荧光剂装置及其制造方法转让专利

申请号 : CN201610081916.3

文献号 : CN106909020B

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法律信息:

相似专利:

发明人 : 张克苏周彦伊陈琪

申请人 : 台达电子工业股份有限公司

摘要 :

本专利申请涉及一种荧光剂装置其制造方法,适用于发出第一波段光的光源系统,荧光剂装置包括基板及第一荧光层。第一荧光层包括第一荧光剂及第二荧光剂。第一荧光剂形成于基板以转换第一波段光为第二波段光,其中第二波段光包括第一色光及第二色光。第二荧光剂分布于第一荧光剂之间以转换第一波段光为第二色光,以增加第二色光的出光强度。因此,该第二色光的出光强度是有效地被增加。

权利要求 :

1.一种荧光剂装置,适用于一光源系统,该光源系统发出一第一波段光,该荧光剂装置包括:一基板;以及

一第一荧光层,包括:

一第一荧光剂,形成于该基板,以转换该第一波段光为一第二波段光,其中该第二波段光包括一第一色光及一第二色光;以及一第二荧光剂,分布于该第一荧光剂之间,以转换该第一波段光为该第二色光,以增加该第二色光的出光强度,该荧光剂装置还包括:

一第二荧光层,其中该基板为一反射式基板,该第二荧光层是设置于该第一荧光层,且该第二荧光层包括该第一荧光剂,以转换该第一波段光为该第二波段光以及降低该第一波段光的能量。

2.如权利要求1所述的荧光剂装置,其中自该第二荧光层输入至该第一荧光层的该第一波段光的残余能量少于40瓦特。

3.如权利要求1所述的荧光剂装置,其中每一该第一荧光层及该第二荧光层的厚度大于或等于50微米,并小于或等于200微米。

4.如权利要求1所述的荧光剂装置,其中该第二荧光剂的重量百分比相较于该第一荧光剂小于85%。

5.如权利要求1所述的荧光剂装置,还包括一反射层,其中该反射层是设置于该基板及该第一荧光层之间,以反射该第二波段光。

6.如权利要求1所述的荧光剂装置,还包括一第二荧光层,其中该基板为一穿透式基板,该第二荧光层是设置于该第一荧光层及该穿透式基板之间,且该第二荧光层包括该第一荧光剂,以转换该第一波段光为该第二波段光以及降低该第一波段光的能量。

7.如权利要求6所述的荧光剂装置,其中输入至该第一荧光层的该第一波段光的残余能量少于40瓦特。

8.如权利要求6所述的荧光剂装置,其中每一该第一荧光层及该第二荧光层的厚度大于或等于50微米,并小于或等于200微米。

9.如权利要求6所述的荧光剂装置,该第二荧光剂的重量百分比相较于该第一荧光剂小于85%。

10.如权利要求6所述的荧光剂装置,还包括一反射层,其中该反射层是设置于该基板及该第二荧光层之间,以反射该第二波段光。

11.一种荧光剂装置,适用于一光源系统,该光源系统沿一光路径发出一第一波段光,该荧光剂装置包括:一基板,设置于该光路径;以及

一第一荧光层,形成于该基板的一侧;以及

一第二荧光层,于该光路径上形成于该第一荧光层之后;

其中该第一荧光层包括一第一荧光剂及x重量百分浓度的第二荧光剂,且该第二荧光层包括该第一荧光剂及y重量百分浓度的该第二荧光剂,其中y大于x,该第一荧光剂是将该第一波段光转换为一第二波段光,该第二波段光包括一第一色光及一第二色光,且该第二荧光剂是将该第一波段光转换为该第二色光,以增加该第二色光的出光强度。

12.如权利要求11所述的荧光剂装置,其中x大于0,且y小于85。

13.如权利要求11所述的荧光剂装置,其中每一该第一荧光层及该第二荧光层的厚度大于或等于10微米,并小于或等于500微米。

14.一种荧光剂装置,适用于一光源系统,该光源系统发出一第一波段光至该荧光剂装置,以使该第一波段光受该荧光剂装置转换为一第二波段光,该荧光剂装置包括:一基板;以及

一第一荧光层,形成于该基板且包括:

