透光性导电性膜及具有其的触摸面板

摘要

提供一种改善了图案可见现象的透光性导电性膜。一种透光性导电性膜，其包含：(A)透光性支持层；及(C)透光性导电层，其中，所述透光性支持层(A)包含：(1)外径为5μm以上且平均外径为5μm～50μm的聚酯树脂块(1)、以及(2)外径低于5μm且平均外径为0.5μm以上且低于5μm的聚酯树脂块(2)，所述聚酯树脂块(1)和所述聚酯树脂块(2)的平均外径之差为4μm以上，所述透光性导电层(C)直接或隔着一层以上的其它层设置于所述透光性支持层(A)的至少一面上，在对仅由所述透光性支持层(A)构成的支持膜的主面进行观察而得到的透视图像中，观察到500个/mm2～900个/mm2的所述聚酯树脂块(1)，且观察到700个/mm2～1100个/mm2的所述聚酯树脂块(2)。

权利要求

1.一种透光性导电膜，其包含：

(A)透光性支持层；及

(C)透光性导电层，其中，

所述透光性支持层(A)包含：

(1)外径为5μm以上且平均外径为5μm～50μm的聚酯树脂块I、以及(2)外径低于5μm且平均外径为0.5μm以上且低于5μm的聚酯树脂块II，所述聚酯树脂块I和所述聚酯树脂块II的平均外径之差为4μm以上，所述透光性导电层(C)直接或隔着一层以上的其它层设置于所述透光性支持层(A)的至少一面上，在通过激光衍射显微镜对仅由所述透光性支持层(A)构成的支持膜的主面进行观察而得到的透视图像中，观察到500个/mm2～900个/mm2的所述聚酯树脂块I，且观察到700个/mm22

～1100个/mm的所述聚酯树脂块II。

2.如权利要求1所述的透光性导电膜，其中，硬涂层(B)直接或隔着一层以上的其它层设置于所述透光性支持层(A)的至少一面上。

3.如权利要求1或2所述的透光性导电膜，其中，底涂层(D)设置于所述透光性支持层(A)和所述透光性导电层(C)之间。

4.一种触摸面板，其包含权利要求1～3中任一项所述的透光性导电膜。

说明书

透光性导电性膜及具有其的触摸面板

技术领域

[0001] 本发明涉及一种透光性导电性膜及具有其的触摸面板。

背景技术

[0002] 作为搭载于触摸面板的透光性导电性膜，大量使用了在由PET等构成的透光性支持层上叠层由氧化铟锡(ITO)等构成的透光性导电层而得到的膜(专利文献1)。

[0003] 这些透光性导电性膜通常为在通过进一步进行蚀刻处理而对透光性导电层进行了图案化的基础上搭载于触摸面板。已知在将这样对透光性导电层进行了图案化的透光性导电性膜中，会在膜表面分辨出透光性导电层的图案(所谓的图案可见现象；pattern visibility)。

[0004] 这样对透光性导电层进行了图案化而得到的透光性导电性膜在存在透光性导电层的区域(在本发明中，有时称为“图案部”)和不存在透光性导电层的区域(在本发明中，有时称为“蚀刻部”)显示不同的分光透射率及分光反射率。可以认为，这种分光透射率及分光反射率的差为图案可见现象的原因。

[0005] 因此，着眼于这些各区域中的折射率的差，提出了各种通过修正该差而改善图案可见现象的技术(专利文献1～3)。另外，还提出了在进行了图案化的透光性导电层中，通过将具备使入射于图案化区域的光的反射率和入射于非图案化区域的光的反射率相互近似的效果的层(有时将这样的层在本说明书中称为“光学干涉层”)设置于透光性导电层的下层侧而消除图案可见现象的技术(专利文献4)。

[0006] 另外，在邻接于透光性支持层的操作面侧的面上设置硬涂层而成的透光性导电性膜中，作为其它技术问题，已知由于透光性支持层和硬涂层之间的折射率差，导致在膜表面上观察到干涉条纹的现象。已知该干涉条纹现象可以通过将透光性支持层和硬涂层之间的折射率差抑制在一定的范围内来进行缓解(专利文献5、6)。

