曝光设备及曝光系统

摘要

本发明提供一种曝光设备及曝光系统，属于显示基板制备技术领域，其可解决现有的接近式曝光机的曝光区域尺寸单一，设备复杂的问题。本发明的曝光设备包括：能发生形变的凹面反射镜，用于反射曝光光线，并保证所述曝光光线最终射向曝光区域；调整模组，用于改变所述凹面反射镜的曲率。

权利要求

1.一种曝光设备，其特征在于，包括：能发生形变的凹面反射镜，用于反射曝光光线，并保证所述曝光光线最终射向曝光区域；

调整模组，用于改变所述凹面反射镜的曲率；

所述调整模组包括：第一支撑连杆、第二支撑连杆和角度调整模块；其中，所述第一支撑连杆的第一端部和第二支撑连杆的第一端部分别与所述凹面反射镜的两个相对边连接，所述第一支撑连杆的第二端部和第二支撑连杆的第二端部转动连接；

所述角度调整模块用于调整所述第一支撑连杆与第二支撑连杆间的夹角角度；

所述角度调整模块包括连接部和调整单元；其中，所述连接部连接在所述第一支撑连杆和第二支撑连杆之间；

所述调整单元用于使所述连接部发生运动以调整所述第一支撑连杆与第二支撑连杆间的夹角角度；

所述连接部包括第一连接杆和第二连接杆；其中，所述第一连接杆的第一端部和与第一支撑连杆相连，所述第二连接杆的第一端部和第二支撑连杆连接；

所述第一连接杆的第二端部和第二连接杆的第二端部均与所述调整单元连接；

所述调整单元用于带动所述第一连接杆的第二端部和第二连接杆的第二端部在远离或靠近所述凹面反射镜的方向上运动。

2.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，还包括：反射模组，用于将来自所述凹面反射镜的曝光光线反射向曝光区域。

3.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述调整模组设置于所述凹面反射镜的凸面侧。

4.根据权利要求1所述的曝光设备，其特征在于，所述调整单元包括螺母和螺纹杆；其中，所述螺母与所述第一连接杆的第二端部和第二连接杆的第二端部分别固定连接，并套设在所述螺纹杆上；

所述螺纹杆转动时能带动所述螺母在远离或靠近所述凹面反射镜的方向上运动。

5.根据权利要求4所述的曝光设备，其特征在于，所述调整单元还包括：固定设置的驱动器，用于驱动所述螺纹杆转动。

6.一种曝光系统，其特征在于，包括：权利要求1至5中任意一项所述的曝光设备。

7.根据权利要求6所述的曝光系统，其特征在于，还包括：用于放置待曝光基板的基台；所述基台上用于放置待曝光基板的区域的长度与宽度尺寸不同。

说明书

曝光设备及曝光系统

技术领域

[0001] 本发明属于显示技术领域，具体涉及一种曝光设备及曝光系统。

背景技术

[0002] 现有技术当中，通常采用接近式曝光机来生产彩色滤光片。

[0003] 传统接近式曝光机的曝光区域尺寸较为单一，通常只有一种或者两种曝光区域。在生产彩色滤光片时，曝光区域(即曝光光线能照到的区域)应当与待曝光区域(即待曝光基板需要同时进行曝光的区域)尺寸相同。而不同产品的待曝光区域的尺寸各有不同，当曝光区域大于待曝光区域时，需要将曝光区域超出待曝光区域的部分遮挡进行曝光。或者，现有技术中，还可改变待曝光基板的放置方式(例如待曝光区域长度等于曝光区域宽度，通过旋转待曝光基板用曝光区域宽度对应待曝光区域长度进行曝光)，以在满足曝光需求的同时尽量减少曝光照度的浪费。

[0004] 发明人发现现有技术中至少存在如下问题：对曝光区域遮挡进行曝光造成曝光照度利用不够充分；为了应对不同的待曝光基板放置方式，需要增加相应的曝光辅助设备，导致曝光系统设备重复配置，成本较高。

发明内容

[0005] 本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提供一种能够灵活调整曝光区域尺寸以应对不同待曝光基板的曝光设备。