一第一成份,其中该第一成份将该第一波段光转换为一第一色光及一第二色光;以及一第二成份,分布于该第一成份之间,以转换该第一波段光为一第三色光,其中该第二色光的光谱范围与该第三色光的光谱范围至少部分地重叠,且该第一色光、该第二色光及该第三色光整合为该第二波段光,该荧光剂装置包括:

一第二荧光层,其中该第二荧光层包括该第一成份,以同时地转换该第一波段光为该第一色光及第二色光并降低该第一波段光的能量,且该第一波段光是沿一光路径依序穿透该第二荧光层并进入该第一荧光层。

15.如权利要求14所述的荧光剂装置,还包括一第二荧光层,其中该第二荧光层包括该第一成份及该第二成份,且该第一波段光是沿一光路径依序穿透该第二荧光层并进入该第一荧光层,其中该第一荧光层中第二成份与第一成份的比值为y,该第二荧光层中第二成份与第一成份的比值为x,y大于x,且x等于或大于0。

16.一种荧光剂装置,适用于一光源系统,该光源系统沿一光路径发出一第一波段光至该荧光剂装置,以使该第一波段光受该荧光剂装置转换为一第二波段光,该荧光剂装置包括:一基板;

一第一荧光层,形成于该基板且包括:

一第一成份,其中该第一成份将该第一波段光转换为一第一色光及一第二色光;以及一第二成份,分布于该第一荧光层的该第一成份之间,以转换该第一波段光为一第三色光;以及一第二荧光层,包括:

该第一成份,其中该第一成份将该第一波段光转换为该第一色光及该第二色光;以及该第二成份,分布于该第二荧光层的该第一成份之间,以转换该第一波段光为该第三色光;

其中,每一该第一荧光层及该第二荧光层的厚度大于或等于10微米并小于或等于500微米,该第一波段光是沿该光路径依序穿透该第二荧光层并进入该第一荧光层,该第二色光的光谱范围与该第三色光的光谱范围至少部分地重叠,且该第一色光、该第二色光及该第三色光整合为该第二波段光。

17.如权利要求16所述的荧光剂装置,其中该第一荧光层中第二成份与第一成份的比值为y,该第二荧光层中第二成份与第一成份的比值为x,y大于x,且x等于或大于0。

18.一种荧光剂装置的制造方法,包括步骤:

提供一反射式基板;

形成一第一荧光层于该反射式基板,其中该第一荧光层包括一第一荧光剂及一第二荧光剂,该第一荧光剂是转换一第一波段光为一第二波段光,该第二波段光包括一第一色光及一第二色光,且该第二荧光剂是转换该第一波段光为该第二色光,以增加该荧光剂装置输出的该第二色光的出光强度;以及形成一第二荧光层于该第一荧光层上,其中该第二荧光层包括该第一荧光剂,以转换该第一波段光为该第二波段光并降低该第一波段光的能量。

19.一种荧光剂装置的制造方法,包括步骤:

提供一穿透式基板;

形成一第二荧光层于该穿透式基板,其中该第二荧光层包括一第一荧光剂,以转换一第一波段光为一第二波段光并降低该第一波段光的能量;以及形成一第一荧光层于该第二荧光层上,其中该第一荧光层包括该第一荧光剂及一第二荧光剂,该第一荧光剂是转换该第一波段光为该第二波段光,该第二波段光包括一第一色光及一第二色光,且该第二荧光剂是转换该第一波段光为该第二色光,以增加该荧光剂装置输出的该第二色光的出光强度。

说明书 :