[0007] 另外，近年来，还报道了透光性导电性膜的图案部容易通过加热处理而被辨认出来，结果，美观性变差(专利文献7)。但是，其中的原因没有充分地阐明。

[0008] 现有技术文献

[0009] 专利文献

[0010] 专利文献1:日本特开平8-240800号公报

[0011] 专利文献2:日本特开2002-98935号公报

[0012] 专利文献3:日本特开2003-202552号公报

[0013] 专利文献4:WO2010/114056号公报

[0014] 专利文献5:日本特开平7-325201号公报

[0015] 专利文献6:日本特开平7-151902号公报

[0016] 专利文献7:日本特开2012-128629号公报

发明内容

[0017] 发明所要解决的技术问题

[0018] 本发明的发明人将提供一种改善了图案可见现象的透光性导电性膜作为本发明的技术问题。

[0019] 用于解决技术问题的技术方案

[0020] 本发明的发明人发现：在具有图案部及蚀刻部的透光性导电性膜中，利用在聚酯树脂膜中含有折射率稍有不同的聚酯树脂粒子而引起的光散射效应，改善了图案可见现象。而且，本发明的发明人重复进行深入研究发现：将以特定方式含有聚酯树脂粒子的聚酯树脂膜设为支持层，在支持层上设置导电层，由此可以解决上述技术问题。本发明是通过进一步反复进行研究而完成的，包含以下的方式。

[0021] 项1.

[0022] 一种透光性导电膜，其包含：

[0023] (A)透光性支持层；及

[0024] (C)透光性导电层，其中，

[0025] 所述透光性支持层(A)包含：

[0026] (1)外径5μm以上且平均外径为5μm～50μm的聚酯树脂块(1)、和

[0027] (2)外径小于5μm且平均外径为0.5μm以上且小于5μm的聚酯树脂块(2)，[0028] 所述聚酯树脂块(1)和所述聚酯树脂块(2)的平均外径之差为4μm以上，[0029] 所述透光性导电层(C)直接或隔着一层以上的其它层配置于所述透光性支持层(A)的至少一个面上，

[0030] 在从仅由所述透光性支持层(A)构成的支持膜主面进行观察而得到的透视图像中，观察到500个/mm2～900个/mm2的所述聚酯树脂块(1)，观察到观察到700个/mm2～1100个/mm2的所述聚酯树脂块(2)。

[0031] 项2.如项1所述的透光性导电性膜，其中，

[0032] 硬涂层(B)直接或经由一个以上的其它层配置于所述透光性支持层(A)的至少一面上。

[0033] 项3.如项1或2所述的透光性导电性膜，其中，

[0034] 底涂层(D)配置于所述透光性支持层(A)和所述透光性导电层(C)之间。

[0035] 项4.一种触摸面板，其包含项1～3任一项所述的透光性导电性膜。

[0036] 通过利用本发明，可以改善图案可见现象。

附图说明

[0037] 图1是表示在透光性支持层(A)中含有聚酯树脂块(1)及聚酯树脂块(2)的方式的一例的示意图。

[0038] 图2是表示在透光性支持层(A)的一面上整个层相互邻接地配置有透光性导电层(C)的本发明的透光性导电性膜的剖面图。

[0039] 图3是表示在透光性支持层(A)的两面上整个层相互邻接地配置有透光性导电层(C)的本发明的透光性导电性膜的剖面图。

[0040] 图4是表示在透光性支持层(A)的一面上依次整个层相互邻接地配置有底涂层(D)及透光性导电层(C)的本发明的透光性导电性膜的剖面图。

[0041] 图5是表示在透光性支持层(A)的两面上依次整个层相互邻接地配置有底涂层(D)及透光性导电层(C)的本发明的透光性导电性膜的剖面图。

[0042] 标记说明

[0043] 1 透光性导电性膜

[0044] 11 透光性支持层(A)

[0045] 12 透光性导电层(C)

[0046] 13 底涂层(D)

[0047] 2 聚酯树脂块(1)(大树脂块)

[0048] 3 聚酯树脂块(2)(小树脂块)

具体实施方式

[0049] 1.透光性导电性膜

[0050] 本发明的透光性导电性膜包含：

[0051] (A)透光性支持层；及

[0052] (C)透光性导电层，其中，

[0053] 所述透光性支持层(A)包含：

[0054] (1)外径5μm以上且平均外径为5μm～50μm的聚酯树脂块(1)、和

[0055] (2)外径小于5μm且平均外径为0.5μm以上且小于5μm的聚酯树脂块(2)，[0056] 所述聚酯树脂块(1)和所述聚酯树脂块(2)的平均外径之差为4μm以上，[0057] 所述透光性导电层(C)直接或隔着一层以上的其它层配置于所述透光性支持层(A)的至少一面上，

