光学膜的制造方法以及光学膜

摘要

本发明提供一种具有良好的防反射性并且防污性和耐擦伤性良好的光学膜的制造方法。本发明的光学膜的制造方法包括：工序(1)，涂敷下层树脂和上层树脂；工序(2)，在将所涂敷的上述下层树脂和上述上层树脂层叠的状态下，将金属模具从上述上层树脂侧按压到上述下层树脂和上述上层树脂，形成在表面具有凹凸结构的树脂层；以及工序(3)，使上述树脂层固化，上述下层树脂包括不含氟原子的至少一种第一单体，上述上层树脂包括不含氟原子的至少一种第二单体以及含氟单体，上述第一单体和上述第二单体中的至少一方包括与上述含氟单体相溶的相溶性单体，并且溶解在上述下层树脂和上述上层树脂中。

权利要求

1.一种光学膜的制造方法，上述光学膜的表面具有以可见光的波长以下的间距设有多个凸部的凹凸结构，上述光学膜的制造方法的特征在于，包括：工序(1)，涂敷下层树脂和上层树脂；

工序(2)，在所涂敷的上述下层树脂和上述上层树脂层叠的状态下，将金属模具从上述上层树脂侧按压到上述下层树脂和上述上层树脂，形成在表面具有上述凹凸结构的树脂层；以及工序(3)，使上述树脂层固化，

上述下层树脂包括不含氟原子的至少一种第一单体，上述上层树脂包括不含氟原子的至少一种第二单体和含氟单体，上述第一单体和上述第二单体中的至少一方包括与上述含氟单体相溶的相溶性单体，并且溶解在上述下层树脂和上述上层树脂中。

2.根据权利要求1所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述工序(1)是通过将上述下层树脂和上述上层树脂按顺序涂敷于基材膜上来进行的。

3.根据权利要求1所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述工序(1)是通过将上述下层树脂和上述上层树脂同时涂敷于基材膜上来进行的。

4.根据权利要求1所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述工序(1)是通过将上述下层树脂涂敷于基材膜上，将上述上层树脂涂敷于上述金属模具上来进行的，上述工序(2)是通过将涂敷有上述上层树脂的上述金属模具从上述上层树脂侧按压到涂敷于上述基材膜上的上述下层树脂来进行的。

5.根据权利要求2或者4所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述上层树脂是通过喷射方式涂敷的。

6.根据权利要求1至4中的任意一项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，对上述金属模具实施脱模处理。

7.根据权利要求6所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述脱模处理是用硅烷偶联剂进行的表面处理。

8.根据权利要求1至4中的任意一项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述下层树脂的粘度在25℃时大于10cp，不到10000cp。

9.根据权利要求1至4中的任意一项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述上层树脂的粘度在25℃时大于0.1cp，不到100cp。

10.根据权利要求1至4中的任意一项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述含氟单体由紫外线固化。

11.根据权利要求1至4中的任意一项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述上层树脂中的上述含氟单体的浓度大于0重量％，不到20重量％。

12.根据权利要求1至4中的任意一项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述上层树脂中不添加溶剂。

13.根据权利要求1至4中的任意一项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述相溶性单体在分子内具有酰胺键。

14.根据权利要求1至4中的任意一项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述相溶性单体的溶解度参数与上述含氟单体的溶解度参数之差为0(cal/cm3)1/2以上，4.0(cal/cm3)1/2以下。

15.根据权利要求1至4中的任意一项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述相溶性单体的溶解度参数与上述下层树脂中的除了上述相溶性单体以外的单体成分的溶解度参数之差为0(cal/cm3)1/2以上，3.0(cal/cm3)1/2以下。

16.根据权利要求1至4中的任意一项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述相溶性单体的溶解度参数与上述上层树脂中的除了上述相溶性单体以外的单体成分的溶解度参数之差为0(cal/cm3)1/2以上，3.0(cal/cm3)1/2以下。

17.根据权利要求1～4中的任意一项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，相对于上述光学膜的表面，水的接触角为100°以上，十六烷的接触角为40°以上。

18.根据权利要求1～4中的任意一项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述含氟单体具有：含有从氟烷基、氟氧烷基、氟烯基、氟亚烷基以及氟氧基亚烷基的群选出的至少1个的部位和反应性部位。

19.根据权利要求18所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述含氟单体用下述通式(A)表示，

Rf1-R2-D1   (A)

在上述通式(A)中，Rf1表示含有从包括氟烷基、氟氧烷基、氟亚烷基以及氟氧基亚烷基的群选出的至少1个的部位，R2表示亚烷基、次烷基或者从它们导出的酯结构、聚氨酯结构、醚结构、三嗪结构，D1表示反应性部位。

20.根据权利要求1～4中的任意一项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述含氟单体的材料具有用下述通式(B)或者(C)所代表的氟聚醚部位，CFn1H(3-n1)-(CFn2H(2-n2))kO-(CFn3H(2-n3))mO-   (B)-(CFn4H(2-n4))pO-(CFn5H(2-n5))sO-(C)在上述通式(B)和(C)中，n1为1～3的整数，n2～n5为1或者2，k、m、p以及s为0以上的整数。

21.根据权利要求1～4中的任意一项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述间距为100nm以上，400nm以下。

22.根据权利要求17所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述含氟单体具有：含有从氟烷基、氟氧烷基、氟烯基、氟亚烷基以及氟氧基亚烷基的群选出的至少1个的部位和反应性部位。

23.根据权利要求22所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述含氟单体用下述通式(A)表示，

Rf1-R2-D1   (A)

在上述通式(A)中，Rf1表示含有从包括氟烷基、氟氧烷基、氟亚烷基以及氟氧基亚烷基的群选出的至少1个的部位，R2表示亚烷基、次烷基或者从它们导出的酯结构、聚氨酯结构、1

醚结构、三嗪结构，D表示反应性部位。

24.根据权利要求22所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述含氟单体的材料具有用下述通式(B)或者(C)所代表的氟聚醚部位，CFn1H(3-n1)-(CFn2H(2-n2))kO-(CFn3H(2-n3))mO-   (B)-(CFn4H(2-n4))pO-(CFn5H(2-n5))sO-(C)在上述通式(B)和(C)中，n1为1～3的整数，n2～n5为1或者2，k、m、p以及s为0以上的整数。

25.根据权利要求23所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述含氟单体的材料具有用下述通式(B)或者(C)所代表的氟聚醚部位，CFn1H(3-n1)-(CFn2H(2-n2))kO-(CFn3H(2-n3))mO-   (B)-(CFn4H(2-n4))pO-(CFn5H(2-n5))sO-   (C)在上述通式(B)和(C)中，n1为1～3的整数，n2～n5为1或者2，k、m、p以及s为0以上的整数。

26.根据权利要求22所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述间距为100nm以上，400nm以下。

27.根据权利要求23所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述间距为100nm以上，400nm以下。

28.根据权利要求24所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述间距为100nm以上，400nm以下。

29.根据权利要求25所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述间距为100nm以上，400nm以下。

30.根据权利要求17所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述含氟单体的材料具有用下述通式(B)或者(C)所代表的氟聚醚部位，CFn1H(3-n1)-(CFn2H(2-n2))kO-(CFn3H(2-n3))mO-   (B)-(CFn4H(2-n4))pO-(CFn5H(2-n5))sO-   (C)在上述通式(B)和(C)中，n1为1～3的整数，n2～n5为1或者2，k、m、p以及s为0以上的整数。

31.根据权利要求30所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述间距为100nm以上，400nm以下。

32.根据权利要求17所述的光学膜的制造方法，其特征在于，上述间距为100nm以上，400nm以下。

33.一种光学膜，其特征在于，

是通过权利要求1～32中的任意一项所述的光学膜的制造方法制造的。

说明书

光学膜的制造方法以及光学膜

技术领域

[0001] 本发明涉及光学膜的制造方法以及光学膜。具体涉及具有纳米尺寸的凹凸结构的光学膜的制造方法以及通过上述光学膜的制造方法制造的光学膜。

背景技术

[0002] 已知将具有纳米尺寸的凹凸结构(纳米结构)的光学膜用作防反射膜。根据这种凹凸结构，从空气层向基材膜使折射率连续变化，因此能急剧减少反射光。然而，虽然这种光学膜中具有良好的防反射性，但是由于其表面的凹凸结构，当附着有指纹(皮脂)等污渍时，附着的污渍容易扩展，而且还存在难以擦拭进入到凸部间的污渍的问题。另外，附着的污渍的反射率与光学膜的反射率大不相同，因此容易视觉识别。因此，迫切需要具有疏水性和疏油性的具有良好防污性的光学膜。因此，提出了在凹凸结构的表面上形成由氟类材料构成的层，或者在凹凸结构中添加氟类材料的构成(例如，参照专利文献1～3)。

[0003] 现有技术文献

[0004] 专利文献

[0005] 专利文献1：特开2003-172808号公报

[0006] 专利文献2：特开2007-178724号公报

[0007] 专利文献3：特开2014-153524号公报

[0008] 专利文献4：国际公开第2011/013615号

[0009] 非专利文献

[0010] 非专利文献1：R.F.Fedors，Polym.Eng.Sci.，14[2]，1974，pp.147-154[0011] 非专利文献2：J.Brandrup等，“溶解度参数值(Solubility Parameter Values)”，聚合物手册(Polymer Handbook)，第4版

[0012] 非专利文献3：K.Milam等，“OPTOOL(注册商标)DAC-HP：触摸面板画面用耐指纹涂敷材料(OptoolTM DAC-HP：An Anti-fingerprint Coating Material for Touch Panel Screens)”，SID11DIGEST，2011，pp.1826-1829

[0013] 非专利文献4：纳米科学株式会社，“XPS分析的豆知识”，“碳的化学状态(C1s的键能量的迁移(化学迁移))”，[online]，2014年，[平成27年11月6日检索]，互联网(URL：http：//www.nanoscience.co.jp/knowledge/XPS/knowledge02.html)

[0014] 非专利文献5：A.M.Ferraria等，“与直接氟化的HDPE有关的XPS的研究：问题和解决对策(XPS studies of directly fluorinated HDPE：problems and solutions)”，Polymer 44，2003，pp.7241-7249

[0015] 非专利文献6：赛默飞世尔科技株式会社(Thermo Fisher Scientific Inc.)，“氧气”，“一般的化学状态的键能量(Binding energies of common chemical states)”，[online]，2013年，[平成27年11月6日检索]，互联网(URL：http：//xpssimplified.com/elements/oxygen.php)

[0016] 非专利文献7：N.Stobie等，“掺杂银的全氟聚醚聚氨酯涂敷：抗菌性和表面解析(Silver Doped Perfluoropolyether-Urethane Coatings：Antibacterial Activity and Surface Analysis)”，Colloids and Surfaces B：Biointerfaces，Vol.72，2009，pp.62-67发明内容

[0017] 发明要解决的问题

[0018] 然而，现有的光学膜防污性不足，存在改善的余地。另外，在擦拭表面附着的污渍等时，容易擦掉用于提高防污性的氟类材料，关于提高耐擦伤性这一点也有改善的余地。

[0019] 上述专利文献1公开了在凹凸结构的表面上形成有包括聚四氟乙烯的疏水皮膜的构成。然而，在上述专利文献1记载的发明中，凹凸结构与包括聚四氟乙烯的膜的紧贴性弱，因此容易剥离。另外，包括聚四氟乙烯的膜薄，因而强度弱，擦拭时聚四氟乙烯的浓度容易降低。根据以上内容，在提高耐擦伤性这一点存在改善的余地。

[0020] 上述专利文献2公开了在基材膜与金属模具之间提供含有氟化合物的光固化性树脂组合物并将其轧制后使其固化来形成凹凸结构的方法。然而，在上述专利文献2记载的发明中，凹凸结构的表面的氟化合物的浓度不足，因此疏油性不足。因此，在提高防污性这一点存在改善的余地。

[0021] 上述专利文献3公开了在凹凸结构的表面上形成含有全氟聚醚羧酸的氟类润滑剂的润滑层的构成。然而，在上述专利文献3记载的发明中，凹凸结构与氟类润滑剂形成的润滑层之间的紧贴性弱，因此容易剥离。因此，在提高耐擦伤性这一点存在改善的余地。

[0022] 本发明是鉴于上述现状而完成的，目的在于提供具有良好的防反射性并且防污性和耐擦伤性良好的光学膜的制造方法以及光学膜。

[0023] 用于解决问题的方案

[0024] 本发明的发明人研究了各种具有良好防反射性并且防污性和耐擦伤性良好的光学膜的制造方法，关注如下方法：涂敷下层树脂和上层树脂，在将该两层层叠的状态下，将金属模具按压到两层，形成在表面具有纳米尺寸的凹凸结构的树脂层后，使该树脂层固化。并且发现，上层树脂的单体成分包括含氟单体，下层树脂和上层树脂中的至少一方单体成分包括与含氟单体相溶的相溶性单体，并且溶解在下层树脂和上层树脂中，由此使凹凸结构的表面附近的氟原子的浓度升高，其结果是疏水性和疏油性提高。另外，疏水性和疏油性的提高在形成有纳米尺寸的凹凸结构的表面表现得比平坦面等通常的表面更显著，可知能得到良好的防污性。还发现，通过使用相溶性单体，维持了凹凸结构的表面附近的氟原子的浓度，并且下层树脂和上层树脂在它们的界面局部地混合而聚合，其结果是形成两者的紧贴性提高的树脂层，能得到良好的耐擦伤性。根据以上内容，想到了能良好地解决上述问题，完成了本发明。

[0025] 即，本发明的一个方式可以是一种光学膜的制造方法，上述光学膜的表面具有以可见光的波长以下的间距设有多个凸部的凹凸结构，上述光学膜的制造方法的特征在于，包括：工序(1)，涂敷下层树脂和上层树脂；工序(2)，在所涂敷的上述下层树脂和上述上层树脂层叠的状态下，将金属模具从上述上层树脂侧按压到上述下层树脂和上述上层树脂，形成在表面具有上述凹凸结构的树脂层；以及工序(3)，使上述树脂层固化，上述下层树脂包括不含氟原子的至少一种第一单体，上述上层树脂包括不含氟原子的至少一种第二单体和含氟单体，上述第一单体和上述第二单体中的至少一方包括与上述含氟单体相溶的相溶性单体，并且溶解在上述下层树脂和上述上层树脂中。

[0026] 本发明的另一个方式也可以是通过上述光学膜的制造方法制造的光学膜。

[0027] 本发明的另一个方式也可以是一种光学膜，包括在表面具有凹凸结构的固化树脂层，上述光学膜的特征在于，上述凹凸结构以可见光的波长以下的间距设有多个凸部，上述固化树脂层的构成原子包括碳原子、氮原子、氧原子和氟原子，在X射线光束直径为100μm、分析面积为1000μm×500μm以及光电子的取出角度为45°的条件下用X射线光电子分光法测定的上述凹凸结构的表面的上述氟原子的数量相对于上述碳原子的数量、上述氮原子的数量、上述氧原子的数量以及上述氟原子的数量的总数量的比率为33原子％以上。