荧光剂装置及其制造方法

技术领域

[0001] 本专利申请涉及一种荧光剂装置,特别涉及一种荧光剂装置及其制造方法。

背景技术

[0002] 近年来,各式各样的投影设备,例如投影机(Projector)已被广泛地应用于家庭、学校或者各种商务场合中,以用于将一影像信号源所提供的影像信号放大显示于屏幕。为节省电力消耗以及缩小装置体积,目前的投影设备的光源系统(Illumination System)已使用固态发光元件,例如发光二极管或激光元件,来取代传统的高密度气体放电灯(HID Lamp)或高压汞灯。
[0003] 一般而言,投影机的光源系统可发出三原色光,即红光(R)、绿光(G)、蓝光(B)等三原色光。在三原色固态发光元件,即红光固态发光元件、绿光固态发光元件及蓝光固态发光元件之间,以蓝光固态发光元件的发光效率最佳。由于红光固态发光元件及绿光固态发光元件的发光效率较差,故红光及绿光可使用蓝光固态发光元件配合波长转换装置(例如荧光剂色轮)产生。也就是说,利用蓝光固态发光元件配合荧光剂色轮可以直接发出红光或绿光,以取代红光固态发光元件或绿光固态发光元件。因此,光源系统整体的发光效率提高,且该光源系统的制造成本降低。
[0004] 然而,使用固态发光元件发出一激发光以及使用荧光剂色轮转换该激发光仍具有不少缺点。当使用固态发光元件配合涂布有荧光剂的荧光剂色轮发出一受激光并经分色而投影时,某一色光的出光强度或者色彩饱和度皆可能有不足的问题。
[0005] 因此,如何发展一种可改善上述现有技术缺陷的荧光剂装置及其制造方法,实为目前尚待解决的问题。

发明内容

[0006] 本专利申请的主要目的为提供一种荧光剂装置及其制造方法,以解决前述现有技术的至少一个缺点。
[0007] 本专利申请的另一目的为提供一种荧光剂装置及其制造方法,其荧光层包括第一荧光剂及第二荧光剂,通过该第二荧光剂的转换,可增加经该第一荧光剂转换后的第二波段光中包括的某一色光的出光强度。
[0008] 本专利申请的另一目的为提供一种荧光剂装置及其制造方法,由于包括第一荧光剂及第二荧光剂的第二荧光层于光路径上是形成于仅包括第一荧光剂的第一荧光层的后,第一波段光的大部分能量皆被第一荧光层的第一荧光剂所降低,使得该第二荧光剂的转换效率能够被增加。
[0009] 为达上述目的,本专利申请的一较佳实施方式为提供一种荧光剂装置,适用于一光源系统,该光源系统发出一第一波段光,该荧光剂装置包括一基板以及一第一荧光层。该第一荧光层包括一第一荧光剂及一第二荧光剂,第一荧光剂形成于该基板,以转换该第一波段光为一第二波段光。该第二波段光包括一第一色光及一第二色光。该第二荧光剂分布于该第一荧光剂的间,以转换该第一波段光为该第二色光,以增加该第二色光的出光强度。
[0010] 为达上述目的,本专利申请的另一较佳实施方式为提供一种荧光剂装置,适用于一光源系统,该光源系统沿一光路径发出一第一波段光,该荧光剂装置包括一基板、一第一荧光层及一第二荧光层。该基板设置于该光路径。该第一荧光层形成于该基板的一侧。该第二荧光层于该光路径上形成于该第一荧光层之后。该第一荧光层包括一第一荧光剂及x重量百分比的第二荧光剂,且该第二荧光层包括该第一荧光剂及y重量百分比的该第二荧光剂,其中y大于x。该第一荧光剂是将该第一波段光转换为一第二波段光。该第二波段光包括一第一色光及一第二色光。该第二荧光剂是将该第一波段光转换为该第二色光,以增加该第二色光的出光强度。
[0011] 为达上述目的,本专利申请的一较佳实施方式为提供一种荧光剂装置,适用于一光源系统,该光源系统发出一第一波段光至该荧光剂装置,以使该第一波段光受该荧光剂装置转换为一第二波段光,该荧光剂装置包括一基板以及一第一荧光层。该第一荧光层形成于该基板且包括一第一成份及一第二成份。该第一成份将该第一波段光转换为一第一色光及一第二色光。该第二成份分布于该第一成份之间,以转换该第一波段光为一第三色光。该第二色光的光谱范围与该第三色光的光谱范围至少部分地重叠,且该第一色光、该第二色光及该第三色光整合为该第二波段光。
[0012] 为达上述目的,本专利申请的一较佳实施方式为提供一种荧光剂装置,适用于一光源系统,该光源系统沿一光路径发出一第一波段光至该荧光剂装置,以使该第一波段光受该荧光剂装置转换为一第二波段光,该荧光剂装置包括:一基板、一第一荧光层及一第二荧光层。该第一荧光层形成于该基板且包括一第一成份及一第二成份。该第一成份将该第一波段光转换为一第一色光及一第二色光。该第二成份分布于该第一荧光层的该第一成份之间,以转换该第一波段光为一第三色光。该第二荧光层包括该第一成份及该第二成份。该第一成份将该第一波段光转换为该第一色光及该第二色光;以及该第二成份,分布于该第二荧光层的该第一成份之间,以转换该第一波段光为该第三色光;其中,每一该第一荧光层及该第二荧光层的厚度大于或等于10微米并小于或等于500微米。该第一波段光是沿该光路径依序穿透该第二荧光层并进入该第一荧光层。该第二色光的光谱范围与该第三色光的光谱范围至少部分地重叠,且该第一色光、该第二色光及该第三色光整合为该第二波段光。
[0013] 为达上述目的,本专利申请的一较佳实施方式为提供一种荧光剂装置的制造方法,包括步骤:提供一基板;形成一第一荧光层于该基板,其中该第一荧光层包括一第一荧光剂及一第二荧光剂,该第一荧光剂是转换一第一波段光为一第二波段光,该第二波段光包括一第一色光及一第二色光,且该第二荧光剂是转换该第一波段光为该第二色光,以增加该荧光剂装置输出的该第二色光的出光强度。
[0014] 为达上述目的,本专利申请的一较佳实施方式为提供一种荧光剂装置的制造方法,包括步骤:提供一反射式基板;形成一第一荧光层于该反射式基板,其中该第一荧光层包括一第一荧光剂及一第二荧光剂,该第一荧光剂是转换一第一波段光为一第二波段光,该第二波段光包括一第一色光及一第二色光,且该第二荧光剂是转换该第一波段光为该第二色光,以增加该荧光剂装置输出的该第二色光的出光强度;以及形成一第二荧光层于该第一荧光层上,其中该第二荧光层包括该第一荧光剂,以转换该第一波段光为该第二波段光并降低该第一波段光的能量。
[0015] 为达上述目的,本专利申请的一较佳实施方式为提供一种荧光剂装置的制造方法,包括步骤:提供一穿透式基板;形成一第二荧光层于该穿透式基板,其中该第二荧光层包括一第一荧光剂,以转换一第一波段光为一第二波段光并降低该第一波段光的能量;以及形成一第一荧光层于该第二荧光层上,其中该第一荧光层包括该第一荧光剂及一第二荧光剂,该第一荧光剂是转换该第一波段光为该第二波段光,该第二波段光包括一第一色光及一第二色光,且该第二荧光剂是转换该第一波段光为该第二色光,以增加该荧光剂装置输出的该第二色光的出光强度。