[0058] 在从仅由所述透光性支持层(A)构成的支持膜主面进行观察而得到的透视图像中，观察到500个/mm2～900个/mm2的所述聚酯树脂块(1)，观察到观察到700个/mm2～1100个/mm2的所述聚酯树脂块(2)。

[0059] 本发明中，“透光性”意指具有使光透过的性质(translucent)。“透光性”中包含透明(transparent)。“透光性”是指例如总光线透射率为80％以上、优选85％以上、更优选为88％以上的性质。本发明中，总光线透射率使用雾度计(日本电色株式会社制造、商品名：
NDH-2000、或其同等产品)，基于JIS-K-7105进行测定。

[0060] 本发明中，各层的厚度使用市售的反射分光膜厚计(大塚电子、FE-3000(商品名)、或其同等产片)来求出。或者，作为代替，可以使用市售的透过型电子显微镜进行观察来求出。具体而言，使用切片机或聚焦离子束等，沿着垂直于膜面的方向将透光性导电性膜薄薄地切断，观察其剖面。

[0061] 在本发明中，提及配置于透光性支持层(A)一面上的多个层中的两层的相对位置关系时，以透光性支持层(A)为基准，有时将从透光性支持层(A)起算的距离较大的一个层成为“上面的”层等。

[0062] 1.1透光性支持层(A)

[0063] 本发明中透光性支持层是指：在含有透光性导电层的透光性导电性膜中，发挥对包含透光性导电层的层进行支持的作用的层。作为透光性支持层(A)，没有特别限定，例如在触摸板用透光性导电性膜中，可以使用通常用作透光性支持层的材料。

[0064] 透光性支持层(A)的原料可列举例如：聚酯树脂、聚碳酸酯树脂、聚丙烯酸树脂、聚乙酸酯树脂、聚醚树脂、聚甲基丙烯酸树脂、聚苯乙烯树脂、环烯烃聚合物(COP)或环烯烃共聚物(COC)等聚烯烃树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺树脂、聚氯乙烯树脂、聚偏氯乙烯树脂、聚缩醛树脂、聚苯硫醚树脂等。其中，优选列举聚酯树脂、聚烯烃树脂等，更优选列举聚酯树脂。

[0065] 作为用于透光性支持层(A)的原料的聚酯树脂，没有特别限定，可列举例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等。

[0066] 透光性支持层(A)的厚度没有特别限定，可列举例如2～300μm的范围。从透光性的观点出发，优选透光性支持层(A)的厚度较薄，可列举例如2～150μm、优选2～100μm、更优选2～75μm、进一步优选5～50μm、更进一步优选10～30μm的范围。一般而言，透光性支持层等厚度越薄，图案可见现象越显著，但在本发明的透光性导电性膜中，即使在透光性支持层(A)的厚度如上所述较薄的情况下，仍可以改善图案可见现象。

[0067] 透光性支持层(A)的折射率没有特别限定，例如在以PET为主材料的情况下，为1.65左右。

[0068] 透光性支持层(A)如图1所例示，其特征在于，包含：

[0069] (1)外径为5μm以上且平均外径为5μm～50μm的聚酯树脂块(1)(在本发明中，有时表示为“聚酯树脂块(1)”或“大树脂块”)、和

[0070] (2)外径小于5μm且平均外径为0.5μm以上且小于5μm的聚酯树脂块(2)(在本发明中，有时表示为“聚酯树脂块(2)”或“小树脂块”)。由此可以期待优异的光散射效果，可以改善观察本发明的透光性导电性膜主面时的图案可见现象。

[0071] 另外，在从仅由透光性支持层(A)构成的支持膜主面进行观察而得到的透视图像中，观察到500个/mm2～900个/mm2的所述聚酯树脂块(1)、观察到700个/mm2～1100个/mm2的所述聚酯树脂块(2)，由此可以期待得到无法辨认出图案可见现象这一程度的光散射效果。

[0072] 在图案可见现象的改善这一点上，聚酯树脂块的大小及密度是重要的，通过将它们设为给定的范围，可以更加谋求改善。

[0073] 在这一点上，就透光性支持层(A)而言，在从仅由该层构成的支持膜主面进行观察而得到的透视图像中，观察到500个/mm2以上的聚酯树脂块(1)，优选观察到650个/mm2以上，更加优选观察到700个/mm2～750个/mm2，进一步优选观察到710个/mm2～740个/mm2。另外，聚酯树脂块(1)的平均外径优选为10μm～30μm，更优选为15～25μm。

