该第一有机层202的折射率与第二有机层204的折射率不同,并且,该第二有机
层204的各个第一凸起中任意相邻两个第一凸起的折射率的平均值均等于第一有机层202
的折射率,且每一第一凸起的折射率相对于该第一有机层202的折射率的偏差值在该第一
有机层202的折射率的3%到5%之间。
[0053] 第二无机层205设置于第一无机层203以及所述第二有机层204上,所述第二无机层205为疏水层,其采用原子层沈积技术或者化学气相沉淀技术形成,该疏水层的厚度在
400nm-4000nm之间。该第二无机层205的朝向该第二有机层204的一面设置有多个分别与该
多个第一凸起一一对应的第二凹槽(未标号),每一第一凸起分别收容于一第二凹槽中。该
第二无机层205的远离该第二有机层204的一面还设置有多个第三凸起206,该多个第三凸
起206分别与该多个第二凹槽一一对应并正对,该第二凹槽的形状以及尺寸均与对应的第
三凸起的近似或者相同。
[0054] 由上可知,本发明实施例中的OLED薄膜封装结构通过在第二有机层设置多个第一凸起从而形成微结构,达到增加出光亮度,提高出光效率的目的。
[0055] 本发明还提供了一种OLED薄膜封装结构的制作方法,包括以下步骤:
[0056] 在基板上形成第一有机层;
[0057] 在所述第一有机层以及所述基板上形成第一无机层,所述第一无机层为疏水层;
[0058] 在所述第一无机层上形成第二有机层;
[0059] 在所述第一无机层以及所述第二有机层上形成第二无机层,所述第二无机层为疏水层;
[0060] 所述第一有机层和/或所述第二有机层上设置有多个间隔分布的第一凸起。
[0061] 如图3所示,本发明第一优选实施例的OLED薄膜封装结构的制作方法包括以下步骤:
[0062] S301,在基板上形成第一有机层,该第一有机层设置有多个间隔分布的第一凸起。
[0063] S302,在该第一有机层以及该基板上形成第一无机层,该第一无机层为疏水层;
[0064] S303,在该第一无机层上形成第二有机层;
[0065] S304,在该第一无机层以及该第二有机层上形成第二无机层,该第二无机层为疏水层。
[0066] 下面结合附图3A-3D对本方法的各个步骤进行详细说明。
[0067] 在该步骤S301中,该第一有机层102由多个间隔分布且呈阵列分布的第一凸起组成,该多个第一凸起呈矩形阵列分布。该第一凸起可以呈圆球状、半圆球状、椭圆球状或半
椭圆球状;其采用墨水喷涂印刷机器喷涂形成,并且该墨水喷涂印刷机器的喷头旁边设置
一固化装置,可以使得喷头在喷涂的同时就可以进行固化。该第一有机层102的厚度在
100nm-1000nm之间。如图3A所示,转至步骤S302。
[0068] 在该步骤S302中,该第一无机层采用原子层沈积技术或者化学气相沉淀技术形成,该疏水层的厚度在400nm-4000nm之间。该第一无机层103的远离该第一有机层102的一
面上还设置有多个第二凸起,每一第二凸起106分别与一第一凸起对应并正对,在 本实施
例中,该第二凸起106呈半圆球装置或半椭圆球状。如图3B所示,转至步骤S303。
[0069] 在该步骤S303中,该第二有机层104采用网印、IJP、Spray等方式形成,其厚度在厚度在100nm-1000nm之间。该第二有机层的朝向该第一无机层的一面设置有多个第一凹槽
107,该多个第一凹槽107分别与该多个第二凸起106相互适配,每一第二凸起106分别收容
在一第一凹槽107中。如图3C所示,转至步骤S304。
[0070] 在该步骤S304中,该第二无机层105采用原子层沈积技术或者化学气相沉淀技术形成,该疏水层的厚度在400nm-4000nm之间。如图3D所示。
[0071] 如图4所示,本发明第二优选实施例的OLED薄膜封装结构的制作方法包括以下步骤:
[0072] S401,在基板上形成第一有机层。
[0073] S402,在该第一有机层以及该基板上形成第一无机层,该第一无机层为疏水层;
[0074] S403,在该第一无机层上形成第二有机层;,该第二有机层设置有多个间隔分布的第一凸起
[0075] S404,在该第一无机层以及该第二有机层上形成第二无机层,该第二无机层为疏水层。
[0076] 下面结合附图4A-4D对本方法的各个步骤进行详细说明。
[0077] 在该步骤S401中,该第一有机层202采用网印、IJP、Spray等方式形成,其厚度在厚度在100nm-1000nm之间。如图4A所示,转至步骤S402。
[0078] 在该步骤S402中,该第二无机层203采用原子层沈积技术或者化学气相沉淀技术形成,该疏水层的厚度在400nm-4000nm之间。如图4B所示,转至步骤S403。
[0079] 在该步骤S403中,该第二有机层202由多个间隔分布且呈阵列分布的第一凸起组成,该第一凸起可以呈圆球状、半圆球状、椭圆球状或半椭圆球状;其采用墨水喷涂印刷机
器喷涂形成,并且该墨水喷涂印刷机器的喷头旁边设置一固化装置,可以使得喷头在喷涂
的同时就可以进行固化。该第一有机层202的厚度在100nm-1000nm之间。如图4C所示,转至
步骤S404。
[0080] 在该步骤S404中,采用原子层沈积技术或者化学气相沉淀技术形成,该疏水层的厚度在400nm-4000nm之间。该第二无机层205的朝向该第二有机层204的一面设置有多个分
别与该多个第一凸起一一对应的第二凹槽(未标号),每一第一凸起分别收容于一第二凹槽
中。该第二无机层205的远离该第二有机层204的一面还设置有多个第三凸起206,该多个第
三凸起206分别与该多个第二凹槽一一对应并正对,该第二凹槽的形状以及尺寸均与对应
的第三凸起的近似或者相同。如图4D所示。
[0081] 由上可知,本发明实施例中的OLED薄膜封装结构的制作方法通过在第二有机层设置多个第一凸起从而形成微结构,达到增加出光亮度,提高出光效率的目的。
[0082] 由上可知,本发明实施例中的OLED薄膜封装结构的制作方法通过在第一有机层设置多个第一凸起从而形成微结构,达到增加出光亮度,提高出光效率的目的。
[0083] 综上所述,虽然本发明已以优选实施例揭露如上,但上述优选实施例并非用以限制本发明,本领域的普通技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,均可作各种更动与润
饰,因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。