[0028] 本发明的另一个方式也可以是一种光学膜，包括在表面具有凹凸结构的固化树脂层，上述光学膜的特征在于，上述凹凸结构以可见光的波长以下的间距设有多个凸部，上述固化树脂层的构成原子包括碳原子、氮原子、氧原子和氟原子，对于在X射线光束直径为100μm、分析面积为1000μm×500μm以及光电子的取出角度为45°的条件下通过X射线光电子分光法测定的、上述凹凸结构的表面的O1s峰，在用来自C-O键的峰、来自C＝O键的峰以及来自OCF2键的峰进行曲线拟合得到的谱中，来自上述OCF2键的峰面积相对于来自上述C-O键的峰面积和来自上述C＝O键的峰面积之和的比率为0.3以上。

[0029] 本发明的另一个方式也可以是一种光学膜，包括在表面具有凹凸结构的固化树脂层，上述光学膜的特征在于，上述凹凸结构以可见光的波长以下的间距设有多个凸部，上述固化树脂层的构成原子包括碳原子、氮原子、氧原子和氟原子，如果将在X射线光束直径为100μm、分析面积为1000μm×500μm以及光电子的取出角度为45°的条件下通过X射线光电子分光法测定的上述凹凸结构的表面的上述氟原子的数量相对于上述碳原子的数量、上述氮原子的数量、上述氧原子的数量以及上述氟原子的数量的总数量的比率定义为MFS(单位：
原子％)，将在深度方向离上述凹凸结构的表面通过聚羟基苯乙烯换算为D(单位：nm)的位置处的上述氟原子的数量相对于上述碳原子的数量、上述氮原子的数量、上述氧原子的数量以及上述氟原子的数量的总数量的比率定义为MFD(单位：原子％)，则满足MFD/MFS＝0.3时的D为240nm以上。

[0030] 发明效果

[0031] 根据本发明，能提供具有良好的防反射性并且防污性和耐擦伤性良好的光学膜的制造方法以及光学膜。

附图说明

[0032] 图1是说明实施方式1的光学膜的制造工序的截面示意图(工序a～d)。

[0033] 图2是说明实施方式2的光学膜的制造工序的截面示意图(工序a～c)。

[0034] 图3是说明实施方式3的光学膜的制造工序的截面示意图(工序a～c)。

[0035] 图4是说明比较例1的光学膜的制造工序的截面示意图(工序a～d)。

[0036] 图5是说明比较例3的光学膜的制造工序的截面示意图(工序a～c)。

[0037] 图6是示出实施例7中的反射率的测定结果的坐标图。

[0038] 图7是示出研究例1～4的光学膜的表面的测量谱的坐标图。

[0039] 图8是示出上层树脂的厚度与接触角之间的关系的坐标图。

[0040] 图9是示出上层树脂的厚度与凹凸结构的表面的氟原子的数量相对于碳原子的数量、氮原子的数量、氧原子的数量以及氟原子的数量的总数量的比率之间的关系的坐标图。

[0041] 图10是示出研究例1～4的光学膜的表面的窄谱的坐标图，(a)示出C1s峰，(b)示出N1s峰，(c)示出O1s峰，(d)示出F 1s峰。

[0042] 图11是示出图10(a)中的研究例4的C1s峰的解析结果的坐标图。

[0043] 图12是示出图10(c)中的研究例4的O1s峰的解析结果的坐标图。

[0044] 图13是示出上层树脂的厚度与C1s峰中的来自CF2键的峰面积相对于CF2键以外的键种的峰面积的比率之间的关系的坐标图。

[0045] 图14是示出上层树脂的厚度与C1s峰中的来自CF3键和OCF2键的峰面积相对于来自CF3键和OCF2键以外的键种的峰面积的比率之间的关系的坐标图。

[0046] 图15是示出上层树脂的厚度与O1s峰中的来自OCF2键的峰面积相对于来自OCF2键以外的键种的峰面积的比率之间的关系的坐标图。

[0047] 图16是示出研究例1的光学膜的固化树脂层中的各原子的数量相对于碳原子的数量、氮原子的数量、氧原子的数量以及氟原子的数量的总数量的比率的坐标图。

[0048] 图17是示出研究例2的光学膜的固化树脂层中的各原子的数量相对于碳原子的数量、氮原子的数量、氧原子的数量以及氟原子的数量的总数量的比率的坐标图。

[0049] 图18是示出研究例3的光学膜的固化树脂层中的各原子的数量相对于碳原子的数量、氮原子的数量、氧原子的数量以及氟原子的数量的总数量的比率的坐标图。

[0050] 图19是示出研究例4的光学膜的固化树脂层中的各原子的数量相对于碳原子的数量、氮原子的数量、氧原子的数量以及氟原子的数量的总数量的比率的坐标图。

[0051] 图20是示出研究例1～4的光学膜的固化树脂层中的氟原子的分布状态的坐标图。

[0052] 图21是示出研究例1～4的光学膜的固化树脂层中的CF2键的分布状态的坐标图。

[0053] 图22是示出研究例1～4的光学膜的固化树脂层中的CF3键和OCF2键的分布状态的坐标图。

[0054] 图23是示出研究例1～4的光学膜的固化树脂层中的OCF2键的分布状态的坐标图。

[0055] 图24是示出研究例1～4的光学膜的固化树脂层中的来自CF2键的碳原子的存在比率的坐标图。

[0056] 图25是示出研究例4的光学膜的固化树脂层中的来自各键种的原子的数量相对于碳原子的数量、氮原子的数量、氧原子的数量以及氟原子的数量的总数量的比率的坐标图。

[0057] 图26是举例示出图24中的研究例4的M1T以及M1ST的坐标图。

[0058] 图27是示出研究例1～4的光学膜的固化树脂层中的来自CF3键和OCF2键的碳原子的存在比率的坐标图。

[0059] 图28是举例示出图27中的研究例4的M2T和M2ST的坐标图。

[0060] 图29是示出研究例1～4的光学膜的固化树脂层中的来自OCF2键的氧原子的存在比率的坐标图。

[0061] 图30是举例示出图29中的研究例4的M3T以及M3ST的坐标图。

具体实施方式

[0062] 以下披露实施方式，参照附图更详细地说明本发明，但是本发明不限于这些实施方式。此外，在以下的说明中，对相同部分或者具有同样的功能的部分除了附带字母以外将同样的附图标记在不同的附图间共用，适当省略其重复的说明。另外，各实施方式的构成可以在不脱离本发明的要旨的范围中适当地组合，也可以变更。

[0063] [实施方式1]

[0064] 图1是说明实施方式1的光学膜的制造工序的截面示意图(工序a～d)。以下，参照图1详细说明实施方式1的光学膜的制造方法。

[0065] (a)下层树脂的涂敷

[0066] 首先，如图1(a)所示，在基材膜2上涂敷下层树脂3。下层树脂3的涂敷方法没有特别限定，例如能举出用凹版方式、狭缝模具方式等进行涂敷的方法。

[0067] (b)上层树脂的涂敷

[0068] 如图1(b)所示，在已涂敷的下层树脂3上涂敷上层树脂4。其结果是，上层树脂4形成在下层树脂3的与基材膜2相反的一侧。上层树脂4的涂敷方法没有特别限定，例如能举出用喷射方式、凹版方式、狭缝模具方式等进行涂敷的方法。从能容易地调整膜厚并且抑制装置成本的观点出发，优选采用喷射方式。其中特别优选使用离心式喷嘴、静电喷嘴或者超声波喷嘴来进行涂敷。

[0069] (c)凹凸结构的形成

[0070] 如图1(c)所示，在已涂敷的下层树脂3和上层树脂4被层叠的状态下，将金属模具5从上层树脂4侧按压到下层树脂3和上层树脂4，形成在表面具有凹凸结构的树脂层8。在树脂层8中，下层树脂3和上层树脂4一体化，不存在两者的界面。形成于树脂层8的凹凸结构相当于以可见光的波长以下的间距(相邻的凸部6的顶点间的距离)P设有多个凸部(突起)6的结构即蛾眼结构(蛾子的目状的结构)。

[0071] (d)树脂层的固化

[0072] 使形成有凹凸结构的树脂层8固化。其结果是如图1(d)所示，完成包括在表面具有凹凸结构的树脂层8的固化物的光学膜1。树脂层8的固化方法没有特别限定，能举出光、热、同时采用光和热等方法，优选采用紫外线。对树脂层8照射光的次数没有特别限定，可以仅进行1次，也可以进行多次。另外，光照射可以从基材膜2侧进行，也可以从树脂层8侧进行。

[0073] 在上述制造工序中，例如，如果使基材膜2为卷状，则能连续高效地进行上述工序(a)～(d)。

[0074] 接着，以下说明制造光学膜1时使用的各构件。

[0075] 基材膜2的材料例如能举出三醋酸纤维素(TAC)(溶解度参数：12.2(cal/cm3)1/2)、聚对苯二甲酸(PET)(溶解度参数：10.7(cal/cm3)1/2)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)(溶解度参数：9.06(cal/cm3)1/2)、环烯烃聚合物(COP)(溶解度参数：7.4(cal/cm3)1/2)、聚碳酸酯(PC)等，根据使用环境而进行选择即可。根据这种材料，能得到硬度高、透明性和耐老化性良好的基材膜2。此外，基材膜2也可以实施易粘接处理，例如能使用实施了易粘接处理的TAC膜(溶解度参数：11(cal/cm3)1/2)。另外，基材膜2也可以实施皂化处理，例如能使用实施了皂化处理的TAC膜(溶解度参数：16.7(cal/cm3)1/2)。

[0076] 基材膜2的厚度没有特别限定，从确保透明性和加工性的观点出发优选10μm以上，120μm以下，更优选40μm以上，80μm以下。

[0077] 下层树脂3包括不含氟原子的至少一种第一单体。这种第一单体例如能举出聚氨酯丙烯酸酯、多官能丙烯酸酯、单官能丙烯酸酯等丙烯酸酯单体，能适当地使用2种以上丙烯酸酯单体的混合物(光固化性树脂)。根据这种材料，在与基材膜2的组合中具有良好的折射率，能得到透明性、柔软性以及耐老化性良好的下层树脂3。

[0078] 聚氨酯丙烯酸酯例如能举出新中村化学工业社制造的聚氨酯丙烯酸酯(产品名称：UA-7100，溶解度参数：10.2(cal/cm3)1/2，分子量：1700，表面张力：85.2dyn/cm)、新中村化学工业社制造的聚氨酯丙烯酸酯(产品名称：U-4HA，溶解度参数：11.3(cal/cm3)1/2，分子量：600，表面张力：66.6dyn/cm)、共荣社化学社制造的聚氨酯丙烯酸酯(产品名称：UA-306H，溶解度参数：10.8(cal/cm3)1/2、分子量：750，表面张力：70.0dyn/cm)、共荣社化学社
3 1/2
制造的聚氨酯丙烯酸酯(产品名称：AH-600，溶解度参数：10.9(cal/cm) ，分子量：600，表面张力：63.1dyn/cm)等。

[0079] 多官能丙烯酸酯例如能举出新中村化学工业社制造的多官能丙烯酸酯(产品名称：ATM-35E，溶解度参数：9.6(cal/cm3)1/2，分子量：1892，表面张力：76.8dyn/cm)、新中村3
化学工业社制造的多官能丙烯酸酯(产品名称：A-TMM-3LM-N，溶解度参数：12.6(cal/cm)1/2，分子量：298，表面张力：64.4dyn/cm)、第一工业制药社制造的多官能丙烯酸酯(产品名称：TMP-3P，溶解度参数：9.4(cal/cm3)1/2，分子量：470，表面张力：45.2dyn/cm)、第一工业制药社制造的多官能丙烯酸酯(产品名称：BPP-4，溶解度参数：9.8(cal/cm3)1/2，分子量：
570，表面张力：51.4dyn/cm)、东邦化学工业社制造的多官能丙烯酸酯(产品名称：PD-070A，溶解度参数：8.9(cal/cm3)1/2、分子量：840，表面张力：51.6dyn/cm)，共荣社化学社制造的多官能丙烯酸酯(产品名称：80MFA，溶解度参数：13.4(cal/cm3)1/2，分子量：350，表面张力：
66.6dyn/cm)等。

[0080] 单官能丙烯酸酯例如能举出KJ化学制品社制造的含酰胺基单体(产品名称：ACMO(注册商标)，溶解度参数：12.0(cal/cm3)1/2，分子量：141，表面张力：43.7dyn/cm)、KJ化学制品社制造的含酰胺基单体(产品名称：HEAA(注册商标)，溶解度参数：14.4(cal/cm3)1/2，分子量：115，表面张力：45.7dyn/cm)、KJ化学制品社制造的含酰胺基单体(产品名称：DEAA(注册商标)，溶解度参数：10.1(cal/cm3)1/2，分子量：127，表面张力：28.0dyn/cm)、日本化成社制造的含羟基单体(产品名称：CHDMMA，溶解度参数：11.6(cal/cm3)1/2，分子量：198，表面张力：43.5dyn/cm)、日本化成社制造的含羟基单体(产品名称：4HBA，溶解度参数：11.6(cal/cm3)1/2，分子量：144，表面张力：36.3dyn/cm)、日本合成化学社制造的含乙酰乙酰氧基单体(产品名称：AAEM，溶解度参数：10.6(cal/cm3)1/2，分子量：214，表面张力：39.5dyn/cm)等。

[0081] 在本说明书中，溶解度参数是通过上述非专利文献1和2记载的从分子结构推算的Fedors的推算法算出的。溶解度参数越小疏水性越高，溶解度参数越大亲水性越高。

[0082] 在本说明书中，表面张力是用浸透速度法测定的。浸透速度法是在柱体中用一定2
的压力按紧填充对象物，根据关系式：l/t＝(r·γcosθ)/2η决定用水进行测定时的对象物的表面张力的方法。在上述关系式中，l表示水的浸透高度，t表示时间，r表示所填充的对象物的毛细半径，γ表示表面张力，η表示水的粘度，θ表示接触角。表面张力越小接触角越大，表示疏水性越高。

[0083] 下层树脂3也可以还包括聚合引发剂。聚合引发剂例如能举出光聚合引发剂等。光聚合引发剂对于活性能量射线是活性的，是用于引发使单体聚合的聚合反应而添加的化合物。光聚合引发剂例如能采用自由基聚合引发剂、阴离子聚合引发剂、阳离子聚合引发剂等。这种光聚合引发剂例如能举出对-叔丁基三氯苯乙酮、2，2′-二乙氧基苯乙酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮等苯乙酮类；二苯甲酮、4，4′-双二甲基氨基二苯甲酮、2-氯噻吨酮
2-甲基噻吨酮、2-乙基噻吨酮、2-异丙基噻吨酮等酮类；安息香、安
息香甲基醚、安息香异丙基醚、安息香异丁基醚等安息香醚类；苄基二甲基缩酮、羟基环己基苯基酮等苄缩酮类等。光聚合引发剂中的公知产品能举出BASF社制造的光聚合引发剂(产品名称：IRGACURE(注册商标)819)等。