附图说明

[0016] 图1A是显示本专利申请一实施例的包括一反射式基板的一荧光剂装置及包括该荧光剂装置的一光源系统的示意图。
[0017] 图1B是显示图1A所示的该荧光剂装置的结构示意图。
[0018] 图2A是显示本专利申请一实施例的包括一穿透式基板的一荧光剂装置及包括该荧光剂装置的一光源系统的示意图。
[0019] 图2B是显示图2A所示的该荧光剂装置的结构示意图。
[0020] 图3是显示本专利申请一实施例的包括一反射式基板的一荧光剂装置的结构示意图。
[0021] 图4是显示本专利申请一实施例的包括一穿透式基板的一荧光剂装置的结构示意图。
[0022] 图5是显示本专利申请包括黄色荧光剂及红色荧光剂的一荧光剂装置,现有技术采用黄色荧光剂的一荧光剂装置,以及现有技术采用红色荧光剂的一荧光剂装置的可见光的强度-波长图。
[0023] 图6A是显示本专利申请一实施例的包括一反射式基板的一荧光剂装置及包括该荧光剂装置的一光源系统的示意图。
[0024] 图6B是显示图6A所示的该荧光剂装置的结构示意图。
[0025] 图7A是显示本专利申请一实施例的包括一穿透式基板的一荧光剂装置及包括该荧光剂装置的一光源系统的示意图。
[0026] 图7B是显示图7A所示的该荧光剂装置的结构示意图。
[0027] 附图标记说明:
[0028] 1:荧光剂装置
[0029] 10:基板
[0030] 11:第一荧光层
[0031] 12:第二荧光层
[0032] 13:反射层
[0033] 2:光源系统
[0034] 3:荧光剂装置
[0035] 30:基板
[0036] 31:第一荧光层
[0037] 32:第二荧光层
[0038] 33:反射层
[0039] 4:光源系统
[0040] C1:第一色光
[0041] C2:第二色光
[0042] L1:第一波段光
[0043] L2:第二波段光
[0044] P:光路径
[0045] R:第二荧光剂
[0046] Y:第一荧光剂