[0074] 在同一点上，就透光性支持层(A)而言，在从支持膜主面观察而得到的透视图像中，聚酯树脂块(2)优选可以被观察到900个/mm2～1000个/mm2，更优选可以被观察到920个/2 2
mm～970个/mm。另外，聚酯树脂块(2)的平均外径优选为0.7μm～1.2μm。

[0075] 需要说明的是，所述聚酯树脂块(1)和所述聚酯树脂块(2)的平均外径之差为4μm以上。在图案可见现象的改善方面，聚酯树脂块的大小及密度是重要的，通过将两种聚酯树脂块的平均外径之差设为特定范围，可以改善图案可见现象。平均外径之差优选为15μm以上，更优选为19μm以上。

[0076] 作为聚酯树脂块的原料，没有特别限定，可列举例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等。

[0077] 对仅由透光性支持层(A)构成的膜主面中的聚酯树脂块进行观察时，使用激光衍射显微镜而进行。需要说明的是，聚酯树脂块的平均外径的测定如下地进行。从放大为200倍的观察视野(0.5mm×0.7mm)内选择任意的20个块，测量对各个块进行观察而得到的块的外径的最大长度。需要说明的是，观察到的块的数量少于20个的情况下，改变观察视野或观察多个视野而得到合计20个测定值。改变观察部位进行10次利用上述方法进行的观察，将这些测定值的平均设为聚酯树脂块的平均外径。

[0078] 1.2硬涂层(B)

[0079] 本发明的透光性导电性膜可以含有硬涂层(B)。硬涂层(B)可以优选邻接配置于透光性支持层(A)的至少一面。

[0080] 硬涂层(B)可以配置一层。或者也可以两层以上相互邻接地配置、或隔着其它层相互隔开地配置。

[0081] 硬涂层(B)可以配置于透光性支持层(A)的两面上。

[0082] 本发明中硬涂层是指发挥防止塑料表面损伤的作用的物质。

[0083] 硬涂层(B)的粘合剂成分没有特别限定，可列举例如：丙烯酸类树脂、有机硅类树脂、聚氨酯类树脂、三聚氰胺类树脂及醇酸类树脂等。其中，特别优选丙烯酸类树脂。在硬涂层(B)中，除粘合剂成分以外，还可以含有其它成分、例如二氧化硅类粒子、氧化锆粒子、二氧化钛粒子、氧化铝粒子等胶体粒子等。通过含有这些胶体粒子，可以对硬涂层(B)赋予光学调整功能。

[0084] 本发明中，作为二氧化硅类粒子，没有特别限定，例如可以使用球状二氧化硅、微粉末二氧化硅或破碎二氧化硅等。需要说明的是，微粉末二氧化硅可以通过喷涂成球状而得到。另外，微粉末二氧化硅通过将破碎二氧化硅的粒子彼此相互摩擦并研磨而得到。其中，在改善图案可见现象方面，特别优选球状二氧化硅。

[0085] 硬涂层(B)的每一层的厚度没有特别限定，可列举例如0.1～10μm、0.2～6μm、及0.5～3μm等。两层以上相互邻接而配置的情况下，相互邻接的全部的硬涂层(B)的合计厚度为上述范围内即可。在上述列举的范围中，与在前的数值相比，优选在后的数值。

[0086] 就硬涂层(B)的折射率而言，只要本发明的透光性导电性膜可以作为触摸板用透光性导电性膜使用，就没有特别限定，可列举例如1.4～1.7等。

[0087] 作为配置硬涂层(B)的方法，没有特别限定，可列举例如以上述的树脂成分为主成分、将含有二氧化硅类粒子等作为填料的涂敷剂涂布于膜上并进行固化的方法等。作为固化的方法，没有特别限定，可列举例如利用热进行固化的方法、利用紫外线或电子束等活性能量线进行固化的方法等。其中，在生产率方面，优选利用紫外线进行固化的方法。

[0088] 1.3透光性导电层(C)

[0089] 透光性导电层(C)直接或隔着一层以上的其它层配置于透光性支持层(A)上。

[0090] 本发明中透光性导电层是指：含有导电性物质、发挥导电且透过可见光的作用的层。作为透光性导电层(C)，没有特别限定，可以使用例如通常在触摸面板用透光性导电性膜中用作透光性导电层的层。