[0084] 下层树脂3的厚度DL(涂敷后)没有特别限定，优选3μm以上，30μm以下，更优选5μm以上，7μm以下。

[0085] 下层树脂3的粘度优选在25℃时大于10cp，不足10000cp。在下层树脂3的25℃的粘度大于10cp的情况下，在下层树脂3和上层树脂4层叠的状态下，能适当地防止上层树脂4中包括的含氟单体混入下层树脂3中，导致上层树脂4的表面附近的氟原子7的浓度降低。在下层树脂3的25℃的粘度不足10000cp的情况下，能适当地提高下层树脂3的涂敷性。在本说明书中，粘度是用东机工业社制造的TV25型粘度计(产品名称：TVE-25L)测定的。

[0086] 上层树脂4包括含氟单体。利用含氟单体，能使光学膜1的表面自由能量变低，与蛾眼结构进行组合从而能得到防污性良好的光学膜1。

[0087] 优选含氟单体具有：含有从氟烷基、氟氧烷基、氟烯基、氟亚烷基以 及 氟 氧 基 亚 烷 基
的群选出的至少1个的部位和反应性部位。

[0088] 氟烷基、氟氧烷基、氟烯基、氟亚烷基以及氟氧基亚烷基分别是用氟原子取代烃基、氧烷基、烯基、亚烷基以及氧基亚烷基所具有的氢原子中的至少一部分的取代基。氟烷基、氟氧烷基、氟烯基、氟亚烷基以及氟氧基亚烷基都是主要由氟原子和碳原子构成的取代基，也可以在其结构中存在分支部，也可以将多个该取代基连结。

[0089] 反应性部位是指利用光、热等外部能量与其它成分进行反应的部位。这种反应性部位能举出烷氧基硅烷基、甲硅烷基醚基团、烷氧基硅烷基水解后的硅醇基、羧基、羟基、环氧基、乙烯基、烯丙基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基等。从反应性和操作性的观点出发，反应性部位优选烷氧基硅烷基、硅烷基醚基团、硅醇基、环氧基、乙烯基、烯丙基、丙烯酰基或者甲基丙烯酰基，更优选乙烯基、烯丙基、丙烯酰基或者甲基丙烯酰基，特别优选丙烯酰基或者甲基丙烯酰基。

[0090] 含氟单体的一个例子用下述通式(A)表示。

[0091] Rf1-R2-D1(A)

[0092] 在上述通式(A)中，Rf1表示含有从包括氟烷基、氟氧烷基、氟亚烷基以及氟氧基亚烷基的群选出的至少1个的部位。R2表示亚烷基、次烷基 或者从1
它们导出的酯结构、聚氨酯结构、醚结构、三嗪结构。D表示反应性部位。

[0093] 用上述通式(A)表示的单体能举出例如2，2，2-三氟乙基丙烯酸酯、2，2，3，3，3-五氟丙基丙烯酸酯、2-全氟丁基乙基丙烯酸酯、3-全氟丁基-2-羟基丙基丙烯酸酯、2-全氟己基乙基丙烯酸酯、3-全氟己基-2-羟基丙基丙烯酸酯、2-全氟辛基乙基丙烯酸酯、3-全氟辛基-2-羟基丙基丙烯酸酯、2-全氟癸基乙基丙烯酸酯、2-全氟-3-甲基丁基乙基丙烯酸酯、3-全氟-3-甲氧基丁基-2-羟基丙基丙烯酸酯、2-全氟-5-甲基己基乙基丙烯酸酯、3-全氟-5-甲基己基-2-羟基丙基丙烯酸酯、2-全氟-7-甲基辛基-2-羟基丙基丙烯酸酯、四氟丙基丙烯酸酯、八氟戊基丙烯酸酯、十二氟庚基丙烯酸酯、十六氟壬基丙烯酸酯、六氟丁基丙烯酸酯、2，2，2-三氟乙基甲基丙烯酸酯、2，2，3，3，3-五氟丙基甲基丙烯酸酯、2-全氟丁基乙基甲基丙烯酸酯、3-全氟丁基-2-羟基丙基甲基丙烯酸酯、2-全氟辛基乙基甲基丙烯酸酯、3-全氟辛基-2-羟基丙基甲基丙烯酸酯、2-全氟癸基乙基甲基丙烯酸酯、2-全氟-3-甲基丁基乙基甲基丙烯酸、3-全氟-3-甲基丁基-2-羟基丙基甲基丙烯酸酯、2-全氟-5-甲基己基乙基甲基丙烯酸酯、3-全氟-5-甲基己基-2-羟基丙基甲基丙烯酸酯、2-全氟-7-甲基辛基乙基甲基丙烯酸酯、3-全氟-7-甲基辛基乙基甲基丙烯酸酯、四氟丙基甲基丙烯酸酯、八氟戊基甲基丙烯酸酯、十二氟庚基甲基丙烯酸酯、十六氟壬基甲基丙烯酸酯、1-三氟甲基三氯乙基甲基丙烯酸酯、六氟丁基甲基丙烯酸酯、三丙烯酰-十七氟壬烯基-季戊四醇等。

[0094] 另外，含氟单体的优选材料例如能举出具有氟聚醚部位的材料。氟聚醚部位是包括氟烷基、氧氟烷基、氧氟亚烷基等的部位，是下述通式(B)或者(C)所代表的结构。

[0095] CFn1H(3-n1)-(CFn2H(2-n2))kO-(CFn3H(2-n3))mO-(B)

[0096] -(CFn4H(2-n4))pO-(CFn5H(2-n5))sO-(C)

[0097] 在上述通式(B)和(C)中，n1为1～3的整数，n2～n5为1或者2，k、m、p以及s为0以上的整数。n1～n5的优选组合是n1为2或者3，n2～n5为1或者2的组合，更优选的组合是n1为3、n2和n4为2、n3和n5为1或者2的组合。

[0098] 氟聚醚部位中包含的碳数优选4以上，12以下，更优选4以上，10以下，进一步优选6以上，8以下。在碳数不到4的情况下，表面能量有可能会降低，在碳数超过12的情况下，对溶剂的溶解性有可能会降低。此外，含氟单体也可以在每1分子中具有多个氟聚醚部位。

[0099] 含氟单体中的公知材料能举出例如大金工业社制造的氟类添加剂(产品名称：OPTOOL DAC-HP，溶解度参数：9.7(cal/cm3)1/2)、大金工业社制造的氟类添加剂(产品名称：
OPTOOL DSX)、旭硝子社制造的氟类添加剂(产品名称：Afluid，溶解度参数：9～11(cal/cm3)1/2，表面张力：11dyn/cm)、DIC社制造的氟类添加剂(产品名称：Megafac(注册商标)RS-
76-NS)、DIC社制造的氟类添加剂(产品名称：Megafac RS-75)、油脂制品社制造的氟类添加剂(产品名称：C10GACRY)、油脂制品社制造的氟类添加剂(产品名称：C8HGOL)等。含氟单体优选利用紫外线进行固化，优选具有-OCF2-链和/或＝NCO-链。

[0100] 下层树脂3中也可以包括含氟单体。在这种情况下，优选上层树脂4中的含氟单体的浓度比下层树脂3中的含氟单体的浓度高。特别优选下层树脂3不包括含氟单体。

[0101] 优选上层树脂4中的含氟单体的浓度大于0重量％，不到20重量％。在含氟单体的浓度不到20重量％的情况下，能适当地防止由于含氟单体的量多而引起的白浊的发生。

[0102] 上层树脂4包括不含氟原子的至少一种第二单体。这种第二单体能举出例如KJ化学制品社制造的含酰胺基单体(产品名称：ACMO)、KJ化学制品社制造的含酰胺基单体(产品名称：HEAA)，KJ化学制品社制造的含酰胺基单体(产品名称：DEAA)，日本化成社制造的含羟基单体(产品名称：CHDMMA)、日本化成社制造的含羟基单体(产品名称：4HBA)、日本合成化学社制造的含乙酰乙酰氧基单体(产品名称：AAEM)等。

[0103] 上层树脂4的厚度DU(涂敷后)没有特别限定，优选0.1μm以上，15μm以下，更优选1μm以上，10μm以下，进一步优选2μm以上，8μm以下，特别优选5μm以上，8μm以下。也可以进一步将涂敷后的平滑性(流平性( 性))高、表面张力低的氟类界面活性剂(例如，AGC清美化学社制造的氟类界面活性剂(产品名称：瑟夫隆(Surflon)(注册商标)S-232))，或者氟类溶剂(例如氟技术社制造的氟类溶剂(产品名称：稀释剂ZV))添加到上层树脂4中。

[0104] 优选上层树脂4的粘度在25℃时大于0.1cp，不到100cp。在上层树脂4的25℃的粘度不到100cp的情况下，能适当地确保上层树脂4中包含的含氟单体的流动性，能适当提高上层树脂4的涂敷性。在上层树脂4的25℃的粘度大于0.1cp的情况下，能适当地提高上层树脂4的涂敷性，能容易地控制上层树脂4的厚度。

[0105] 优选上层树脂4中不添加溶剂。即，优选上层树脂4是无溶剂系的树脂。在上层树脂4中不添加溶剂的情况下，不需要用于使溶剂干燥而将其除去的装置，能抑制装置成本。另外，不使用溶剂从而能相应地减少其成本，能提高生产率。另一方面，在对上层树脂4添加溶剂的情况下，含氟单体过于混杂，有可能会导致光学膜1的表面附近的氟原子7的浓度降低。
另外，挥发性变高，因此涂敷性有可能会降低。

[0106] 上述第一单体和上述第二单体中的至少一方包括与含氟单体相溶的相溶性单体，并且溶解于下层树脂3和上层树脂4中。由此，含氟单体确保与相溶性单体的相溶性，并且聚集到光学膜1的表面附近，因此能提高该表面附近的氟原子7的浓度。在此，为了提高下层树脂3与上层树脂4的紧贴性，在两者以单体状态接触时，它们的界面瞬时混合，聚合之后，单体成分连续地变化，实现不存在界面的状态，这一点很重要。为了形成这种状态的树脂层8，以提高下层树脂3与上层树脂4的相溶性为目的添加相溶性单体。由此，能得到耐擦伤性良好的光学膜1。

[0107] 相溶性单体例如能适当地使用光固化性树脂用的反应性稀释单体。反应性稀释单体能举出例如KJ化学制品社制造的含酰胺基单体(产品名称：ACMO)、KJ化学制品社制造的含酰胺基单体(产品名称：HEAA)、KJ化学制品社制造的含酰胺基单体(产品名称：DEAA)、日本化成社制造的含羟基单体(产品名称：CHDMMA)、日本化成社制造的含羟基单体(产品名称：4HBA)、日本合成化学社制造的含乙酰乙酰氧基单体(产品名称：AAEM)等。利用这种材料，能使含氟单体良好地溶解。另外，与基材膜2(例如，TAC膜)的相溶性高，因此在添加到下层树脂3中的情况下，能适当地提高基材膜2与下层树脂3的紧贴性。优选相溶性单体在分子内具有酰胺键(酸アミド結合)。

[0108] 优选含氟单体的溶解度参数为5(cal/cm3)1/2以上，11(cal/cm3)1/2以下。优选下层树脂3中的除了相溶性单体以外的单体成分的溶解度参数为7(cal/cm3)1/2以上，16(cal/cm3)1/2以下。优选上层树脂4中的除了相溶性单体以外的单体成分的溶解度参数为7(cal/cm3)1/2以上，16(cal/cm3)1/2以下。

[0109] 相溶性单体的溶解度参数没有特别限定，能适当地选择，但是从充分提高下层树脂3与上层树脂4的相溶性的观点出发，优选5(cal/cm3)1/2以上，16(cal/cm3)1/2以下，更优选3 1/2 3 1/2 3 1/2
8.3(cal/cm ) 以上，9.7(cal/cm) 以下，进一步优选8.3(cal/cm ) 以上，9.5(cal/cm3)1/2以下。由于相溶性单体的溶解度参数低，因此与含氟单体的相溶性更高，因此能大范围地设定上层树脂4中的含氟单体的浓度。因此，在上层树脂4中的含氟单体的浓度高的情况下也能抑制白浊、层分离等的发生，使上层树脂4固化后的外观也良好。

[0110] 在下层树脂3中的除了相溶性单体以外的单体成分由多种材料构成的情况下，将各材料的溶解度参数乘以各材料相对于除了相溶性单体以外的单体成分整体的重量比所得的积的总和定义为下层树脂3中的除了相溶性单体以外的单体成分的溶解度参数(也简称为下层树脂的溶解度参数。)。在上层树脂4中的除了相溶性单体以外的单体成分由多种材料构成的情况下，将各材料的溶解度参数乘以各材料相对于除了相溶性单体以外的单体成分整体的重量比所得的积的总和定义为上层树脂4中的除了相溶性单体以外的单体成分的溶解度参数(也简称为上层树脂的溶解度参数。)。在存在多种含氟单体的情况下，将各含氟单体的溶解度参数乘以各含氟单体相对于含氟单体成分整体的重量比所得的积的总和定义为含氟单体的溶解度参数。在存在多种相溶性单体的情况下，将各相溶性单体的溶解度参数乘以各相溶性单体相对于相溶性单体成分整体的重量比所得的积的总和定义为相溶性单体的溶解度参数。

[0111] 关于相溶性单体的溶解度参数与含氟单体的溶解度参数之差，从充分提高两者的相溶性的观点出发，优选0(cal/cm3)1/2以上，4.0(cal/cm3)1/2以下，更优选0(cal/cm3)1/2以上，3.0(cal/cm3)1/2以下，进一步优选0(cal/cm3)1/2以上，2.5(cal/cm3)1/2以下。

[0112] 关于相溶性单体的溶解度参数与下层树脂3中的除了相溶性单体以外的单体成分的溶解度参数之差，从充分提高两者的相溶性的观点出发，优选0(cal/cm3)1/2以上，3.0(cal/cm3)1/2以下，更优选0(cal/cm3)1/2以上，2.0(cal/cm3)1/2以下。

[0113] 关于相溶性单体的溶解度参数与上层树脂4中的除了相溶性单体以外的单体成分3 1/2
的溶解度参数之差，从充分提高两者的相溶性的观点出发，优选0(cal/cm ) 以上，3.0(cal/cm3)1/2以下，更优选0(cal/cm3)1/2以上，2.0(cal/cm3)1/2以下。

[0114] 在下层树脂3和上层树脂4层叠的状态下，从适当防止上层树脂4中包含的含氟单体混入下层树脂3中而上层树脂4的表面附近的氟原子7的浓度降低的观点出发，优选含氟单体的溶解度参数与下层树脂3中的除了相溶性单体以外的单体成分的溶解度参数之差为3.0(cal/cm3)1/2以上，5.0(cal/cm3)1/2以下。

[0115] 关于基材膜2的溶解度参数与下层树脂3中的除了相溶性单体以外的单体成分的溶解度参数之差，从充分提高两者的紧贴性的观点出发，优选0(cal/cm3)1/2以上，5.0(cal/cm3)1/2以下。