具体实施方式

[0047] 体现本专利申请特征与优点的一些典型实施例将在后段的说明中详细叙述。应理解的是本专利申请能够在不同的态样上具有各种的变化,其皆不脱离本专利申请的范围,且其中的说明及图示在本质上是当作对其进行说明用,而非架构于限制本专利申请。
[0048] 图1A是显示本专利申请一实施例的包括一反射式基板的一荧光剂装置及包括该荧光剂装置的一光源系统的示意图。图1B是显示图1A所示的该荧光剂装置的结构示意图。如图1A及图1B所示,本专利申请的荧光剂装置1适用于一光源系统2,其中光源系统2发出一第一波段光L1。荧光剂装置1包括基板10及第一荧光层11。第一荧光层11包括第一荧光剂Y及第二荧光剂R。第一荧光剂Y是形成于基板10,以转换第一波段光L1为第二波段光L2。第二波段光L2可被光学装置分色或分光以用于投影,且包括第一色光C1及第二色光C2。第二荧光剂R分布于第一荧光剂Y之间,以转换第一波段光L1为第二色光C2,以增加该第二色光C2的出光强度。
[0049] 应注意的是在荧光剂装置1的一制造方法中,在基板10被提供之后,包括第一荧光剂Y及第二荧光剂R的第一荧光层11是被形成于基板10。第二荧光剂用于转换第一波段光L1以加强第二色光C2,以使荧光剂装置1输出的第二色光C2的出光强度提升。第二荧光剂R可以平均分布或梯度分布的方式被添加于第一荧光层11,使得第二荧光剂R分布于第一荧光剂Y之间。当然,第二荧光剂R可以被用来通过一混合方法与第一荧光剂Y混合为一混合物。可替换地,第二荧光剂R及第一荧光剂Y可被形成为多个区段。该多个区段是例如以圆饼状分布的方式分布于第一荧光层11,但不以此为限。每一个区段皆包括第一荧光剂Y或第二荧光剂R,亦或每一个区段皆同时包括第一荧光剂Y及第二荧光剂R。
[0050] 在此实施例以及后续的实施例中,第一荧光剂Y可为例如黄色荧光剂,但不以此为限。同时,第二荧光剂R可为例如红色荧光剂,但不以此为限。于某些情况下,第二荧光剂R可为绿色荧光剂。第二荧光剂R的主要精神在于提升受第一荧光剂Y激发的受激光(第二波段光L2)包括的色光中的至少一个色光的强度并调整其色彩饱和度。进一步而言,元件符号“Y”及“R”于附图中是被绘制以用于标示第一荧光剂及第二荧光剂,然并非是用以限制第一荧光剂及第二荧光剂的颜色。
[0051] 图2A是显示本专利申请一实施例的包括一穿透式基板的一荧光剂装置及包括该荧光剂装置的一光源系统的示意图。图2B是显示图2A所示的该荧光剂装置的结构示意图。如图2A及图2B所示,本专利申请的荧光剂装置1适用于一光源系统2,且荧光剂装置1包括基板10及第一荧光层11,其中第一荧光层11是与前述实施例的第一荧光层11相同,故于此不再赘述。于此实施例中,基板10为一穿透式基板。
[0052] 应注意的是本专利申请的荧光剂装置1可以另一种方式被考虑或理解。于一实施例中,第一荧光层11是形成于基板10且包括第一成份及第二成份。第一成份可为该第一荧光剂,且第二成份亦同理。此外,该第一成份将第一波段光L1转换为第一色光C1及第二色光C2。该第二成份分布于该第一成份之间,以转换第一波段光L1为第三色光,其中第二色光C2的光谱范围与第三色光的光谱范围至少部分地重叠,且第一色光、第二色光及第三色光整合为第二波段光L2。由于第二色光C2的光谱范围与第三色光的光谱范围至少部分地重叠,故第二色光C2的至少一部分的强度是被提升。
[0053] 另一方面,当受第二成份转换的第三色光与受第一成份转换的第二色光C2相同时,第二色光C2的光谱范围与第三色光的光谱范围是完整地重叠,且第一荧光剂1即与上述的实施例相符。换言之,受第二成份转换的色光的光谱范围可被选择或调整,以符合实际需求,但并不受限于本专利申请的各个实施例。