[0006] 解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种曝光设备，包括：

[0007] 能发生形变的凹面反射镜，用于反射曝光光线，并保证所述曝光光线最终射向曝光区域；

[0008] 调整模组，用于改变所述凹面反射镜的曲率。

[0009] 优选的，所述曝光设备还包括：反射模组，用于将来自所述凹面反射镜的曝光光线反射向曝光区域。

[0010] 优选的，所述调整模组设置于所述凹面反射镜的凸面侧。

[0011] 优选的，所述调整模组包括：第一支撑连杆、第二支撑连杆和角度调整模块；其中，[0012] 所述第一支撑连杆的第一端部和第二支撑连杆的第一端部分别与所述凹面反射镜的两个相对边连接，所述第一支撑连杆的第二端部和第二支撑连杆的第二端部转动连接；

[0013] 所述角度调整模块用于调整所述第一支撑连杆与第二支撑连杆间的夹角角度。

[0014] 进一步优选的，所述角度调整模块包括连接部和调整单元；其中，

[0015] 所述连接部连接在所述第一支撑连杆和第二支撑连杆之间；

[0016] 所述调整单元用于使所述连接部发生运动以调整所述第一支撑连杆与第二支撑连杆间的夹角角度。

[0017] 进一步优选的，所述连接部包括第一连接杆和第二连接杆；其中，

[0018] 所述第一连接杆的第一端部和与第一支撑连杆相连，所述第二连接杆的第一端部和第二支撑连杆连接；

[0019] 所述第一连接杆的第二端部和第二连接杆的第二端部均与所述调整单元连接；

[0020] 所述调整单元用于带动所述第一连接杆的第二端部和第二连接杆的第二端部在远离或靠近所述凹面反射镜的方向上运动。

[0021] 进一步优选的，所述调整单元包括螺母和螺纹杆；其中，

[0022] 所述螺母与所述第一连接杆的第二端部和第二连接杆的第二端部分别固定连接，并套设在所述螺纹杆上；

[0023] 所述螺纹杆转动时能带动所述螺母在远离或靠近所述凹面反射镜的方向上运动。

[0024] 进一步优选的，所述调整单元还包括：

[0025] 固定设置的驱动器，用于驱动所述螺纹杆转动。

[0026] 解决本发明技术问题所采用的另一种技术方案是一种曝光系统，包括：上述任意一项所述的曝光设备。

[0027] 优选的，所述曝光系统还包括：用于放置待曝光基板的基台；所述基台上用于放置待曝光基板的区域的长度与宽度尺寸不同。

[0028] 本发明的曝光设备包括能发生形变的凹面反射镜和调整模组，其通过调整模组调整凹面反射镜的曲率可以使曝光光线的反射角度发生变化，从而使最终形成的曝光区域的尺寸改变以对应待曝光基板的曝光需求，同时使曝光照度得到有效利用。因此，利用本实施例提供的曝光设备，可以实现不同曝光需求的待曝光基板以同一放置方式进行曝光，无需重复设置测量设备等，从而节省了曝光成本。

附图说明

[0029] 图1为本发明的实施例中待曝光区域尺寸不同的两种待曝光基板的示意图；

[0030] 图2为本发明的实施例中对一种待曝光基板进行曝光的示意图；

[0031] 图3为本发明的实施例中对另一种待曝光基板进行曝光的示意图；

[0032] 其中附图标记为：01、凹面反射镜；11、第一支撑连杆；12、第二支撑连杆；21、第一连接杆；22、第二连接杆；31、螺纹杆；32、螺母；04、驱动器；05、待曝光基板；06、反射模组；07、基台；08、待曝光区域。

具体实施方式

[0033] 为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。

[0034] 实施例1：

[0035] 如图1至3所示，本实施例提供一种曝光设备。

[0036] 该曝光设备可为接近式，也可为其它形式，其可用于彩色滤光片的生产，当然，其也可用于其它曝光。

[0037] 如图2所示，该曝光设备包括：能发生形变的凹面反射镜01，用于反射曝光光线，并保证曝光光线最终射向曝光区域；调整模组，用于改变凹面反射镜01的曲率。

[0038] 其中，凹面反射镜01用于反射由光源发出的曝光光线，使曝光光线经过反射及后续传输后最终能够照射向预定的曝光区域，以对待曝光基板05进行曝光。

[0039] 具体的，如图2和图3所示，本实施例通过调整模组可使凹面反射镜01发生形变，即可改变凹面反射镜01的曲率，从而使入射凹面反射镜01的曝光光线的反射角度发生改变。也就是说，通过调整模组可实现曝光光线在经过凹面反射镜01反射后扩散或者汇聚，曝光光线经后续传输到达曝光区域时曝光区域的尺寸会发生改变。对具有不同待曝光区域08的待曝光基板05(如图1所示)，可调整曝光区域的尺寸使其与待曝光区域08相适应，从而不用遮挡曝光区域和旋转放置待曝光基板05，可以充分利用照度，简化设备。