[0116] 相溶性单体包含于上述第一单体(下层树脂3)和上述第二单体(上层树脂4)中的至少一方，其方式举出下述(i)～(iii)。

[0117] (i)相溶性单体包含于上述第一单体和上述第二单体的方式

[0118] 下层树脂3中的除了相溶性单体以外的单体成分的溶解度参数与含氟单体的溶解度参数之差大(例如，2.0(cal/cm3)1/2以上)的情况下是有效的。上述第一单体中包含的相溶性单体以及上述第二单体中包含的相溶性单体的溶解度参数可以相互不同，也可以是相同的。在两者的溶解度参数不同的情况下，优选上述第一单体中包含的相溶性单体的溶解度参数大于上述第二单体中包含的相溶性单体的溶解度参数。在两者的溶解度参数相同的情况下，也可以使用相同的相溶性单体，优选其溶解度参数为下层树脂3中的除了相溶性单体以外的单体成分的溶解度参数与含氟单体的溶解度参数的中间值。

[0119] (ii)相溶性单体仅包含于上述第一单体的方式

[0120] 优选相溶性单体的溶解度参数为下层树脂3中的除了相溶性单体以外的单体成分的溶解度参数与含氟单体的溶解度参数的中间值。

[0121] (iii)相溶性单体仅包含于上述第二单体的方式

[0122] 优选相溶性单体的溶解度参数为下层树脂3中的除了相溶性单体以外的单体成分的溶解度参数与含氟单体的溶解度参数的中间值。

[0123] 将金属模具5按压到下层树脂3和上层树脂4，从而形成凹凸结构(蛾眼结构)。金属模具5例如能使用通过下述方法制造的模具。首先，制造在铝制的基材上按顺序形成作为绝缘层的二氧化硅(SiO2)以及纯铝的膜的基板。此时，例如通过将铝制的基材做成卷状，能连续地形成绝缘层以及纯铝的层。接下来，对在该基板的表面形成的纯铝的层反复交替地进行阳极氧化和蚀刻，由此能制造蛾眼结构的阴模(金属模具)。

[0124] 优选对金属模具5实施脱模处理。通过对金属模具5实施脱模处理，能使金属模具5的表面自由能量降低，在按压金属模具5时，能使含氟单体良好地聚集在树脂层8(上层树脂4)的表面附近。另外，能适当防止在使树脂层8固化前含氟单体离开树脂层8的表面附近。其结果是，能适当提高光学膜1的表面附近的氟原子7的浓度。优选脱模处理是利用硅烷偶联剂的表面处理。硅烷偶联剂优选使用氟类硅烷偶联剂。

[0125] 根据以上记载，通过实施方式1的光学膜的制造方法能在表面形成蛾眼结构，而且能形成提高了表面附近的氟原子7的浓度并且提高了下层树脂3与上层树脂4的紧贴性的树脂层8，因此能制造具有良好的防反射性并且防污性和耐擦伤性良好的光学膜。

[0126] 接下来，如下说明通过上述制造方法制造的光学膜1。

[0127] 如图1(d)所示，光学膜1按顺序具备基材膜2和树脂层8的固化物。光学膜1是以可见光的波长以下的间距P在表面设有多个凸部6的防反射膜，即相当于具有蛾眼结构的防反射膜。由此，光学膜1能由于蛾眼结构而表现出良好的防反射性(低反射性)。

[0128] 凸部6的形状没有特别限定，例如能举出由柱状的下部和半球状的上部构成的形状(吊钟状)、锥体状(玉米状、圆锥状)等顶端变细的形状(锥体形状)。另外，凸部6也可以是具有枝状突起的形状。枝状突起表示与在为了制造金属模具5而进行阳极氧化和蚀刻的过程中形成的间隔不规则的部分对应的凸部。在图1(d)中，相邻的凸部6的间隙的底边为倾斜的形状，但是也可以不倾斜而为水平的形状。

[0129] 相邻的凸部6间的间距P只要为可见光的波长(780nm)以下即可，没有特别限定，从确保充分的防污性的观点出发，优选100nm以上，400nm以下，更优选100nm以上，200nm以下。在本说明书中，相邻的凸部间的间距表示用日立高新技术社制造的扫描式电子显微镜(产品名称：S-4700)拍摄的平面照片的1μm见方的区域内的除了枝状突起以外的全部相邻的凸部间的距离的平均值。此外，相邻的凸部间的间距使用MEIWAFOSIS社制造的锇涂覆机(产品名称：Neoc-ST)将和光纯药工业社制造的氧化锇VIII(厚度：5nm)涂敷在凹凸结构上的状态下进行测定。

[0130] 凸部6的高度没有特别限定，从兼顾后述的凸部6的适当的高宽比的观点出发，优选50nm以上，600nm以下，更优选100nm以上，300nm以下。在本说明书中，凸部的高度表示采用日立高新技术社制造的扫描式电子显微镜(产品名称：S-4700)拍摄的截面照片中的除了枝状突起以外的连续排列的10个凸部的高度的平均值。但是在选择10个凸部时要除去有缺损、变形的部分(准备试料时变形的部分等)的凸部。试料采用在光学膜的没有异常缺陷的区域采样得到的试料，例如在光学膜为连续制造的卷状的情况下，使用在其中央附近采样的试料。此外，凸部的高度使用MEIWAFOSIS社制造的锇涂覆机(产品名称：Neoc-ST)将和光纯药工业社制造的氧化锇VIII(厚度：5nm)涂敷在凹凸结构上的状态下进行测定。

[0131] 凸部6的高宽比没有特别限定，优选0.8以上，1.5以下。在凸部6的高宽比为1.5以下的情况下，蛾眼结构的加工性足够高，发生粘连、形成蛾眼结构时的转印情况恶化(堵塞金属模具5、缠绕等)的可能性低。在凸部6的高宽比为0.8以上的情况下，能充分防止发生摩尔纹、彩虹状不均匀等光学现象，能实现良好的反射特性。在本说明书中，凸部的高宽比用上述方法测定，表示凸部的高度与相邻的凸部间的间距之比(高度/间距)。

[0132] 凸部6的配置没有特别限定，可以随机配置，也可以规则配置。从充分防止摩尔纹的发生的观点出发，优选随机配置。

[0133] 优选相对于光学膜1的表面，水的接触角为100°以上，十六烷的接触角为40°以上。在这种情况下，能得到疏水性和疏油性足够高的光学膜。另外，更优选相对于光学膜1的表面，水的接触角为150°以上，十六烷的接触角为90°以上。在这种情况下，疏水性和疏油性更高，即，能得到超疏水性和超疏油性的光学膜。水的接触角是表示疏水性的程度的1个指标，水的接触角越大表示疏水性越高。十六烷的接触角是表示疏油性的程度的1个指标，十六烷的接触角越大表示疏油性越高。在本说明书中，接触角表示用协和界面科学社制造的便携式接触角计(产品名称：PCA-1)通过θ/2法(按θ/2＝arctan(h/r)计算。θ表示接触角，r表示液滴的半径，h表示液滴的高度。)测定的3处接触角的平均值。在此，第1处测定点选择试料的中央部分，第2和3处测定点选择离第1处测定点20mm以上并且相对于第1处的测定点相互点对称的位置的2个点。

[0134] [实施方式2]

[0135] 图2是说明实施方式2的光学膜的制造工序的截面示意图(工序a～c)。实施方式2除了同时涂敷下层树脂和上层树脂以外，与实施方式1是同样的，因此适当省略对重复的点的说明。

[0136] (a)下层树脂和上层树脂的涂敷

[0137] 首先，如图2(a)所示，使用在基材膜2上一起挤出下层树脂3和上层树脂4的方式来同时涂敷。其结果是，上层树脂4形成在下层树脂3的与基材膜2相反的一侧。

[0138] (b)凹凸结构的形成

[0139] 如图2(b)所示，在所涂敷的下层树脂3和上层树脂4层叠的状态下，将金属模具5从上层树脂4侧按压到下层树脂3和上层树脂4，形成在表面具有凹凸结构的树脂层8。

[0140] (c)树脂层的固化

[0141] 使形成有凹凸结构的树脂层8固化。其结果是，如图2(c)所示，完成了包括在表面具有凹凸结构的树脂层8的固化物的光学膜1。

[0142] 根据实施方式2的光学膜的制造方法，与实施方式1的光学膜的制造方法同样，能制造具有良好的防反射性、防污性和耐擦伤性良好的光学膜。而且同时涂敷下层树脂3和上层树脂4，因此与实施方式1相比能减少工序数。

[0143] [实施方式3]

[0144] 图3是说明实施方式3的光学膜的制造工序的截面示意图(工序a～c)。实施方式3除了变更上层树脂的涂敷方法以外，与实施方式1同样，因此对重复的点适当省略说明。

[0145] (a)下层树脂和上层树脂的涂敷

[0146] 首先，如图3(a)所示，在基材膜2上涂敷下层树脂3。另一方面，在金属模具5的凹凸面上涂敷上层树脂4。此外，如图3(a)所示，本实施方式中的上层树脂4的厚度DU(涂敷后)表示从金属模具5的与凹部的底点对应的位置到与金属模具5相反的一侧的表面的距离。

[0147] (b)凹凸结构的形成

[0148] 如图3(b)所示，将涂敷有上层树脂4的金属模具5从上层树脂4侧按压到基材膜2上所涂敷的下层树脂3，由此使上层树脂4层叠在下层树脂3上，同时形成凹凸结构。其结果是形成在表面具有凹凸结构的树脂层8。

[0149] (c)树脂层的固化

[0150] 使形成了凹凸结构的树脂层8固化。其结果是，如图3(c)所示，完成了包括在表面具有凹凸结构的树脂层8的固化物的光学膜1。

[0151] 根据实施方式3的光学膜的制造方法，与实施方式1的光学膜的制造方法同样，能制造具有良好防反射性并且防污性和耐擦伤性良好的光学膜。而且，同时进行将上层树脂4层叠到下层树脂3上的工作和形成凹凸结构的工作，因此与实施方式1相比能减少工序数。另外，对金属模具5实施脱模处理，由此在使上层树脂4层叠到下层树脂3上之前使上层树脂
4中包含的含氟单体适当地聚集在金属模具5侧即上层树脂4的表面附近。因此，能更适当地提高光学膜1的表面附近的氟原子7的浓度。

[0152] 在本实施方式的金属模具5的凹凸面上涂敷上层树脂4的方式中，在上层树脂4包括含氟单体(例如，大金工业社制造的氟类添加剂(产品名称：OPTOOL DAC-HP))以及相溶性单体(例如，KJ化学制品社制造的含酰胺基单体(产品名称：ACMO))的情况下，只要将表面张力低的氟类界面活性剂(例如，AGC清美化学社制造的氟类界面活性剂(产品名称：瑟夫隆(Surflon)S-232))或者氟类溶剂(例如，氟技术社制造的氟类溶剂(产品名称：稀释剂ZV))添加到上层树脂4，就能有效地提高上层树脂4涂敷后的平滑性(流平性)，能有效地防止金属模具5上发生液体排斥 在这种情况下，优选氟类界面活性剂或者氟类溶剂相对于上层树脂4的重量比为1重量％以上，200重量％以下。

[0153] 以下举出实施例和比较例进一步详细说明本发明，本发明不限于这些例子。

[0154] (实施例1)

[0155] 通过实施方式1的光学膜的制造方法制造了光学膜。制造工序如下。

[0156] (a)下层树脂的涂敷

[0157] 首先，用第一理化社制造的刮棒涂布机(产品名称：No.03)将下层树脂3涂敷在基材膜2上。基材膜2以及下层树脂3能使用以下材料。

[0158] ＜基材膜2＞

[0159] 实施了易粘接处理的东洋纺社制造的PET膜(产品名称：COSMOSHINE(注册商标)A4300)

[0160] 基材膜2的溶解度参数为10.7(cal/cm3)1/2。基材膜2的厚度为75μm。

[0161] ＜下层树脂3＞

[0162] 下述材料的混合物(各材料所标注的数值表示在下层树脂3中的各材料的浓度。)[0163] ·新中村化学工业社制造的聚氨酯丙烯酸酯(产品名称：UA-7100)：31重量％[0164] ·新中村化学工业社制造的多官能丙烯酸酯(产品名称：ATM-35E)：40重量％[0165] ·新中村化学工业社制造的多官能丙烯酸酯(产品名称：A-TMM-3LM-N)：27.5重量％

[0166] ·BASF社制造的光聚合引发剂(产品名称：IRGACURE819)：1.5重量％

[0167] 下层树脂3(除了光聚合引发剂以外)的溶解度参数为10.5(cal/cm3)1/2。下层树脂3的厚度DL(涂敷后)为7μm。

[0168] (b)上层树脂的涂敷

[0169] 在所涂敷的下层树脂3上利用Sono-Tek社制造的超声喷雾器(喷嘴的产品名称：Vortex)涂敷上层树脂4。上层树脂4使用以下材料。

[0170] ＜上层树脂4＞

[0171] 下述材料的混合物(各材料所标注的数值表示上层树脂4中的各材料的浓度。)[0172] ·含氟单体：大金工业社制造的氟类添加剂(产品名称：OPTOOL DAC-HP)：10重量％

[0173] ·相溶性单体：KJ化学制品社制造的含酰胺基单体(产品名称：ACMO)：90重量％[0174] 此外，用作含氟单体的“OPTOOL DAC-HP”的固形物浓度为10重量％。含氟单体的溶解度参数为9.7(cal/cm3)1/2。相溶性单体的溶解度参数为12.0(cal/cm3)1/2。上层树脂4的厚度DU(涂敷后)为1.3μm。

[0175] (c)凹凸结构的形成

[0176] 在所涂敷的下层树脂3和上层树脂4层叠的状态下，对下层树脂3和上层树脂4从上层树脂4侧按压金属模具5，形成在表面具有凹凸结构的树脂层8。金属模具5是通过下述方法制造的。

[0177] ＜金属模具5＞

[0178] 首先，在玻璃基板上通过溅射法形成铝膜。接下来，对形成膜的铝反复交替地进行阳极氧化和蚀刻，由此形成设有大量微小孔(凹部)(相邻的孔的底点间的距离为可见光的波长以下)的阳极氧化层。具体地说，按顺序进行阳极氧化、蚀刻、阳极氧化、蚀刻、阳极氧化、蚀刻、阳极氧化、蚀刻以及阳极氧化(阳极氧化：5次，蚀刻：4次)，由此形成大量具有向铝的内部变细的形状(锥状)的微小的孔(凹部)，其结果是能得到具有凹凸结构的金属模具5。此时，调整进行阳极氧化的时间以及进行蚀刻的时间，由此能使金属模具5的凹凸结构变化。在本实施例中，设进行1次阳极氧化的时间为316秒，进行1次蚀刻的时间为825秒。在扫描式电子显微镜下观察金属模具5时，凸部的间距为200nm，凸部的高度为350nm。此外，预先用大金工业社制造的氟类添加剂(产品名称：OPTOOL DSX)对金属模具5实施脱模处理。