[0054] 图3是显示本专利申请一实施例的包括一反射式基板的一荧光剂装置的结构示意图。如图1B及图3所示,荧光剂装置1还包括第二荧光层12。于一些实施例中,基板10为一反射式基板,且第二荧光层12是设置于第一荧光层11。第二荧光层12包括第一荧光剂Y,以转换第一波段光L1为第二波段光L2以及降低第一波段光L1的能量。也就是说,当入射光(即第一波段光L1)穿透第二荧光层12时,入射光的大部分的能量是被用于转换。举例而言,输入至第一荧光层11的第一波段光L1的残余能量少于40瓦特,但不以此为限。
[0055] 每一第一荧光层11及第二荧光层12的厚度大于或等于10微米(≥10μm),并小于或等于500微米(≤500μm)。于较佳实施例中,每一第一荧光层11及第二荧光层12的厚度大于或等于50微米(≥50μm),并小于或等于200微米(≤200μm)。应注意的是第一荧光层11的厚度可与第二荧光层12的厚度相同或不同。此外,第二荧光剂R的重量百分比相对于第一荧光剂Y小于85%。
[0056] 在此实施例中,本专利申请的荧光剂装置1还包括一反射层13。反射层13是形成于基板10及第一荧光层11之间,以反射至少该第二波段光L2。反射层13的实例包括但不限于一全反射层或一分光层。当使用一分光层作为反射层13时,与第二波段光L2具有相同的波长范围的一色光可被反射层13反射。当然,第一色光C1及第二色光C2二者皆可被反射层13反射。另当使用一全反射层时,几乎所有的可见光皆被反射层13反射。
[0057] 在包括反射式基板的荧光剂装置1的一制造方法中,在反射式基板被提供之后,包括第一荧光剂Y及第二荧光剂R的第一荧光层11是被形成于反射式基板。第二荧光剂是如上述用于转换第一波段光L1为第三色光,以使荧光剂装置1输出的第二色光C2的出光强度提升。接着,第二荧光层12是被形成于第一荧光层11上。第二荧光层12包括第一荧光剂Y,以转换第一波段光L1为第二波段光L2以及降低第一波段光L1的能量。除此之外,反射层13可被预先镀覆于基板10,或于此制造方法的制程中被形成于基板10。
[0058] 请参阅图2B及图4。图4是显示本专利申请一实施例的包括一穿透式基板的一荧光剂装置的结构示意图。在此实施例中,荧光剂装置1还包括一第二荧光层12。基板10为一穿透式基板,且第二荧光层12是设置于第一荧光层11及基板10之间。第二荧光层12包括第一荧光剂Y,以转换第一波段光L1为第二波段光L2并同时降低第一波段光L1的能量。换言之,当入射光(即第一波段光L1)穿透第二荧光层12时,入射光的大部分的能量是被用于转换后,方才进入第一荧光层11。举例而言,输入至第一荧光层11的第一波段光L1的残余能量少于40瓦特,但不以此为限。
[0059] 每一第一荧光层11及第二荧光层12的厚度大于或等于10微米,并小于或等于500微米。于较佳实施例中,每一第一荧光层11及第二荧光层12的厚度大于或等于50微米,并小于或等于200微米。第二荧光剂R的重量百分比相对于第一荧光剂Y小于85%。
[0060] 在一实施例中,本专利申请的荧光剂装置1还包括一反射层13。反射层13是形成于基板10及第二荧光层12之间,以反射第二波段光L2。反射层13的实例包括但不限于一分光层。当使用一分光层作为反射层13时,与第一波段光L1具有相同的波长范围的一色光可穿透反射层13,且与第二波段光L2具有相同的波长范围的一色光可被反射层13反射。
[0061] 在包括穿透式基板的荧光剂装置1的一制造方法中,在穿透式基板被提供之后,包括第一荧光剂Y的第二荧光层12是被形成于穿透式基板。然后,第一荧光层11是被形成于第二荧光层12上。第一荧光层11包括第一荧光剂Y,以转换第一波段光L1为第二波段光L2,且第二波段光L2包括第一色光C1及第二色光C2。接着,第二荧光剂R是被添加于第一荧光层11,以转换第一波段光L1为第二色光C2,以使荧光剂装置1输出的第二色光C2的出光强度提升。除此之外,反射层13可被预先镀覆于基板10,或于此制造方法的制程中被形成于基板