[0091] 透光性导电层(C)的原料没有特别限定，可列举例如：氧化铟、氧化锌、氧化锡及氧化钛等。作为透光性导电层(C)，在兼备透明性和导电性方面，优选含有在氧化铟中掺杂有掺杂剂的材料的透光性导电层。透光性导电层(C)可以是由在氧化铟中掺杂掺杂剂而得到的材料构成的透光性导电层。作为掺杂剂，没有特别限定，可列举例如氧化锡及氧化锌、以及它们的混合物等。

[0092] 使用在氧化铟中掺杂氧化锡而成的材料作为透光性导电层(C)的原料的情况下，优选在氧化铟(III)(In2O3)中掺杂氧化锡(IV)(SnO2)而得到的材料(锡掺杂氧化铟(tin-dopedindiumoxide)；ITO)。该情况下，作为SnO2的添加量，没有特别限定，可列举例如1～15重量％、优选2～10重量％、更优选3～8重量％等。另外，也可以使用在掺杂剂的总量不超过上述数值范围的范围内在氧化铟锡中进一步加入其它掺杂剂而成的材料作为透光性导电层(C)的原料。上述中，作为其它掺杂剂，没有特别限定，可列举例如硒等。

[0093] 透光性导电层(C)既可以由上述的各种原料中的任一种单独构成，也可以由多种构成。

[0094] 透光性导电层(C)没有特别限定，可以为结晶体或非晶质体、或它们的混合体。

[0095] 作为形成透光性导电层(C)的方法，优选包含将导电性物质进行烧成的工序的方法。作为烧成方法，没有特别限定，作为例子，可以列举例如进行溅射等时的滚筒加热、或热风式烧成炉、远红外线烧成炉等。烧成温度没有特别限定，通常为30～250℃，优选为50～200℃，更优选为80～180℃，进一步优选为100～160℃。烧成时间优选为3分钟～180分钟，更优选为5分钟～120分钟，进一步优选为10分钟～90分钟。作为进行烧成的气氛，可列举真空下、大气、氮或氩等惰性气体、氧气、或含氢的氮气等、或这些中两种以上的组合。通过将导电性物质进行烧成，可促进导电性物质的结晶化。

[0096] 透光性导电层(C)的厚度没有特别限定，通常为15～30nm。透光性导电层(C)的厚度低于20nm时，可得到改善透射率及减少图案化后的透光性导电层的图案可见等优点，因此优选。该情况下，作为透光性导电层的厚度，可列举5～19nm、12～19nm、及15～19nm。在左列的例示列举中，与前述的数值相比，在导电性和/或透明性方面，优选在后数值。

[0097] 配置透光性导电层(C)的方法可以为湿式及干式的任一种，没有特别限定。作为配置透光性导电层(C)的方法的具体例，可列举例如：溅射法、真空蒸镀法、离子喷镀法、CVD法及脉冲激光沉积法等。

[0098] 1.4底涂层(D)

[0099] 本发明的透光性导电性膜可以进一步在透光性支持层(A)和透光性导电层(C)之间含有至少一层的底涂层(D)。透光性导电层(B)可以邻接于底涂层(D)而配置。

[0100] 图4表示本发明的透光性导电性膜的一个实施方式。该方式中，在透光性支持层(A)的一面上直接配置有底涂层(D)，透光性导电层(C)直接配置于底涂层(D)的与透光性支持层(A)相反侧的面上。

[0101] 图5表示本发明的透光性导电性膜的一个实施方式。该方式中，透光性支持层(A)的两个面具备相同的构成，具体而言，在各自的面上直接配置有底涂层(D)，透光性导电层(C)直接配置于底涂层(D)的与透光性支持层(A)相反侧的面上。

[0102] 底涂层(D)的原料没有特别限定，例如可以具有介电性。作为底涂层(D)的原料，没有特别限定，可列举例如：氧化硅、氮化硅、氧氮化硅、碳化硅、硅醇盐、烷基硅氧烷及其缩合物、聚硅氧烷、倍半硅氧烷、聚硅氮烷及丙烯酸二氧化硅复合物等。底涂层(D)既可以由其中任一种单独构成，也可以由多种构成。作为底涂层(D)，优选含有选自聚硅氮烷、丙烯酸二氧化硅复合物及SiOx(x＝1.0～2.0)中的1种的透光性基底层。底涂层(D)可以为包含选自聚硅氮烷、丙烯酸二氧化硅复合物及SiOx(x＝1.0～2.0)中的1种的透光性基底层。作为底涂层(D)，优选含有SiOx(x＝1.0～2.0)的透光性基底层。底涂层(D)可以为由SiOx(x＝1.0～2.0)构成的透光性基底层。以下，例如有时将由SiOx(x＝1.0～2.0)构成的透光性基底层简称为SiOx层。

