具有像散补偿和能量选择的带电粒子显微镜

摘要

本发明涉及具有像散补偿和能量选择的带电粒子显微镜。一种产生用于在带电粒子显微镜中使用的带电粒子的经校正射束的方法，包括以下步骤：提供带电粒子的非单能输入射束；将所述输入射束传递经过光学模块，所述光学模块包括以下的串联布置：像散矫正器，从而产生具有特定单能线聚焦方向的经像散补偿、能量色散的中间射束；射束选择器，包括狭缝，所述狭缝被旋转取向以便将狭缝的方向与所述线聚焦方向匹配，从而产生包括所述中间射束的能量辨别部分的输出射束。

权利要求

1.一种产生用于在带电粒子显微镜中使用的带电粒子的经校正射束的方法，包括：– 提供带电粒子的非单能输入射束；以及– 将所述输入射束传递经过光学模块，所述光学模块包括以下的串联布置：·像散矫正器，从而产生具有特定单能线聚焦方向的经像散补偿、能量色散的中间射束；以及·射束选择器，包括狭缝，所述狭缝被旋转取向以便将狭缝的方向与所述线聚焦方向匹配，从而产生包括所述中间射束的能量辨别部分的输出射束。

2.根据权利要求1所述的方法，其中：

- 像散矫正器被用于减轻第一、系统性像散效应；以及– 射束选择器被用于解决第二、寄生像散效应。

3.根据权利要求2所述的方法，其中：

– 所述第一、系统性像散效应与由所述输入射束横穿的偏心透镜相关联；以及– 第二、寄生像散效应与射束选择器上游的光学组件中的定位误差相关联。

4.根据权利要求1所述的方法，其中：

– 所述射束选择器包括不透明板，所述不透明板包含多个不同取向的狭缝；以及– 通过实现所述板和所述中间射束的适当相对运动来选择特定的狭缝。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述射束选择器包括具有可调取向的狭缝的不透明板。

6.根据权利要求2所述的方法，其中：

- 所述射束选择器包括不透明板，所述不透明板包含多个不同取向的狭缝；以及- 通过实现所述板和所述中间射束的适当相对运动来选择特定的狭缝。

7.根据权利要求3所述的方法，其中：

- 所述射束选择器包括不透明板，所述不透明板包含多个不同取向的狭缝；以及- 通过实现所述板和所述中间射束的适当相对运动来选择特定的狭缝。

8.根据权利要求2所述的方法，其中所述射束选择器包括具有可调取向的狭缝的不透明板。

9.根据权利要求3所述的方法，其中所述射束选择器包括不透明板，所述不透明板具有可调取向的狭缝。

10.根据权利要求7所述的方法，其中所述射束选择器包括具有可调取向的狭缝的不透明板。

11.一种用于在带电粒子显微镜中使用的校正器设备，其特征在于其包括：- 用于带电粒子的非单能输入射束的输入；以及- 光学模块，其包括以下的串联布置：

·像散矫正器，用于产生具有特定单能线聚焦方向的经像散补偿、能量色散的中间射束；以及·射束选择器，包括狭缝，所述狭缝被旋转取向以便将狭缝的方向与所述线聚焦方向匹配，从而产生包括所述中间射束的能量辨别部分的输出射束。

12.一种校准如权利要求11中所要求保护的校正器设备的方法，包括以下步骤：– 提供孔板，所述孔板包含测试孔，所述测试孔具有比孔板的平面中的中间射束的横截面大幅更小的横截面；

- 产生测试孔和中间射束横截面的相对扫描运动并且作为扫描位置的函数而测量透射经过测试孔的射束强度，从而产生针对射束横截面的强度分布；

– 使用图像识别软件来分析所述强度分布并且从其导出相关联的线聚焦方向；以及– 选择与所述线聚焦方向最紧密匹配的所述射束选择器的狭缝取向。

13.一种带电粒子显微镜，包括：

- 样品固定器，用于固定样品；

- 源，用于产生带电粒子的辐照射束；

- 照明器，用于引导所述射束以便辐照样品；以及- 检测器，用于检测响应于所述辐照从样品发出的辐射的通量，其中照明器包括如权利要求11中所要求保护的校正器设备。

14.一种产生用于在带电粒子显微镜中使用的带电粒子的经校正射束的方法，包括：提供带电粒子的非单能射束；

补偿带电粒子射束中的像散；

使所述射束中的带电粒子色散以将单能带电粒子聚焦在一条线中；以及通过使所述射束穿过旋转取向的狭缝以便与所述单能带电粒子被聚焦的线聚焦方向匹配来对经色散的射束进行滤波，以产生聚焦在所述线中的带电粒子的能量辨别的输出射束。