[0179] (d)树脂层的固化

[0180] 用Fusion UV systems社制造的UV灯(产品名称：LIGHT HANMAR6J6P3)从基材膜2侧对形成了凹凸结构的树脂层8照射紫外线(照射量：200mJ/cm2)使其固化。其结果是，完成了包括在表面具有凹凸结构的树脂层8的固化物的光学膜1。光学膜1的表面规格如下。

[0181] 凸部6的形状：吊钟状

[0182] 凸部6的间距P：200nm

[0183] 凸部6的高度：200～250nm

[0184] (实施例2)

[0185] 除了将上层树脂4的厚度DU(涂敷后)设为6.5μm以外，通过与实施例1同样的制造方法制造光学膜。

[0186] (实施例3)

[0187] 通过实施方式3的光学膜的制造方法制造光学膜。制造工序如下。

[0188] (a)下层树脂和上层树脂的涂敷

[0189] 首先，用第一理化社制造的刮棒涂布机(产品名称：No.03)将下层树脂3涂敷到基材膜2上。另一方面，在金属模具5的凹凸面上用Sono-Tek社制造的超声喷雾器(喷嘴的产品名称：Vortex)涂敷上层树脂4。基材膜2、下层树脂3、上层树脂4以及金属模具5使用与实施例1同样的材料。下层树脂3的厚度DL(涂敷后)为7μm。上层树脂4的厚度DU(涂敷后)为1.3μm。

[0190] (b)凹凸结构的形成

[0191] 将涂敷有上层树脂4的金属模具5从上层树脂4侧按压到基材膜2上涂敷的下层树脂3，由此在使上层树脂4层叠到下层树脂3上的同时形成凹凸结构。

[0192] (c)树脂层的固化

[0193] 用Fusion UV systems社制造的UV灯(产品名称：LIGHT HANMAR6J6P3)从基材膜2侧对形成了凹凸结构的树脂层8照射紫外线(照射量：200mJ/cm2)使其固化。其结果是，完成了包括在表面具有凹凸结构的树脂层8的固化物的光学膜1。光学膜1的表面规格如下。

[0194] 凸部6的形状：吊钟状

[0195] 凸部6的间距P：200nm

[0196] 凸部6的高度：200～250nm

[0197] (实施例4)

[0198] 除了将上层树脂4的厚度DU(涂敷后)设为2.5μm以外，通过与实施例3同样的制造方法制造光学膜。

[0199] (实施例5)

[0200] 除了将上层树脂4的厚度DU(涂敷后)设为3.8μm以外，通过与实施例3同样的制造方法制造光学膜。

[0201] (实施例6)

[0202] 除了将上层树脂4的厚度DU(涂敷后)设为25.0μm以外，通过与实施例3同样的制造方法制造光学膜。

[0203] (实施例7)

[0204] 除了变更基材膜的材料、上层树脂的涂敷所使用装置以及上层树脂的厚度以外，通过与实施例3同样的制造方法制造光学膜。

[0205] 基材膜2采用实施了易粘接处理的富士胶卷社制造的TAC膜(产品名称：FUJITAC(注册商标)TD80UL)。基材膜2的溶解度参数为11(cal/cm3)1/2。基材膜2的厚度为75μm。涂敷上层树脂4的装置使用第一理化社制造的刮棒涂布机(产品名称：No.02)。上层树脂4的厚度DU(涂敷后)为2μm。

[0206] (实施例8)

[0207] 除了不对金属模具5预先实施脱模处理，将下层树脂3的厚度DL(涂敷后)设为6μm以外，通过与实施例7同样的制造方法制造光学膜。

[0208] (比较例1)

[0209] 图4是说明比较例1的光学膜的制造工序的截面示意图(工序a～d)。制造工序如下。

[0210] (a)下层树脂的涂敷

[0211] 首先，如图4(a)所示，利用第一理化社制造的刮棒涂布机(产品名称：No.03)在基材膜102上涂敷下层树脂103a。基材膜102和下层树脂103a使用以下材料。

[0212] ＜基材膜102＞

[0213] 实施了易粘接处理的富士胶卷社制造的TAC膜(产品名称：FUJITACTD80UL)[0214] 基材膜102的厚度为75μm。

[0215] ＜下层树脂103a＞

[0216] 下述材料的混合物(各材料所标注的数值表示下层树脂103a中的各材料的浓度。)[0217] ·新中村化学工业社制造的聚氨酯丙烯酸酯(产品名称：UA-7100)：31重量％[0218] ·新中村化学工业社制造的多官能丙烯酸酯(产品名称：ATM-35E)：40重量％[0219] ·新中村化学工业社制造的多官能丙烯酸酯(产品名称：A-TMM-3LM-N)：27.5重量％

[0220] ·BASF社制造的光聚合引发剂(产品名称：IRGACURE819)：1.5重量％

[0221] 下层树脂103a的厚度(涂敷后)为7μm。

[0222] (b)凹凸结构的形成

[0223] 如图4(b)所示，对所涂敷的下层树脂103a按压金属模具105，形成凹凸结构。金属模具105采用通过下述方法制造的模具。

[0224] ＜金属模具105＞

[0225] 首先，在玻璃基板上通过溅射法形成铝膜。接下来，对形成膜的铝反复交替地进行阳极氧化和蚀刻，由此形成设有大量微小的孔(凹部)(相邻的孔的底点间的距离为可见光的波长以下)的阳极氧化层。具体地说，按顺序进行阳极氧化、蚀刻、阳极氧化、蚀刻、阳极氧化、蚀刻、阳极氧化、蚀刻以及阳极氧化(阳极氧化：5次，蚀刻：4次)，由此形成大量具有向铝的内部变细的形状(锥状)的微小的孔(凹部)，其结果是能得到具有凹凸结构的金属模具105。在本比较例中，设进行1次阳极氧化的时间为316秒，进行1次蚀刻的时间为825秒。在扫描式电子显微镜下观察金属模具105时，凸部的间距为200nm，凸部的高度为350nm。此外，预先对金属模具105用大金工业社制造的氟类添加剂(产品名称：OPTOOL DSX)实施脱模处理。

[0226] (c)下层树脂的固化

[0227] 如图4(c)所示，用Fusion  UV  systems社制造的UV灯(产品名称：LIGHT HANMAR6J6P3)从基材膜102侧对形成了凹凸结构的下层树脂103a照射紫外线(照射量：200mJ/cm2)使其固化。然后，对固化的下层树脂103a的表面实施氧(O2)等离子体处理后，用高频(RF)溅射法在下层树脂103a上形成二氧化硅(SiO2)膜，形成二氧化硅的层109。二氧化硅的层109的厚度为10nm。

[0228] (d)上层树脂的涂敷

[0229] 如图4(d)所示，使用引导加热方式(真空度：1×10-4～1×10-3Pa)在二氧化硅的层109上蒸镀上层树脂104。其结果是完成了光学膜101a。上层树脂104使用含有氟原子107的大金工业社制造的氟类添加剂(产品名称：OPTOOL DSX)。上层树脂104的厚度为10nm以下。另外，光学膜101a的表面规格如下。

[0230] 凸部106a的形状：吊钟状

[0231] 凸部106a的间距Q1：200nm

[0232] 凸部106a的高度：200～250nm

[0233] (比较例2)

[0234] 为了消除形成二氧化硅膜时对下层树脂103a的损伤因而不形成二氧化硅膜，除此以外通过与比较例1同样的制造方法制造光学膜。

[0235] (比较例3)

[0236] 图5是说明比较例3的光学膜的制造工序的截面示意图(工序a～c)。制造工序如下。

[0237] (a)下层树脂的涂敷

[0238] 首先，如图5(a)所示，用第一理化社制造的刮棒涂布机(产品名称：No.03)在基材膜102上涂敷添加了含有氟原子107的含氟单体的下层树脂103b。基材膜102和下层树脂103b采用如下材料。

[0239] ＜基材膜102＞

[0240] 实施了易粘接处理的富士胶卷社制造的TAC膜(产品名称：FUJITACTD80UL)[0241] 基材膜102的厚度为75μm。

[0242] ＜下层树脂103b＞

[0243] 下述材料的混合物(各材料所标注的数值表示下层树脂103b中的各材料的浓度。)[0244] ·新中村化学工业社制造的聚氨酯丙烯酸酯(产品名称：UA-7100)：24.5重量％[0245] ·新中村化学工业社制造的多官能丙烯酸酯(产品名称：ATM-35E)：32.0重量％[0246] ·新中村化学工业社制造的多官能丙烯酸酯(产品名称：A-TMM-3LM-N)：22.0重量％

[0247] ·BASF社制造的光聚合引发剂(产品名称：IRGACURE819)：1.5重量％

[0248] ·含氟单体：大金工业社制造的氟类添加剂(产品名称：OPTOOL DAC-HP)：20重量％

[0249] 下层树脂103b的厚度(涂敷后)为7μm。

[0250] (b)凹凸结构的形成

[0251] 如图5(b)所示，对所涂敷的下层树脂103b按压金属模具105，形成凹凸结构。金属模具105采用与比较例1同样的模具。

[0252] (c)下层树脂的固化

[0253] 如图5(c)所示，用Fusion  UV  systems社制造的UV灯(产品名称：LIGHT HANMAR6J6P3)从基材膜102侧对形成了凹凸结构的下层树脂103b照射紫外线(照射量：200mJ/cm2)使其固化。其结果是完成了光学膜101b。光学膜101b的表面规格如下。

[0254] 凸部106b的形状：吊钟状

[0255] 凸部106b的间距Q2：200nm

[0256] 凸部106b的高度：200～250nm

[0257] [光学膜的评价]

[0258] 表1示出针对实施例1～8以及比较例1～3的光学膜的防反射性、防污性(疏水性、疏油性以及擦拭性)、耐擦伤性、透明性以及光滑性的评价结果。

[0259] 防反射性评价的是各例的样本的视感反射率(Y值)。具体地说，相对于各例的样本的表面从极角5°的方位照射光源，测定各例的样本相对于入射光的各波长的正反射率。然后，将波长550nm的反射率(Y值)作为防反射性的评价指标。反射率使用日本分光社制造的分光光度计(产品名称：V-560)在250～850nm的波长范围中测定。反射率的测定是在各例的样本的背面(未形成凹凸结构的面)贴附有三菱丽阳社制造的黑色的丙烯板(产品名称：SHINKOLITE(注册商标)EX-502)的状态下进行的，光源采用C光源。图6示出了反射率的测定结果的一个例子。图6是示出实施例7的反射率的测定结果的坐标图。在实施例7中，波长
550nm处的Y值为0.05％，a*为-0.03，b*为-1.06。在此，针对基材膜2采用实施了易粘接处理的PET膜的各例(实施例1～6)，将波长550nm处的Y值为0.3％以下的情况判断为能允许的水平(防反射性良好)。另外，针对基材膜2(102)采用实施了易粘接处理的TAC膜的各例(实施例7、8以及比较例1～3)，将波长550nm处的Y值为0.2％以下的情况判断为能允许的水平(防反射性良好)。

[0260] 防污性评价的是各例的样本的疏水性、疏油性以及擦拭性。

[0261] 疏水性评价的是水对各例的样本的表面的接触角。接触角的测定方法如上述那样。在此，将水的接触角为100°以上的情况判断为能允许的水平(疏水性良好)。

[0262] 疏油性评价的是十六烷对各例的样本的表面的接触角。接触角的测定方法如上述那样。在此，将十六烷的接触角为20°以上的情况判断为能允许的水平(疏油性良好)。

[0263] 擦拭性评价的是是否能擦去各例的样本的表面附着的污渍。具体地说，首先，在各例的样本的表面附着妮维雅花王社制造的妮维雅润肤霜(Nivea cream)(注册商标)，在温度25℃、湿度40～60％的环境下放置3天。然后，用KB世联(KB Seiren)社制造的无纺布(产品名称：SAVINA(注册商标))对各例的样本单向地擦拭50次，在照度100lx的环境下观察能否擦去污渍。评价指标使用◎：污渍被完全擦去，○：不完全地擦去了污渍，△：大部分污渍不能被擦去，×：污渍完全没有被擦去。在此，将评价结果为◎或者○的情况判断为能允许的水平(擦拭性良好)。

[0264] 通过以上的评价方法，将疏水性、疏油性以及擦拭性被判断为能允许的水平的情况判断为防污性良好。

[0265] 耐擦伤性评价的是各例的样本对钢丝绒(SW)的耐性。具体地说，用日本钢丝绒社制造的钢丝绒(产品名称：#0000)以施加一定负荷的状态摩擦各例的样本的表面，将损伤时候的负荷作为耐擦伤性的评价指标。用钢丝绒摩擦时，试验机使用新东科学社制造的表面性测定机(产品名称：14FW)，行程范围为30mm，速度为100mm/s，摩擦次数为10个来回。另外，在照度100lx(荧光灯)的环境下用目视观察有无损伤。在此，将钢丝绒耐性为100g以上的情况判断为能允许的水平(耐擦伤性良好)。

[0266] 透明性评价的是各例的样本的雾度(扩散度)。具体地说，对各例的样本测定漫射透射率和全光线透射率，以由雾度(％)＝100×(漫射透射率)/(全光线透射率)决定的雾度作为透明性的评价指标。漫射透射率和全光线透射率使用日本电色工业社制造的雾度计(产品名称：NDH2000)测定。在此，将雾度为1.0％以下的情况判断为能允许的水平(透明性良好)。

[0267] 光滑性通过棉棒的触诊进行评价。评价指标使用◎：非常容易滑动，○：容易滑动，△：滑，×：不滑。在此，将评价结果为◎、○或者△的情况判断为能允许的水平(光滑性良好)。

[0268] [表1]

[0269]

[0270] 如表1所示，实施例1～8均具有良好的防反射性并且防污性和耐擦伤性良好。其中，实施例2～8的防污性和耐擦伤性更加良好，实施例6、7防污性和耐擦伤性特别良好。即，从防污性和耐擦伤性特别良好的观点出发，可知优选采用实施方式3的光学膜的制造方法。另外，将上层树脂4的厚度相同的(1.3μm)的实施例1与实施例3进行比较，则实施例3的防污性和耐擦伤性良好。这表示在上层树脂4的厚度相同的情况下，采用实施方式3的光学膜的制造方法能实现更良好的防污性和耐擦伤性。因此，根据实施方式3的光学膜的制造方法，即使将上层树脂4涂敷得薄，也能有效地实现良好的防污性和耐擦伤性。另外，实施例1～5、
7、8的透明性和光滑性也良好。

[0271] 另一方面，如表1所示，在比较例1、2中，使下层树脂103a固化后涂敷上层树脂104，因此下层树脂103a与上层树脂104的紧贴性低，耐擦伤性差(比较例1)，而且擦拭性也差(比较例1、2)。在比较例3中，为了提高防污性而使含氟单体的浓度比各实施例高，但是含氟单体导致发生白浊。

[0272] [提高防污性的研究]