[0040] 因此，利用本实施例提供的曝光设备，可以实现不同曝光需求的待曝光基板05以同一放置方式进行曝光，无需重复设置测量设备等，从而节省了曝光成本。

[0041] 优选的，本实施例提供的曝光设备还包括反射模组06，用于将来自凹面反射镜01的曝光光线反射向曝光区域。

[0042] 曝光光线经凹面反射镜01反射后，可能无法直接用于对待曝光基板05进行曝光，需要反射模组06对凹面反射镜01所反射出的曝光光线进一步以反射，最终才能够照射向预定的曝光区域。优选的，该反射模组06为平面反射镜。

[0043] 优选的，调整模组设置于凹面反射镜01的凸面侧。

[0044] 由于曝光光线自凹面反射镜01的凹面入射并发生反射，故将调整模组置于凹面反射镜01的凸面侧，能够使调整模组在调整凹面反射镜01曲率的同时不会对曝光光线的传输造成影响。

[0045] 优选的，调整模组包括：第一支撑连杆11、第二支撑连杆12和角度调整模块。其中，第一支撑连杆11的第一端部和第二支撑连杆12的第一端部分别与凹面反射镜01的两个相对边连接，第一支撑连杆11的第二端部和第二支撑连杆12的第二端部转动连接；角度调整模块用于调整第一支撑连杆11与第二支撑连杆12间的夹角角度。

[0046] 具体的，如图2和图3所示，两支撑连杆(即第一支撑连杆和第二支撑连杆)的第一端部分别连接凹面反射镜01的两个相对侧，当第一支撑连杆和/或第二支撑连杆的第一端部发生运动时，可以带动凹面反射镜01的相应侧运动。两支撑连杆的第二端部则为转动连接，即两支撑连杆可以两支撑连杆的第二端部为中心相对转动，从而能够改变两者之间的夹角角度。

[0047] 而角度调整模块用于调整两支撑连杆间的夹角角度，使第一支撑连杆11和第二支撑连杆12的第一端部间的距离发生改变(即第一支撑连杆和/或第二支撑连杆的第一端部发生运动)，从而使凹面反射镜01两相对侧间的距离变化，凹面反射镜01受到压力或者拉力而发生形变(曲率发生变化)，实现曝光区域尺寸的调整。

[0048] 可以理解的是，第一支撑连杆和第二支撑连杆由硬质材料构成，在发生角度变化以及带动凹面反射镜01形变时其自身不会发生形变。

[0049] 需要说明的是，在凹面反射镜01的一组相对边可设有多个调整模组，每个调整模组控制凹面反射镜01的在相应区域内的部分发生形变，从而使凹面反射镜01受力、形变均匀。调整模组的数量可根据凹面反射镜01的尺寸以及形变需求进行设置及调整。

[0050] 当然，在凹面反射镜01的两组相对边侧，也可分别都设有调整模组，这样能够在两方向进行变形调整，曝光区域的长度和宽度均可变。

[0051] 优选的，角度调整模块包括连接部和调整单元。

[0052] 连接部连接在第一支撑连杆11和第二支撑连杆12之间；调整单元用于使连接部发生运动以调整第一支撑连杆11与第二支撑连杆12间的夹角角度。

[0053] 其中，连接部运动是指连接部局部或者整体相对第一支撑连杆和/或第二支撑连杆发生运动，例如，连接部可由可形变材料构成，其通过变形时产生力带动第一支撑连杆11和第二支撑连杆12转动；或者，连接部也可由多个非弹性的部件组成，通过部件间的相对运动可带动第一支撑连杆11和第二支撑连杆12转动。

[0054] 优选的，连接部包括第一连接杆21和第二连接杆22。第一连接杆21的第一端部和与第一支撑连杆11相连，第二连接杆22的第一端部和第二支撑连杆12连接，第一连接杆21的第二端部和第二连接杆22的第二端部均与调整单元连接。调整单元用于带动第一连接杆21的第二端部和第二连接杆22的第二端部在远离或靠近凹面反射镜01的方向上运动。