10。
[0062] 请参阅图1、图3及图5,其中图5是显示本专利申请包括黄色荧光剂及红色荧光剂的一荧光剂装置,现有技术采用黄色荧光剂的一荧光剂装置,以及现有技术采用红色荧光剂的一荧光剂装置的可见光的强度-波长图。其目的是与现有技术采用黄色荧光剂的荧光剂装置及现有技术采用红色荧光剂的荧光剂装置作比较。图5标示出本专利申请图3示出的荧光剂装置1(即「黄色于黄色及红色之上」的曲线)、现有技术采用黄色荧光剂的荧光剂装置(即「黄色荧光剂」的曲线)以及现有技术采用红色荧光剂的荧光剂装置(即「红色荧光剂」的曲线)所输出的红光强度(在「红色」区域)。明显地,本专利申请荧光剂装置1的红光强度大于现有技术的任一者。进一步地,下表一示出比较数据。其中第二荧光剂R相对于第一荧光剂Y的重量百分比为25%。现有技术采用黄色荧光剂的荧光剂装置的红光强度是被定为100%,以作为比较的基础。
[0063] 表一
[0064]
[0065] 图6A是显示本专利申请一实施例的包括一反射式基板的一荧光剂装置及包括该荧光剂装置的一光源系统的示意图。图6B是显示图6A所示的该荧光剂装置的结构示意图。如图6A及图6B所示,适用于光源系统4且包括反射式基板的荧光剂装置3是于此被公开。光源系统4沿光路径P发出第一波段光L1。荧光剂装置3包括基板30、第一荧光层31及第二荧光层32。基板30是设置于光路径P。第一荧光层31是形成于基板30的一侧。第二荧光层32是于光路径P上形成于第一荧光层31之后。第一荧光层31包括第一荧光剂Y及x重量百分比(即x wt%)的第二荧光剂R。第二荧光层32包括第一荧光剂Y及y重量百分比(即y wt%)的第二荧光剂R,且y大于x(y>x)。第一荧光剂Y是转换第一波段光L1为第二波段光L2。第二波段光L2包括第一色光C1及第二色光C2。第二荧光剂R是转换第一波段光L1为第二色光C2,以增加第二色光C2的出光强度。
[0066] 进一步地,x大于0,且y小于85。x及y的关系式可整理为0
[0067] 每一第一荧光层31及第二荧光层32的厚度大于或等于10微米,并小于或等于500微米。于较佳实施例中,每一第一荧光层31及第二荧光层32的厚度大于或等于50微米,并小于或等于200微米。
[0068] 图7A是显示本专利申请一实施例的包括一穿透式基板的一荧光剂装置及包括该荧光剂装置的一光源系统的示意图。图7B是显示图7A所示的该荧光剂装置的结构示意图。如图7A及图7B所示,适用于光源系统4且包括穿透式基板的荧光剂装置3是于此被公开。光源系统4沿光路径P发出第一波段光L1。荧光剂装置3包括基板30、第一荧光层31及第二荧光层32。基板30、第一荧光层31及第二荧光层32是与图6A及图6B所示的实施例相同,故于此不再赘述。此实施例与图6A及图6B所示的实施例的唯一差异,在于图6B所示的基板30为一反射式基板,而图7B所示的基板30为一穿透式基板。
[0069] 表二为一比较数据。现有技术采用红色荧光剂的荧光剂装置的红光强度是被定为100%,以作为比较的基础。
[0070] 表二
[0071]
[0072] 综上所述,本专利申请提供一种荧光剂装置及其制造方法,其荧光层包括第一荧光剂及第二荧光剂,通过该第二荧光剂的转换,可增加经该第一荧光剂转换后的第二波段光中包括的某一色光的出光强度。同时,由于包括第一荧光剂及第二荧光剂的第二荧光层于光路径上是形成于仅包括第一荧光剂的第一荧光层之后,第一波段光的大部分能量皆被第一荧光层的第一荧光剂所降低,使得该第二荧光剂的转换效率能够被增加。
[0073] 纵使本发明已由上述的实施例详细叙述而可由本领域技术人员任施匠思而为诸般修饰,然皆不脱如附权利要求所欲保护者。