[0273] 如上所述，根据实施方式3的光学膜的制造方法，可知能实现更良好的防污性。以下举出通过实施方式3的光学膜的制造方法制造的光学膜的研究例说明防污性良好的光学膜的优选特征。

[0274] (研究例1)

[0275] 通过实施方式3的光学膜的制造方法制造光学膜。制造工序如下。

[0276] (a)下层树脂和上层树脂的涂敷

[0277] 首先，用第一理化社制造的刮棒涂布机(产品名称：No.06)在基材膜2上涂敷下层树脂3。另一方面，在金属模具5的凹凸面上用浜松纳米技术社制造的静电喷射器(产品名称：PDS-D系列)涂敷上层树脂4。对静电喷嘴的施加电压为2.5kV。基材膜2、下层树脂3和上层树脂4使用以下材料。金属模具5使用与实施例1同样的模具。

[0278] ＜基材膜2＞

[0279] 实施了易粘接处理的东洋纺社制造的PET膜(产品名称：COSMOSHINE A4300)[0280] 基材膜2的厚度为60μm。

[0281] ＜下层树脂3＞

[0282] 下述材料的混合物(各材料所标注的数值表示下层树脂3中的各材料的浓度。)[0283] ·新中村化学工业社制造的聚氨酯丙烯酸酯(产品名称：UA-7100)：31重量％[0284] ·新中村化学工业社制造的多官能丙烯酸酯(产品名称：ATM-35E)：40重量％[0285] ·新中村化学工业社制造的多官能丙烯酸酯(产品名称：A-TMM-3LM-N)：27.5重量％

[0286] ·BASF社制造的光聚合引发剂(产品名称：IRGACURE819)：1.5重量％

[0287] 下层树脂3的厚度DL(涂敷后)为14μm。

[0288] ＜上层树脂4＞

[0289] 下述材料的混合物(各材料所标注的数值表示上层树脂4中的各材料的浓度。)[0290] ·含氟单体A：10重量％

[0291] ·含氟单体B：40重量％

[0292] ·相溶性单体：KJ化学制品社制造的含酰胺基单体(产品名称：ACMO)：50重量％[0293] 含氟单体A为4-丙烯酰吗啉(浓度：75％以上，85％以下)与全氟聚醚(PFPE)(浓度：15％以上，25％以下)的混合物(括弧中的数值表示含氟单体A中的各成分的浓度。)，其固形物浓度为20重量％。上层树脂4中的含氟单体A的固形物浓度为2.2重量％。含氟单体B是上述专利文献4记载的氟类界面活性剂。上层树脂4对金属模具5的涂敷量为2.1μl，涂敷面积为80mm×70mm。即，上层树脂4的厚度(换算值)为0.375μm。

[0294] (b)凹凸结构的形成

[0295] 将涂敷有上层树脂4的金属模具5从上层树脂4侧按压到基材膜2上涂敷的下层树脂3，由此在使上层树脂4层叠到下层树脂3上的同时形成凹凸结构。

[0296] (c)树脂层的固化

[0297] 用LPL社制造的摄影灯(产品名称：VL-G151)从基材膜2侧对形成了凹凸结构的树脂层8照射紫外线3分钟使其固化(累计光量：54mJ/cm2)。其结果是，完成了包括在表面具有凹凸结构的树脂层8的固化物(以下也称为固化树脂层。)的光学膜1。在光学显微镜下进行观测时，固化树脂层的厚度为11.5μm。光学膜1的表面规格如下。

[0298] 凸部6的形状：吊钟状

[0299] 凸部6的间距P：200nm

[0300] 凸部6的高度：250～300nm

[0301] (研究例2)

[0302] 除了变更上层树脂对金属模具的涂敷量以外，通过与研究例1同样的制造方法制造光学膜。

[0303] 上层树脂4对金属模具5的涂敷量为6.5μl，涂敷面积为80mm×70mm。即，上层树脂4的厚度(换算值)为1.16μm。

[0304] (研究例3)

[0305] 除了变更上层树脂对金属模具的涂敷量以外，通过与研究例1同样的制造方法制造光学膜。

[0306] 上层树脂4对金属模具5的涂敷量为13.3μl，涂敷面积为80mm×70mm。即，上层树脂4的厚度(换算值)为2.38μm。

[0307] (研究例4)

[0308] 除了变更上层树脂对金属模具的涂敷量以外，通过与研究例1同样的制造方法制造光学膜。

[0309] 上层树脂4对金属模具5的涂敷量为30.5μl，涂敷面积为80mm×70mm。即，上层树脂4的厚度(换算值)为5.45μm。

[0310] (评价1)

[0311] 针对研究例1～4的光学膜评价防污性(疏水性、疏油性以及指纹擦拭性)。表2示出评价结果。

[0312] 疏水性评价的是水对各研究例的样本的表面的接触角。疏油性评价的是十六烷对各研究例的样本的表面的接触角。接触角的测定方法如上述那样。

[0313] 指纹擦拭性评价的是各研究例的样本的表面附着的指纹的擦拭容易度。具体地说，首先，对各研究例的样本的表面附着指纹，在温度25℃、湿度40～60％的环境下放置3天。然后，用KB世联社制造的无纺布(产品名称：SAVINA)对各研究例的样本单向地擦拭50次，在照度100lx的环境下进行观察。指纹的擦拭容易度按A、B、C以及D的顺序提高评价(D：最容易擦拭)。

[0314] [表2]

[0315]

[0316] 如表2所示，按研究例1、研究例2、研究例3以及研究例4的顺序，防污性变高。即，可知只要上层树脂4对金属模具5的涂敷量变多(上层树脂4变厚)，防污性就会变高。在此，将研究例1与研究例2进行比较，疏油性为相互相同的程度，而研究例2比研究例1的指纹擦拭性良好。认为这是由于指纹中不仅含有油分也含有水分，疏水性(研究例2比研究例1的疏水性高)也有助于指纹擦拭性。

[0317] (评价2)

[0318] 对研究例1～4的光学膜的表面即凹凸结构的表面进行X射线光电子分光法(XPS：X射线光电子能谱分析(X-ray Photoelectron Spectroscopy))的测定。根据X射线光电子分光法，对试料的表面照射X射线，测定由此飞出的光电子的动能，从而能分析试料的构成原子的组成和化学键状态(键种类)。测定装置使用ULVAC-PHI社制造的X射线光电子分光分析装置(产品名称：PHI 5000VersaProbe II)，其规格如下述那样。

[0319] ＜装置规格＞

[0320] ·X射线源：单色化AlKα线(1486.6eV)

[0321] ·分光器：静电同心半球型分析器

[0322] ·放大器：多频道式

[0323] 图7是示出研究例1～4的光学膜的表面的测量谱的坐标图。图7中的纵轴的“c/s”是“counts/秒”的简写。这一点在其它图中也同样。测量谱的测定条件如下述那样。

[0324] ＜测定条件＞

[0325] ·X射线光束直径为：100μm(25W，15kV)

[0326] ·分析面积：1000μm×500μm

[0327] ·光电子的取出角度：45°

[0328] ·通过能量：187.85eV

[0329] 如图7所示，研究例1～4的光学膜中均检测出了C1s峰、N1s峰、O1s峰以及F1s峰。即，可知研究例1～4的光学膜的固化树脂层的构成原子包括碳原子、氮原子、氧原子和氟原子。

[0330] 接下来，根据图7所示的结果算出凹凸结构的表面的各原子的数量相对于碳原子的数量、氮原子的数量、氧原子的数量以及氟原子的数量的总数量的比率。表3表示算出结果。在本说明书中，凹凸结构的表面指从凹凸结构的最表面到深度方向6nm以内的区域。

[0331] [表3]

[0332]

[0333] 表3所示，凹凸结构的表面的氟原子的数量相对于碳原子的数量、氮原子的数量、氧原子的数量以及氟原子的数量的总数量的比率(以下也称为氟含有率。)按研究例1、研究例2、研究例3以及研究例4的顺序变多，可知与表2所示的防污性强相关。即，可知如果上层树脂4对金属模具5的涂敷量多(上层树脂4厚)，凹凸结构的表面的氟含有率就高，防污性就高。优选凹凸结构的表面的氟含有率为16原子％以上，更优选为33原子％以上，进一步优选为43原子％以上，特别优选为48原子％以上。凹凸结构的表面的氟含有率的优选上限值为55原子％，更优选的上限值为50原子％。在凹凸结构的表面的氟含有率大于55原子％的情况下，固化树脂层有可能会出现白浊。

[0334] 在此，表4示出将表3所示的各数值的单位从“原子％”变换为“mass％”的结果。

[0335] [表4]

[0336]

[0337] 在上述非专利文献3的表3中记载了提高表面的氟原子的浓度的状态。然而，如表4所示，根据研究例2～4的光学膜，与上述非专利文献3记载的状态相比，能实现表面的氟原子的浓度高的状态。

[0338] 将由上述评价1和上述评价2得到的结果相对于上层树脂4对金属模具5的涂敷量即上层树脂4的厚度进行汇总，结果如图8和图9那样。图8是示出上层树脂的厚度与接触角之间的关系的坐标图。图9是示出上层树脂的厚度与凹凸结构的表面的氟原子的数量相对于碳原子的数量、氮原子的数量、氧原子的数量以及氟原子的数量的总数量的比率之间的关系的坐标图。

[0339] 将图8与图9进行比较可知，水的接触角相对于上层树脂4的厚度的趋势与凹凸结构的表面的氟含有率相对于上层树脂4的厚度的趋势是相似的。即，凹凸结构的表面的氟含有率越高，则水的接触角越大，可知其结果是疏水性变高。另一方面，认为关于十六烷的接触角相对于上层树脂4的厚度的趋势，除了凹凸结构的表面的氟含有率相对于上层树脂4的厚度以外，与其它因素也有关系。

[0340] (评价3)

[0341] 通过X射线光电子分光法测定研究例1～4的光学膜的表面的窄谱，调查十六烷的接触角相对于上层树脂4的厚度的趋势与包含氟原子的键种之间的相关性。

[0342] 图10是示出研究例1～4的光学膜的表面的窄谱的坐标图，(a)表示C1s峰，(b)表示N1s峰，(c)表示O1s峰，(d)表示F1s峰。窄谱的测定条件如下。

[0343] ·X射线光束直径为：100μm(25W，15kV)

[0344] ·分析面积：1000μm×500μm

[0345] ·光电子的取出角度：45°

[0346] ·通过能量：46.95eV

[0347] 接下来，将得到的窄谱的峰分离为多个峰，根据各峰位置和形状鉴定与各峰对应的键种。以下举例示出研究例4的C1s峰以及O1s峰的解析结果。对其它研究例也同样进行解析。

[0348] 图11是示出图10(a)中的研究例4的C1s峰的解析结果的坐标图。在图11中，峰CR相当于图10(a)中的研究例4的C1s峰。另一方面，峰C1～C7是用来自各键种的峰对峰CR(C1s峰)进行曲线拟合得到的谱。此外，对得到的谱进行带电校正使得峰C1的位置为284.6eV。

[0349] 表5示出了峰C1～C7的位置以及鉴定出的键种。在鉴定各键种时，使用了上述非专利文献4记载的信息以及上述非专利文献5的表1。

[0350] [表5]

[0351]

[0352] 如表5所示，峰C7鉴定为“CF3键和OCF2键”，而如上述非专利文献5的表1所示，来自CF3键的峰与来自OCF2键的峰处于大致相同的位置，因此是难以分离两者的峰。

[0353] 图12是示出图10(c)中的研究例4的O1s峰的解析结果的坐标图。在图12中，峰OR相当于图10(c)中的研究例4的O1s峰。另一方面，峰O1～O3是用来自各键种的峰对峰OR(O1s峰)进行曲线拟合得到的谱。

[0354] 表6示出峰O1～O3的位置以及鉴定出的键种。在鉴定各键种时使用了上述非专利文献6记载的信息。

[0355] [表6]

[0356]

[0357] 如表6所示，峰O3鉴定为“OFx键”，根据上述非专利文献7的图2，可知与OCF2键对应。OCF2键例如是作为含氟单体A的含有成分的PFPE中包含的键。PFPE中的来自OCF2键的峰比通常向高能量侧迁移。

[0358] 根据以上分析，能将研究例1～4的光学膜的表面的窄谱的峰分别分为来自CF2键的峰(峰C6)、来自CF3键和OCF2键的峰(峰C7)、来自OCF2键的峰(峰O3)以及来自其他键种的峰。

[0359] 接下来，按每个研究例算出来自CF2键的峰(峰C6)、来自CF3键和OCF2键的峰(峰C7)以及来自OCF2键的峰(峰O3)分别相对于来自其它键种的峰的峰面积的比率。峰面积用ULVAC-PHI社制造的数据解析软件(产品名称：MultiPak)算出。

[0360] 图13是示出上层树脂的厚度与C1s峰中的来自CF2键的峰面积相对于CF2键以外的键种的峰面积的比率之间的关系的坐标图。图13中的各数据点的规格如下。

[0361] ·“○”：来自CF2键的峰面积(峰C6的面积)相对于来自C-C键等的峰面积(峰C1的面积)的比率

[0362] ·“□”：来自CF2键的峰面积(峰C6的面积)相对于来自C-O键、C-N键等的峰面积(峰C2的面积与峰C3的面积之和)的比率

[0363] ·“△”：来自CF2键的峰面积(峰C6的面积)相对于来自CHF键、COO键等的峰面积(峰C4的面积与峰C5的面积之和)的比率

[0364] 在此，在图13中的纵轴中，上述“○”和“□”对应于左侧的纵轴，上述“△”对应于右侧的纵轴。

[0365] 图14是示出上层树脂的厚度与C1s峰中的来自CF3键和OCF2键的峰面积相对于来自CF3键和OCF2键以外的键种的峰面积的比率之间的关系的坐标图。图14中的各数据点的规格如下。

[0366] ·“○”：来自CF3键和OCF2键的峰面积(峰C7的面积)相对于来自C-C键等的峰面积(峰C1的面积)的比率

[0367] ·“□”：来自CF3键和OCF2键的峰面积(峰C7的面积)相对于来自C-O键、C-N键等的峰面积(峰C2的面积与峰C3的面积之和)的比率

[0368] ·“△”：来自CF3键和OCF2键的峰面积(峰C7的面积)相对于来自CHF键、COO键等的峰面积(峰C4的面积与峰C5的面积之和)的比率

[0369] 在此，在图14中的纵轴中，上述“○”和“□”对应于左侧的纵轴，上述“△”对应于右侧的纵轴。

[0370] 图15是示出上层树脂的厚度与O1s峰中的来自OCF2键的峰面积相对于来自OCF2键以外的键种的峰面积的比率之间的关系的坐标图。在图15中，“○”表示来自OCF2键的峰面积(峰O3的面积)相对于来自C-O键的峰面积(峰O1的面积)与来自C＝O键的峰面积(峰O2的面积)之和的比率。如图15所示，来自OCF2键的峰面积相对于来自C-O键的峰面积与来自C＝O键的峰面积之和的比率在研究例1(上层树脂4的厚度：0.375μm)中为0.102，在研究例2(上层树脂4的厚度：1.16μm)中为0.355，在研究例3(上层树脂4的厚度：2.38μm)中为0.696，在研究例4(上层树脂4的厚度：5.45μm)中为1.027。