[0055] 如图2和图3所示，本实施例优选以两连接杆(即第一连接杆和第二连接杆)作为连接部，通过角度调整模块带动两连接杆的第二端部在远离或靠近凹面反射镜01的方向运动，由于两连接杆的第一端部连在两支撑连杆上，无法在该方向上动，故两连接杆的第一端部会相互靠近或远离，从而带动两支撑连杆转动(即两支撑连杆间的角度改变)。

[0056] 当然，为了使角度调整灵活准确，故两连接杆的第一端部优选分别连接在两支撑连杆的第一端部处。

[0057] 优选的，调整单元包括螺母32和螺纹杆31；螺母32与第一连接杆21的第二端部和第二连接杆22的第二端部分别固定连接，并套设在螺纹杆31上；螺纹杆31转动时能带动螺母32在远离或靠近凹面反射镜01的方向上运动。

[0058] 显然，螺纹杆31转动时必然与螺母32发生相对运动，而若螺纹杆31在远离或靠近凹面反射镜01的方向不做运动，则必然是螺母32通过在螺纹杆31上转动实现在远离或靠近凹面反射镜01的方向上运动，从而带动连接部(具体为带动两连接杆的第二端部)在该方向上运动，进而使支撑连杆的夹角角度发生变化，最终使凹面反射镜01的曲率发生改变。

[0059] 优选的，调整单元还包括：固定设置的驱动器04，用于驱动螺纹杆31转动。

[0060] 也就是说，通过驱动器04的固定设置使螺纹杆31转动的同时不会在靠近或者远离凹面反射镜01的方向上运动。优选可用固定设置的马达等作为驱动器04带动螺纹杆31转动。

[0061] 当然，调整模组也可以是其它能够改变凹面反射镜01曲率的装置，在此不再详述。

[0062] 本实施例的曝光设备包括能发生形变的凹面反射镜01和调整模组，其通过调整模组调整凹面反射镜01的曲率可以使曝光光线的反射角度发生变化，从而使最终形成的曝光区域的尺寸改变以对应待曝光基板05的曝光需求，不需要进行遮挡，使曝光照度得到有效利用。因此，利用本实施例提供的曝光设备，可以实现不同曝光需求的待曝光基板05以同一放置方式进行曝光，无需重复设置测量设备等，从而节省了曝光成本。

[0063] 实施例2：

[0064] 如图2和3所示，本实施例提供一种曝光系统，包括实施例1中任意一种曝光设备。

[0065] 本实施例的曝光系统中，曝光设备采用实施例1中所提供的曝光设备，详细描述可参照实施例1，在此不再赘述。

[0066] 优选的，该曝光系统还包括：用于放置待曝光基板05的基台07，基台07上用于放置待曝光基板05的区域的长度与宽度尺寸不同。

[0067] 本实施例中，凹面反射镜01所反射出的曝光光线最终照射在基台07上，将待曝光基板05放置与基台07上便可进行曝光。

[0068] 一般待曝光基板05不是正方形，长度与宽度不同，而现有曝光机的曝光区域为单一固定的，当待曝光区域08与其不匹配时，可能需要旋转待曝光基板05进行曝光。为此，基台07的两个尺寸均要等于待曝光基板05长度，才能在旋转时避免待曝光基板05超出基台07的承载区域范围。本实施例中，曝光设备的曝光区域为可以灵活调整的，也就是说可以完全满足待曝光基板05对曝光区域尺寸的不同需求。因此，该曝光系统中，待曝光基板05可始终以同一方式放置在基台07上，而不用旋转，故基台07只要一个方向(长度)等于待曝光基板05长度即可，另一个方向(宽度)则可仅等于待曝光基板05的宽度，从而能够减小基台07的面积。

[0069] 本实施例的曝光系统包括能发生形变的凹面反射镜01和调整模组以及基台07，可以根据不同的曝光需求灵活调整曝光区域的尺寸。其通过调整模组调整凹面反射镜01的曲率可以使曝光光线的反射角度发生变化，从而使最终形成的曝光区域的尺寸改变以对应待曝光基板05的曝光需求，不需要进行遮挡，同时使曝光照度得到有效利用。因此，在利用本实施例提供的曝光设备可以实现不同曝光需求的待曝光基板05以同一放置方式进行曝光，从而减小了基台07面积，无需重复设置测量设备等，节省了曝光成本。

[0070] 可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。