[0103] 底涂层(D)可以配置一层。或者也可以两层以上相互邻接、或隔着其它层相互隔开而配置。底涂层(D)优选两层以上相互邻接而配置。作为这种方式的实施方案的例子，可列举例如：相邻的SiO2层及由SiOx层构成的叠层(stacking)、以及、相邻的SiO2层和由SiOxNy层构成的叠层。例如两层相互邻接而配置的情况下，SiO2层及SiOx层的顺序是任意的，但优选在透光性支持层(A)侧配置由SiO2构成的透光性基底层(C-1)、在透光性导电层(B)侧配置由SiOx(x＝1.0～2.0)构成的透光性基底层(C-2)。

[0104] 作为底涂层(D)的每一层的厚度，没有特别限定，可列举例如15～60nm等。两层以上相互邻接而配置的情况下，相互邻接的全部的底涂层(D)的合计厚度为上述范围内即可。

[0105] 就底涂层(D)的折射率而言，只要本发明的透光性导电性膜可以作为触摸面板用透光性导电性膜使用，就没有特别限定，例如优选1.4～1.5。

[0106] 作为用于配置底涂层(D)的方法，可以为湿式及干式的任一种，没有特别限定，作为湿式，可列举例如涂布溶胶-凝胶法、或微粒子分散液或胶体溶液的方法等。

[0107] 作为配置底涂层(D)的方法，作为干式，可列举例如通过溅射法、离子喷镀法、真空蒸镀法及脉冲激光沉积法叠层于邻接的层上的方法等。

[0108] 1.5其它层(E)

[0109] 本发明的透光性导电性膜在透光性支持层(A)的至少一面上除透光性导电层(C)之外，可以进一步配置选自硬涂层(B)、底涂层(D)及与这些不同的至少1种其它层(E)中的至少1种层。

[0110] 作为与(A)～(D)的任一层都均不同的其它层，没有特别限定，可列举例如粘接层等。

[0111] 粘接层是指配置在两层之间且与该两层相互邻接、为了将该两层间相互粘接而配置的层。作为粘接层，没有特别限定，例如可以使用通常在触摸面板用透光性导电性膜中用作粘接层的材料。粘接层既可以由其中任一种单独构成，也可以由多种构成。

[0112] 1.6本发明的透光性导电性膜的用途

[0113] 本发明的透光性导电性膜优选用于触摸面板的制造。

[0114] 用于制造电阻膜方式触摸面板的透光性导电性膜一般而言表面电阻率(片电阻)需要为250～1,000Ω/sq左右。与此相对，用于制造电容型触摸面板的透光性导电性膜一般而言表面电阻率低者较为有利的。本发明的透光性导电性膜的电阻率已被降低，由此，优选用于制造电容型触摸面板。关于电容型触摸面板的详细情况如2.项目中所说明的那样。

[0115] 2.本发明的电容型触摸面板

[0116] 本发明的电容型触摸面板含有本发明的透光性导电性膜，进一步根据需要含有其它的部件而成。

[0117] 作为本发明的电容型触摸面板的具体构成例，可列举如下的构成。需要说明的是，以保护层(1)侧朝向操作画面侧、玻璃(5)侧朝向与操作画面相反一侧的方式来使用。

[0118] (1)保护层

[0119] (2)本发明的透光性导电性膜(Y轴方向)

[0120] (3)绝缘层

[0121] (4)本发明的透光性导电性膜(X轴方向)

[0122] (5)玻璃

[0123] 本发明的电容型触摸面板没有特别限定，例如可以通过按照通常的方法将上述(1)～(5)、以及根据需要的其它的部件组合来制造。

[0124] 3.本发明的透光性导电性膜的制造方法

[0125] 在本发明的透光性导电性膜的制造方法中，配置各个层的工序参见对各自的层的说明。

[0126] 本发明的透光性导电性膜的制造方法可以包括以下工序：在透光性支持层(A)的至少一面上，配置透光性导电层(C)，此外，分别配置选自硬涂层(B)、底涂层(D)及与他们不同的至少1种其它层(F)中的至少1种层。