[0371] 将图8与图13～15进行比较可知，与十六烷的接触角相对于上层树脂4的厚度的趋势最相关的是图15所示的来自OCF2键的峰面积相对于来自C-O键的峰面积与来自C＝O键的峰面积之和的比率。由以上分析可知，来自OCF2键的峰面积相对于来自C-O键的峰面积与来自C＝O键的峰面积之和的比率越高，十六烷的接触角越大，其结果是疏油性变高。优选来自OCF2键的峰面积相对于来自C-O键的峰面积与来自C＝O键的峰面积之和的比率为0.1以上，更优选0.3以上，进一步优选0.6以上，特别优选1以上。关于来自OCF2键的峰面积相对于来自C-O键的峰面积与来自C＝O键的峰面积之和的比率的优选上限值为1.1。

[0372] (评价4)

[0373] 为了对研究例1～4的光学膜调查固化树脂层的构成原子的分布状态，一边利用气体团簇离子束(GCIB：Gas Cluster Ion Beam)对凹凸结构进行蚀刻一边利用X射线光电子分光法进行测定。

[0374] 气体团簇离子束由数十乃至数千个原子构成，是每个原子的能量非常低的离子束。例如，利用氩气体团簇离子束对试料进行溅射时，不会发生溅射原子的残留，因此能实现用C60离子无法实现的每1原子1～20eV程度的超低能量离子蚀刻。另外，在溅射后的试料表面几乎不会发生由氩气体团簇离子引起的化学变化，因此能实现对有机物的蚀刻。测定装置能使用在ULVAC-PHI社制造的X射线光电子分光分析装置(产品名称：PHI 5000VersaProbe II)中搭载有同社制造的氩气体团簇溅射离子枪(产品名称：06-2000)的装置。

[0375] 图16是示出研究例1的光学膜的固化树脂层中的各原子的数量相对于碳原子的数量、氮原子的数量、氧原子的数量以及氟原子的数量的总数量的比率的坐标图。图17是示出研究例2的光学膜的固化树脂层中的各原子的数量相对于碳原子的数量、氮原子的数量、氧原子的数量以及氟原子的数量的总数量的比率的坐标图。图18是示出研究例3的光学膜的固化树脂层中的各原子的数量相对于碳原子的数量、氮原子的数量、氧原子的数量以及氟原子的数量的总数量的比率的坐标图。图19是示出研究例4的光学膜的固化树脂层中的各原子的数量相对于碳原子的数量、氮原子的数量、氧原子的数量以及氟原子的数量的总数量的比率的坐标图。

[0376] 氩气体团簇离子束发生的溅射条件以及带电中和条件如下述那样。此外，X射线光电子分光法的测定条件与上述评价3的窄谱的测定条件同样。

[0377] ＜溅射条件＞

[0378] ·离子源：氩气体团簇离子束

[0379] ·加速电压：10kV(15mA发射)

[0380] ·试料电流：30nA

[0381] ·光栅区域：4mm×3mm

[0382] ·Zalar旋转：未使用

[0383] ·溅射时间：81分钟(1.5分×2周期，3分×8周期以及6分×9周期的合计时间)[0384] ·溅射率(蚀刻率)：27nm/分(聚羟基苯乙烯换算)

[0385] ＜带电中和条件＞

[0386] ·电子枪：偏压1.0V(20μA发射)

[0387] ·离子枪：3V(7mA发射)

[0388] 图16～19中的横轴D(单位：μm)表示在深度方向离凹凸结构的表面的距离，是聚羟基苯乙烯换算值。图16～19中的纵轴“原子浓度”表示各原子的数量相对于碳原子的数量、氮原子的数量、氧原子的数量以及氟原子的数量的总数量的比率(单位：原子％)。

[0389] 如图16～19所示，可知氟原子的数量相对于碳原子的数量、氮原子的数量、氧原子的数量以及氟原子的数量的总数量的比率(氟含有率)在固化树脂层的深度方向减少。即，可知氟含有率在固化树脂层的表面侧(凹凸结构的表面侧)高。

[0390] 接下来，算出固化树脂层中的氟原子的浓度。表7示出算出结果。利用下述式分别针对图16～19算出固化树脂层中的氟原子的浓度。

[0391] [固化树脂层中的氟原子的浓度](单位：％)＝[氟原子的曲线下的面积]/[绘图区域的面积]

[0392] 在此，具体地说，[绘图区域的面积]指的是横轴的范围的长度(11.5μm：固化树脂层的厚度)与纵轴的范围的长度(100％)之积。

[0393] [表7]

[0394]

[0395] 如表7所示，固化树脂层中的氟原子的浓度高的为1％程度，透明性高。而如表3所示，可知凹凸结构的表面的氟含有率高，氟原子以高浓度存在于固化树脂层的表面侧(凹凸结构的表面侧)。因此，根据研究例1～4的光学膜，能兼具透明性和防污性。另外，优选固化树脂层中的氟原子的浓度为2％以下，更优选为1.1％以下。在固化树脂层中的氟原子的浓度大于2％的情况下，固化树脂层有可能发生白浊。

[0396] (评价5)

[0397] 对在上述评价4中得到的结果更详细地调查固化树脂层中的氟原子的分布状态。图20是示出研究例1～4的光学膜的固化树脂层中的氟原子的分布状态的坐标图。氩气体团簇离子束的溅射条件、带电中和条件以及X射线光电子分光法的测定条件与上述评价4是同样的。

[0398] 图20中的横轴D(单位：nm)表示在深度方向离凹凸结构的表面的距离，是聚羟基苯乙烯换算值。图20中的纵轴“MFD/MFS”如下定义，表示MFD相对于MFS的比率。

[0399] ·MFS(单位：原子％)：凹凸结构的表面的氟原子的数量相对于碳原子的数量、氮原子的数量、氧原子的数量以及氟原子的数量的总数量的比率

[0400] ·MFD(单位：原子％)：在深度方向离凹凸结构的表面通过聚羟基苯乙烯换算为D(单位：nm)的位置处的氟原子的数量相对于碳原子的数量、氮原子的数量、氧原子的数量以及氟原子的数量的总数量的比率

[0401] 如图20所示，可知氟原子的数量对碳原子的数量、氮原子的数量、氧原子的数量以及氟原子的数量的总数量的比率(氟含有率)在固化树脂层的深度方向减少。另外，可知氟含有率的减少趋势按研究例1、研究例2、研究例3以及研究例4的顺序变平缓。即，可知上层树脂4对金属模具5的涂敷量越多(上层树脂4越厚)，氟原子就能存在至固化树脂层的更深部。满足MFD/MFS＝0时的D在研究例1中为1050nm以上的范围，在研究例2中为1220nm以上的范围，在研究例3中为1380nm以上的范围，在研究例4中为1540nm以上的范围。如图20所示，满足MFD/MFS＝0.3时的D在研究例1中为200nm，在研究例2中为240nm，在研究例3中为275nm，在研究例4中为350nm。优选满足MFD/MFS＝0.3时的D为200nm以上，更优选为240nm以上，进一步优选为275nm以上，特别优选为350nm以上。在满足MFD/MFS＝0.3时的D为240nm以上的情况下，实现了在凹凸结构的凸部6的内部整体(凸部6的高度：250～300nm)分布有更多的氟原子的状态，防污性足够高。满足MFD/MFS＝0.3时的D的优选上限值为350nm。

[0402] (评价6)

[0403] 通过上述评价5可知固化树脂层中的氟原子的分布状态。接下来，将相对于固化树脂层的深度方向的谱的峰按每个键种分离，由此调查固化树脂层中的含氟单体A和含氟单体B的含有成分(CF2键、CF3键以及OCF2键)的分布状态。

[0404] 图21是示出研究例1～4的光学膜的固化树脂层中的CF2键的分布状态的坐标图。图21中的横轴D(单位：nm)表示在深度方向离凹凸结构的表面的距离，是聚羟基苯乙烯换算值。图21中的纵轴“M1D/M1S”如下定义，表示M1D相对于M1S的比率。

[0405] ·M1S：从凹凸结构的表面检测出的C1s峰中的来自CF2键的峰面积

[0406] ·M1D：在深度方向离凹凸结构的表面通过聚羟基苯乙烯换算为D(单位：nm)的位置处检测出的C1s峰中的来自CF2键的峰面积

[0407] 在此，设为来自CF2键的峰相当于从C1s峰分离的峰(例如，图11中的峰C6)来进行解析。

[0408] 如图21所示，可知CF2键的量在固化树脂层的深度方向减少。另外，可知CF2键的量的减少趋势按研究例1、研究例2、研究例3以及研究例4的顺序变得平缓。即，可知上层树脂4对金属模具5的涂敷量越多(上层树脂4越厚)，CF2键就能存在至固化树脂层的更深部。

[0409] 图22是示出研究例1～4的光学膜的固化树脂层中的CF3键和OCF2键的分布状态的坐标图。图22中的横轴D(单位：nm)表示在深度方向离凹凸结构的表面的距离，是聚羟基苯乙烯换算值。图22中的纵轴“M2D/M2S”如下定义，表示M2D相对于M2S的比率。

[0410] ·M2S：从凹凸结构的表面检测出的C1s峰中的来自CF3键和OCF2键的峰面积[0411] ·M2D：在深度方向离凹凸结构的表面通过聚羟基苯乙烯换算为D(单位：nm)的位置检测出的C1s峰中的来自CF3键和OCF2键的峰面积

[0412] 在此，设为来自CF3键和OCF2键的峰相当于从C1s峰分离的峰(例如，图11中的峰C7)来进行解析。

[0413] 如图22所示，可知CF3键和OCF2键的量在固化树脂层的深度方向减少。另外，可知CF3键和OCF2键的量的减少趋势按研究例1、研究例2、研究例3以及研究例4的顺序变得平缓。即，可知上层树脂4对金属模具5的涂敷量越多(上层树脂4越厚)，CF3键和OCF2键就存在至固化树脂层的更深部。

[0414] 图23是示出研究例1～4的光学膜的固化树脂层中的OCF2键的分布状态的坐标图。图23中的横轴D(单位：nm)表示在深度方向离凹凸结构的表面的距离，是聚羟基苯乙烯换算值。图23中的纵轴“M3D/M3S”如下定义，表示M3D对M3S的比率。

[0415] ·M3S：从凹凸结构的表面检测出的O1s峰中的来自OCF2键的峰面积

[0416] ·M3D：在深度方向离凹凸结构的表面通过聚羟基苯乙烯换算为D(单位：nm)的位置检测出的O1s峰中的来自OCF2键的峰面积

[0417] 在此，设为来自OCF2键的峰相当于从O1s峰分离的峰(例如，图12中的峰O3)来进行解析。

[0418] 如图23所示，可知OCF2键的量在固化树脂层的深度方向减少。另外，可知OCF2键的量的减少趋势按研究例1、研究例2、研究例3以及研究例4的顺序变得平缓。即，可知上层树脂4对金属模具5的涂敷量越多(上层树脂4越厚)，OCF2键就能存在至固化树脂层的更深部。

[0419] 如图21～23所示，可知含氟单体A和含氟单体B的含有成分(CF2键、CF3键以及OCF2键)以高浓度存在于在深度方向离凹凸结构的表面通过聚羟基苯乙烯换算为1μm以内的区域。因此，调查含氟单体A和含氟单体B的含有成分以何种程度的浓度存在。

[0420] 图24是示出研究例1～4的光学膜的固化树脂层中的来自CF2键的碳原子的存在比率的坐标图。图24中的横轴D(单位：nm)表示在深度方向离凹凸结构的表面的距离，是聚羟基苯乙烯换算值。图24中的纵轴“M1ST/M1T”如下定义，表示M1ST相对于M1T的比率。

[0421] ·M1T：相当于固化树脂层中的来自CF2键的碳原子的数量

[0422] ·M1ST：相当于在深度方向离凹凸结构的表面通过聚羟基苯乙烯换算为D(单位：nm)以内的区域中存在的来自CF2键的碳原子的数量

[0423] D＝1000nm(1μm)时的M1ST/M1T在研究例1～4中均为1。

[0424] M1T以及M1ST按以下的顺序计算。以下举例示出对研究例4的计算方法。对其它研究例也同样进行计算。

[0425] 首先，按每个键种分离在固化树脂层的深度方向的谱的峰，算出来自各键种的原子浓度。图25是示出研究例4的光学膜的固化树脂层中的来自各键种的原子的数量相对于碳原子的数量、氮原子的数量、氧原子的数量以及氟原子的数量的总数量的比率的坐标图。在图25中，提取出峰C6(CF2键)、峰C7(CF3键和OCF2键)以及峰O3(OCF2键)进行图示。

[0426] 图25中的横轴D(单位：nm)表示在深度方向离凹凸结构的表面的距离，是聚羟基苯乙烯换算值。图25中的纵轴“原子浓度”表示来自各键种的原子的数量相对于碳原子的数量、氮原子的数量、氧原子的数量以及氟原子的数量的总数量的比率(单位：原子％)。具体地说，如下述那样。

[0427] ·C1s(C6)：来自CF2键的碳原子的数量相对于碳原子的数量、氮原子的数量、氧原子的数量以及氟原子的数量的总数量的比率

[0428] ·C1s(C7)：来自CF3键和OCF2键的碳原子的数量相对于碳原子的数量、氮原子的数量、氧原子的数量以及氟原子的数量的总数量的比率

[0429] ·O1s(O3)：来自OCF2键的氧原子的数量相对于碳原子的数量、氮原子的数量、氧原子的数量以及氟原子的数量的总数量的比率

[0430] 接下来，基于图25示出的结果，如图26所示，从曲线下的面积计算M1T以及M1ST。图26是示出图24中的研究例4的M1T以及M1ST的坐标图。

[0431] ·M1T：C1s(C6)的曲线下的面积

[0432] ·M1ST：C1s(C6)的曲线下的横轴0～D的范围的面积

[0433] 图27是示出研究例1～4的光学膜的固化树脂层中的来自CF3键和OCF2键的碳原子的存在比率的坐标图。图27中的横轴D(单位：nm)表示在深度方向离凹凸结构的表面的距离，是聚羟基苯乙烯换算值。图27中的纵轴“M2ST/M2T”如下定义，表示M2ST相对于M2T的比率。

[0434] ·M2T：相当于固化树脂层中的来自CF3键和OCF2键的碳原子的数量

[0435] ·M2ST：相当于在深度方向离凹凸结构的表面通过聚羟基苯乙烯换算为D(单位：nm)以内的区域中存在的来自CF3键和OCF2键的碳原子的数量

[0436] D＝1000nm(1μm)时的M2ST/M2T在研究例1～4中均为1。

[0437] M2T和M2ST通过以下的顺序计算。以下，举例示出对研究例4的计算方法。对其它研究例也同样进行计算。

[0438] 基于图25所示的结果，如图28所示，从曲线下的面积计算M2T和M2ST。图28是举例示出图27中的研究例4的M2T和M2ST的坐标图。

[0439] ·M2T：C1s(C7)的曲线下的面积

[0440] ·M2ST：C1s(C7)的曲线下的横轴0～D的范围的面积

[0441] 图29是示出研究例1～4的光学膜的固化树脂层中的来自OCF2键的氧原子的存在比率的坐标图。图29中的横轴D(单位：nm)表示在深度方向离凹凸结构的表面的距离，是聚羟基苯乙烯换算值。图29中的纵轴“M3ST/M3T”如下定义，表示M3ST相对于M3T的比率。

[0442] ·M3T：相当于固化树脂层中的来自OCF2键的氧原子的数量

[0443] ·M3ST：相当于在深度方向离凹凸结构的表面通过聚羟基苯乙烯换算为D(单位：nm)以内的区域中存在的来自OCF2键的氧原子的数量

[0444] D＝1000nm(1μm)时的M3ST/M3T在研究例1～3中为1，在研究例4中为0.99。

[0445] M3T和M3ST通过以下的顺序计算。以下举例示出了对研究例4的计算方法。对其它研究例也同样进行计算。

[0446] 基于图25所示的结果，如图30所示，从曲线下的面积计算M3T和M3ST。图30是举例示出图29中的研究例4的M3T以及M3ST的坐标图。

[0447] ·M3T：O1s(O3)的曲线下的面积

[0448] ·M3ST：O1s(O3)的曲线下的横轴0～D的范围的面积

[0449] 如图24、图27以及图29所示，D＝1000nm(1μm)时，各研究例中的M1ST/M1T、M2ST/M2T以及M3ST/M3T均为0.99以上。即，来自CF2键的碳原子、来自CF3键和OCF2键的碳原子、来自OCF2键的氧原子分别在深度方向离凹凸结构的表面通过聚羟基苯乙烯换算为1μm以内的区域中的数量为固化树脂层中的数量的99％以上。含氟单体A和含氟单体B的含有成分以高浓度存在于固化树脂层的表面侧(凹凸结构的表面侧)，从充分提高防污性的观点出发，优选从包括来自CF2键的碳原子、来自CF3键和OCF2键的碳原子以及来自OCF2键的氧原子的群选出的至少一种原子在深度方向离凹凸结构的表面通过聚羟基苯乙烯换算为1μm以内的区域中的数量为固化树脂层中的数量的95％以上，更优选99％以上。另外，进一步优选来自CF2键的碳原子、来自CF3键和OCF2键的碳原子以及来自OCF2键的氧原子分别在深度方向离凹凸结构的表面通过聚羟基苯乙烯换算为1μm以内的区域中的数量为固化树脂层中的数量的99％以上。

[0450] 通过以上内容可知，当考虑到在上述评价4中记载的内容时，即使固化树脂层中的氟原子的浓度为2％以下的低的状态，含氟单体A和含氟单体B的含有成分也会以高浓度存在于固化树脂层的表面侧(凹凸结构的表面侧)。由于这种状态，能实现防污性足够良好的光学膜。

[0451] [附注]

[0452] 本发明的一个方式可以是一种光学膜的制造方法，上述光学膜的表面具有以可见光的波长以下的间距设有多个凸部的凹凸结构，上述光学膜的制造方法的特征在于，包括：工序(1)，涂敷下层树脂和上层树脂；工序(2)，在所涂敷的上述下层树脂和上述上层树脂层叠的状态下，将金属模具从上述上层树脂侧按压到上述下层树脂和上述上层树脂，形成在表面具有上述凹凸结构的树脂层；以及工序(3)，使上述树脂层固化，上述下层树脂包括不含氟原子的至少一种第一单体，上述上层树脂包括不含氟原子的至少一种第二单体和含氟单体，上述第一单体和上述第二单体中的至少一方包括与上述含氟单体相溶的相溶性单体，并且溶解在上述下层树脂和上述上层树脂中。

[0453] 上述工序(1)中的“涂敷下层树脂和上层树脂”不仅包括将上述下层树脂和上述上层树脂重叠涂敷在同一基材上的情况，也包括将上述下层树脂和上述上层树脂涂敷在不同的基材上的情况。将上述下层树脂和上述上层树脂涂敷在不同的基材上的情况例如也可以是将上述下层树脂涂敷在基材膜上，将上述上层树脂涂敷在上述金属模具上。

[0454] 另外，上述工序(2)中的“在所涂敷的上述下层树脂和上述上层树脂层叠的状态下，将金属模具从上述上层树脂侧按压到上述下层树脂和上述上层树脂”不仅包括在上述下层树脂和上述上层树脂层叠后按压上述金属模具的情况，也包括一边层叠上述下层树脂和上述上层树脂一边按压上述金属模具的情况。换言之，在上述工序(2)中，包括将使上述下层树脂和上述上层树脂层叠(以下也称为层叠化步骤。)和将上述金属模具从上述上层树脂侧按压到上述下层树脂和上述上层树脂(以下也称为按压步骤。)以不同的定时或者相同的定时进行的方法。

[0455] 以不同的定时进行上述层叠化步骤和上述按压步骤的方法优选以下的方法(i)～(iv)。

[0456] (i)将上述下层树脂和上述上层树脂按顺序涂敷到基材膜上(上述层叠化步骤)，然后，将上述金属模具从上述上层树脂侧按压到上述下层树脂和上述上层树脂(上述按压步骤)。

[0457] 即，上述工序(1)也可以通过将上述下层树脂和上述上层树脂按顺序涂敷到基材膜上来进行。在这种情况下，能将一般涂敷方式(例如，凹版方式、狭缝模具方式等)的装置并列设置来适当地进行上述下层树脂和上述上层树脂的涂敷。

[0458] (ii)将上述下层树脂和上述上层树脂同时涂敷到基材膜上(上述上层树脂形成在上述下层树脂的与基材膜相反的一侧)(上述层叠化步骤)，然后，将上述金属模具从上述上层树脂侧按压到上述下层树脂和上述上层树脂(上述按压步骤)。

[0459] 即，上述工序(1)也可以通过同时将上述下层树脂和上述上层树脂涂敷到基材膜上来进行。在这种情况下，能适当地进行上述下层树脂和上述上层树脂的涂敷。而且，与将上述下层树脂和上述上层树脂按顺序涂敷到上述基材膜上的情况相比，能使涂敷装置简单化，减少工序数，因此生产率高。

[0460] (iii)按顺序将上述上层树脂和上述下层树脂涂敷到上述金属模具上(上述层叠化步骤)，然后，将涂敷有上述上层树脂和上述下层树脂的上述金属模具按压到基材膜(上述按压步骤)。

[0461] 即，上述工序(1)也可以通过将上述上层树脂和上述下层树脂按顺序涂敷到上述金属模具上来进行。在这种情况下，例如如果上述金属模具采用柔性金属模具，就能与上述基材膜的形状无关地容易地形成上述凹凸结构。

[0462] (iv)将上述上层树脂和上述下层树脂同时涂敷到上述金属模具上(上述下层树脂形成在上述上层树脂的与上述金属模具相反的一侧)(上述层叠化步骤)，然后，将涂敷有上述上层树脂和上述下层树脂的上述金属模具按压到基材膜(上述按压步骤)。

[0463] 即，上述工序(1)通过将上述上层树脂和上述下层树脂同时涂敷到上述金属模具上来进行。在这种情况下，例如如果上述金属模具采用柔性金属模具，就能与上述基材膜的形状无关地容易地形成上述凹凸结构。

[0464] 以相同的定时进行上述层叠化步骤和上述按压步骤的方法优选以下的方法(v)。

[0465] (v)将上述下层树脂涂敷到基材膜上，将上述上层树脂涂敷到上述金属模具上，然后，一边将涂敷有上述上层树脂的上述金属模具从上述上层树脂侧按压到涂敷于上述基材膜上的上述下层树脂(上述按压步骤)，一边使上述上层树脂层叠到上述下层树脂上(上述层叠化步骤)。

[0466] 即，上述工序(1)通过将上述下层树脂涂敷到基材膜上，将上述上层树脂涂敷到上述金属模具上来进行，上述工序(2)通过将涂敷有上述上层树脂的上述金属模具从上述上层树脂侧按压到涂敷于上述基材膜上的上述下层树脂来进行。在这种情况下，能同时进行使上述上层树脂层叠到上述下层树脂上和形成上述凹凸结构。而且，与按顺序将上述下层树脂和上述上层树脂涂敷到上述基材膜上的情况相比，能减少工序数。另外，根据本方法，能适当提高防污性，特别是能将上层树脂的构成材料的损耗抑制为最小限度。

[0467] 以下举出本发明的光学膜的制造方法的优选特征的例子。各例也可以在不脱离本发明的要旨的范围中适当地组合。

[0468] 也可以通过喷射方式涂敷上述上层树脂。由此，能容易地调整上述上层树脂的厚度，特别是在想通过适当地提高上述上层树脂的表面附近的氟原子的浓度而使上述上层树脂变薄的情况下，也能以均匀的厚度进行涂敷。在想将上述上层树脂涂敷得薄的情况下，优选例如用离心式喷嘴、静电喷嘴、超声波喷嘴等进行涂敷。上述上层树脂中包含的上述含氟单体比较昂贵，因此将上述上层树脂涂敷得薄从而能减少上述光学膜的材料成本。另外，通过采用喷射方式能抑制装置成本。

[0469] 上述金属模具也可以实施脱模处理。由此，能使上述金属模具的表面自由能量变低，在按压上述金属模具时，能使上述含氟单体适当地聚集到上述树脂层(上述上层树脂)的表面附近。另外，能适当防止在使上述树脂层固化前上述含氟单体从上述树脂层的表面附近离开。其结果是能适当地提高上述光学膜的表面附近的氟原子的浓度。

[0470] 上述脱模处理也可以是利用硅烷偶联剂的表面处理。由此，能适当地进行上述脱模处理。

[0471] 上述下层树脂的粘度也可以在25℃时大于10cp，不到10000cp。由此，能防止在上述上层树脂和上述下层树脂层叠的状态下，上述上层树脂中包含的上述含氟单体混入上述下层树脂中，上述上层树脂的表面附近的氟原子的浓度降低。另外，能适当地提高上述下层树脂的涂敷性。

[0472] 上述上层树脂的粘度也可以在25℃时大于0.1cp，不到100cp。由此，能适当地确保上述上层树脂中包含的含氟单体的流动性。而且，能适当地提高上述上层树脂的涂敷性。

[0473] 上述含氟单体也可以利用紫外线进行固化。由此，能有效地利用上述含氟单体。

[0474] 上述上层树脂中的上述含氟单体的浓度也可以大于0重量％，不到20重量％。由此，能适当地防止上述含氟单体的量变多导致发生白浊。

[0475] 上述上层树脂中也可以不添加溶剂。即，上述上层树脂也可以是无溶剂系的树脂。在上述上层树脂中不添加溶剂的情况下，不需要用于使上述溶剂干燥而除去的装置，能抑制装置成本。另外，不使用上述溶剂，因此相应地减少成本，能提高生产率。另一方面，在上述上层树脂中添加溶剂的情况下，上述含氟单体过于混杂，有可能会导致上述光学膜的表面附近的氟原子的浓度降低。另外，挥发性变高，因此有可能会导致涂敷性降低。

[0476] 上述相溶性单体也可以在分子内具有酰胺键。由此，能有效地利用上述相溶性单体。

[0477] 上述相溶性单体的溶解度参数与上述含氟单体的溶解度参数之差也可以为0(cal/cm3)1/2以上，4.0(cal/cm3)1/2以下。由此，能充分提高上述相溶性单体与上述含氟单体的相溶性。

[0478] 上述相溶性单体的溶解度参数与上述下层树脂中的上述除了相溶性单体以外的3 1/2 3 1/2
单体成分的溶解度参数之差也可以为0(cal/cm) 以上，3.0(cal/cm) 以下。由此，能充分提高上述相溶性单体与上述下层树脂的相溶性。

[0479] 上述相溶性单体的溶解度参数与上述上层树脂中的除了上述相溶性单体以外的单体成分的溶解度参数之差也可以为0(cal/cm3)1/2以上，3.0(cal/cm3)1/2以下。由此，能充分提高上述相溶性单体与上述上层树脂的相溶性。

[0480] 上述含氟单体的溶解度参数与上述下层树脂中的上述除了相溶性单体以外的单体成分的溶解度参数之差也可以为3.0(cal/cm3)1/2以上，5.0(cal/cm3)1/2以下。由此，能适当地防止在上述下层树脂和上述上层树脂层叠的状态下，上述上层树脂中包含的上述含氟单体混入上述下层树脂中，上述上层树脂的表面附近的氟原子的浓度降低。

[0481] 上述基材膜的溶解度参数与上述下层树脂中的除了相溶性单体以外的单体成分的溶解度参数之差也可以为0(cal/cm3)1/2以上，5.0(cal/cm3)1/2以下。由此，能充分提高上述基材膜与上述下层树脂的紧贴性。

[0482] 以下，举出本发明的光学膜的优选特征的例子。各例也可以在不脱离本发明的要旨的范围中适当地组合。

[0483] 也可以是相对于上述光学膜的表面，水的接触角为100°以上，十六烷的接触角为40°以上。由此，能得到疏水性和疏油性足够高的上述光学膜。

[0484] 上述凹凸结构的表面的上述氟原子的数量相对于上述碳原子的数量、上述氮原子的数量、上述氧原子的数量以及上述氟原子的数量的总数量的比率也可以为43原子％以上。由此，能实现防污性足够良好的上述光学膜。

[0485] 上述固化树脂层中的上述氟原子的浓度也可以为2％以下，在X射线光束直径为100μm、分析面积为1000μm×500μm以及光电子的取出角度为45°的条件下通过X射线光电子分光法进行测定时，从包括来自CF2键的上述碳原子、来自CF3键和OCF2键的上述碳原子以及来自上述OCF2键的上述氧原子的群选出的至少一种原子在深度方向离上述凹凸结构的表面通过聚羟基苯乙烯换算为1μm以内的区域中的数量为上述固化树脂层中的数量的95％以上。由此，在上述固化树脂层中的上述氟原子的浓度低至2％以下的状态下，包含上述氟原子的键种也会以高浓度存在于上述固化树脂层的表面侧(上述凹凸结构的表面侧)，能实现防污性足够良好的上述光学膜。

[0486] 附图标记说明：

[0487] 1、101a，101b：光学膜

[0488] 2、102：基材膜

[0489] 3、103a，103b：下层树脂

[0490] 4、104：上层树脂

[0491] 5、105：金属模具

[0492] 6、106a，106b：凸部

[0493] 7、107：氟原子

[0494] 8：树脂层

[0495] 109：二氧化硅的层

[0496] P、Q1、Q2：间距

[0497] DL：下层树脂的厚度

[0498] DU：上层树脂的厚度

[0499] C1、C2、C3、C4、C5、C6、C7、CR、O1、O2、O3、OR：峰