[0127] 例如，可以从透光性支持层(A)侧起依次配置于透光性支持层(A)的至少一面上，但配置的顺序没有特别限定。例如，最开始可以在透光性支持层(A)以外的层的一个面上配置其它层。或者可以是，一方面，通过以相互邻接的方式配置2种以上的层而得到1种复合层，然后或与此同时，另一方面同样地通过以相互邻接的方式配置2种以上的层而得到1种复合层，在以相互邻接的方式配置上述2种复合层。

[0128] 实施例

[0129] 以下，列举实施例，进一步详细地说明本发明，但本发明并不仅限定于这些实施例。

[0130] 1.实施例及比较例

[0131] 1.0聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂块的制备

[0132] (聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂颗粒的粉碎)

[0133] 将大小1mm的聚对苯二甲酸乙二醇酯颗粒10g投入于液态氮500ml中，5分钟后取出。接着，使用珠磨机进行粉碎。得到的树脂块的外径为1～50μm左右。将得到的树脂块细分，分别进行分级。

[0134] (使用旋转气流式筛分装置进行分级)

[0135] 将得到的树脂块(外径：1～50μm)用网眼19μm的微粉筛进行筛选，得到外径超过19μm且50μm以下的树脂块之后，用网眼21μm的微粉筛进行筛选，得到平均外径为20μm的树脂块。

[0136] 将得到的树脂块(外径：1～50μm)用网眼3μm微粉筛进行筛选，得到外径超过3μm且50μm以下的树脂块之后，用网眼5μm微粉筛进行筛选，得到平均外径为4μm的树脂块。

[0137] 将得到的树脂块(外径：1～50μm)用网眼4μm微粉筛进行筛选，得到外径超过4μm且50μm以下的树脂块之后，用网眼6μm微粉筛进行筛选，得到平均外径为5μm的树脂块。

[0138] 将得到的树脂块(外径：1～50μm)用网眼9μm微粉筛进行筛选，得到外径超过9μm且50μm以下的树脂块之后，用网眼11μm微粉筛进行筛选，得到平均外径为10μm的树脂块。

[0139] 将得到的树脂块(外径：1～50μm)用网眼11μm微粉筛进行筛选，得到外径超过11μm且50μm以下的树脂块之后，用网眼13μm微粉筛进行筛选，得到平均外径为12μm的树脂块。

[0140] 将得到的树脂块(外径：1～50μm)用网眼15μm微粉筛进行筛选，得到外径超过15μm且50μm以下的树脂块之后，用网眼17μm微粉筛进行筛选，得到平均外径为16μm的树脂块。

[0141] 将得到的树脂块(外径：1～50μm)用网眼38μm的织网筛选，得到外径超过38μm且50μm以下的树脂块之后，用网眼42μm的织网筛选，得到平均外径为40μm的树脂块。

[0142] 1.1硬涂用材料的制备

[0143] 在含有光聚合剂的聚氨酯丙烯酸酯低聚物(日本化药株式会社制造，商品名：KAYANOVA FOP4000)中加入将甲苯和甲基乙基酮(MEK)以5:5(重量比)的比例混合而成的混合溶剂，制备液态的硬涂用材料(固体成分浓度：30重量％)。

[0144] 1.2硬涂膜的制作

[0145] 使用挤出机，向聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)树脂颗粒中添加表1～5中记载的大小不同的聚酯树脂块(大树脂块及小树脂块)并进行混练，将厚度23μm、厚度50μm、或厚度200μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜进行成形。将得到的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜用作支持层。在PET膜的一面进行电晕处理后，使用棒涂机涂敷液态的硬涂用材料，使用干燥炉将其涂敷膜在100℃×1分钟的条件下进行加热干燥。接着，通过相对于干燥后的涂敷膜照射紫外线(照射量：300mJ/cm2)，在PET膜上设置厚度约1μm的硬涂层。

[0146] 对PET膜的另一个面也实施相同操作，由此得到在两面设置厚度约1μm的硬涂层而成的硬涂膜。另外，关于实施例60～62，将PET树脂颗粒变更为PEN、COP、COC，除此之外，同样地制作硬涂膜。

[0147] 1.3光学调整层的成膜

[0148] 1.3.1高折射率层(高折射层)的成膜

[0149] 在得到的硬涂膜的一个上，使用平均粒径为30nm的氧化锆16重量份、聚氨酯丙烯酸酯低聚物(荒川化学工业株式会社制造，商品名：BEAMSET575)：5重量份、光聚合引发剂(Ciba Specialty Chemicals株式会社制造，商品名：IRGACURE 184)：3重量份、将甲基异丁酮(MIBK)和甲基乙基酮(MEK)以5:5(重量比)的比例混合而成的混合溶剂(以下，称为MIBK/MEK混合溶剂)制备液态的高折射率层用材料(固体成分浓度：5重量％)。接着，与1.2硬涂膜的制作中进行的方法同样地操作，设置厚度约1μm的硬涂层。

[0150] 1.3.2低折射率层(低折射层)的成膜

[0151] 使用由Si(硼掺杂)构成的溅射用靶材通过反应性溅射在光学调整层上进行成膜。具体而言，将腔内真空排气至成为5×10-4Pa以下之后，以2:1投入Ar气体和O2气体，将腔内压力设为0.2Pa，实施溅射。得到的膜的折射率为1.49，膜厚为50nm。

[0152] 1.4透光性导电层的成膜

[0153] 将由氧化铟：95重量％及氧化锡：5重量％构成的烧结体材料用作靶材，通过DC磁控管溅射法形成覆盖低折射率层整个面的透明导电层。具体而言，将腔内真空排气至成为5-4×10 Pa以下之后，在所述腔内导入由Ar气体：95％及氧气体：5％构成的混合气体，将腔内压力设为0.2～0.3Pa，实施溅射。另外，以最终得到的透明导电层的膜厚成为20nm的方式实施溅射。将得到的膜在150℃下热处理1小时后的片电阻值为150Ω/□。

[0154] 2.评价

[0155] 对各实施例及各比较例中制作的透光性导电性膜，评价图案可见现象的程度，将评价结果示于表1～5。需要说明的是，图案可见现象如下进行评价。

[0156] 将透光性导电性膜切成5cm见方，在透光性导电层上对200μm宽度的线与空间的抗蚀剂图案进行曝光显影，浸渍于ITO蚀刻液(关东化学社制造，商品名“ITO-06N”)1分钟，冲洗及干燥后除去抗蚀剂图案，得到具有进行了图案化的透光性导电层的透光性导电膜。

[0157] 在载置有作为光源的白炽灯(日光色)的桌子上放置进行了图案化的透光性导电性膜，调整白色电灯和图案化后的透光性导电性膜的配置方式使得图案化后的透光性导电层侧位于白炽灯的正下方。从相对于透光性导电性膜的表面为45度的角度观察透光性导电性膜，观察从白色电灯正面接受的光在透光性导电性膜上发生反射时白色电灯的清晰的反射影像、和从相对于透光性导电性膜的表面为45度的角度进行观察时在透光性导电性膜上发生反射的白色电灯的反射光的渗出。将观察到的清晰的反射影像(从白色电灯的正面反射来的反射光形成的白色电灯的影像)和观察到的白色电灯的反射光的渗出(从相对于透光性导电性膜的表面为45度的角度观察从正面接受白色电灯的光并反射光的透光性导电性膜时可看到的反射光形成的白色电灯的影像)进行比较，用以下的评价基准进行判断。

[0158] 图案外观的评价基准如下所述。

[0159] ◎只能看到清晰的反射影像，即使从相对于透光性导电膜的表面为45度的角度进行观察，也没有在反射光形成的白色电灯的影像的周围看到反射光形成的渗出。

[0160] ○观察到清晰的反射影像，但从相对于透光性导电膜的表面为45度的角度观察时在反射光形成的白色电灯的影像的周围稍微看到反射光形成的渗出。

[0161] △观察到清晰的反射影像，但从相对于透光性导电膜的表面为45度的角度观察时在反射光形成的白色电灯的影像的整个周围观察到反射光形成的渗出。

[0162] ×没有观察到清晰的反射影像，并且从相对于透光性导电膜的表面为45度的角度观察时在反射光形成的白色电灯的影像的周围显著地看到反射光形成的渗出。

[0163] 需要说明的是，表1～5中记载了测量从PET膜主面观察到的树脂块的个数而得到的结果(换算为每mm2)。该测量使用激光衍射显微镜(倍率为200倍、视野面积为0.5mm×0.7mm)来进行。

[0164] 对各实施例及各比较例中制作的透光性导电性膜，肉眼观测其外观，评价表面的粒状感。将结果示于表1～表5。需要说明的是，粒状感如下地进行评价。

[0165] ○表面没有粗糙，没有看到粒状的反射。

[0166] ×可看到表面存在粗糙导致的粒状反射。

[0167]

[0168]

[0169]

[0170]

[0171]