15.根据权利要求14所述的方法，其中：补偿像散包括减轻第一、系统性像散效应；以及对经色散的射束进行滤波以产生能量辨别的输出射束解决第二、寄生像散。

说明书

具有像散补偿和能量选择的带电粒子显微镜

技术领域

[0001] 本发明涉及产生用于在带电粒子显微镜中使用的带电粒子的经校正射束的方法。

[0002] 本发明还涉及利用这样的方法的校正器设备。

[0003] 本发明还涉及包括这样的校正器设备的带电粒子显微镜。

[0004] 本发明此外涉及校准/调节这样的校正器设备的方法。

背景技术

[0005] 带电粒子显微术是用于对微观对象进行成像（特别地以电子显微术的形式）的公知且日益重要的技术。历史上，电子显微镜的基本属类已经经历了到数个公知的装置种类中的演进，装置种类诸如是透射电子显微镜（TEM）、扫描电子显微镜（SEM）和扫描透射电子显微镜（STEM），并且还已经经历了到各种子种类中的演进，子种类诸如是所谓的“双射束”工具（例如FIB-SEM），其附加地采用“匹配”聚焦离子束（FIB），从而允许诸如例如离子束研磨或离子束诱发沉积（IBID）之类的支持活动。更具体地：

[0006] – 在SEM中，通过扫描电子束对样品的辐照促成了以例如二次电子、反向散射电子、X射线和光致发光（红外光子、可见光子和/或紫外光子）的形式的来自样品的“辅助”辐射的发出；该发出辐射的一个或多个分量然后被检测并且被用于图像聚集目的。

[0007] – 在TEM中，用于辐照样品的电子束被选择成具有足够高的能量以穿透样品（为此目的，样品一般将比在SEM样品的情况下更薄）；从样品发出的经透射的电子然后可以用于创建图像。当这样的TEM操作在扫描模式中（因而成为STEM）时，所讨论的图像将在辐照电子束的扫描运动期间聚集。

[0008] 关于在此阐述的主题中的一些的更多信息例如可以从以下维基百科链接收集到：

[0009] http://en.wikipedia.org/wiki/Electron_microscope

[0010] http://en.wikipedia.org/wiki/Scanning_electron_microscope

[0011] http://en.wikipedia.org/wiki/Transmission_electron_microscopy[0012] http://en.wikipedia.org/wiki/Scanning_transmission_electron_microscopy

[0013] 作为将电子用作辐照射束的可替换方案，带电粒子显微术还可以通过使用其它种类的带电粒子来执行。在这方面，短语“带电粒子”应当被宽泛地解释为涵盖例如电子、正离子（例如Ga或He离子）、负离子、质子和正电子。关于非基于电子的带电粒子显微术，一些另外的信息可以例如从诸如以下的参考文献收集到：

[0014] https://en.wikipedia.org/wiki/Focused_ion_beam

[0015] http://en.wikipedia.org/wiki/Scanning_Helium_Ion_Microscope

[0016] - W.H. Escovitz, T.R. Fox和R. Levi-Setti, Scanning Transmission Ion Microscope with a Field Ion Source, Proc. Nat. Acad. Sci. USA 72(5), 第1826-1828页（1975）。

[0017] http://www.ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/22472444

[0018] 应当指出的是，除了成像和执行（局部化）表面改性（例如研磨、蚀刻、沉积等等）之外，带电粒子显微镜还可以具有其它功能，诸如执行光谱术、检查衍射图等等。

[0019] 在所有情况中，非透射带电粒子显微镜（CPM）将包括至少以下组件：

[0020] – 辐射源，诸如肖特基电子源或离子枪。

[0021] – 照明器，其用来导引来自所述源的“原始”辐射射束并且对其执行某些操作，诸如聚焦、像差减轻、裁剪（利用孔口）、滤波等。照明器一般将包括一个或多个（带电粒子）透镜，并且还可以包括其它类型的（粒子-）光学组件。如果期望的话，照明器可以被提供有偏转器系统，其可以被调用以使其出射射束跨越被研究的样品执行扫描运动。

[0022] – 样品固定器，其上可以固定和定位（例如倾斜、旋转）被研究的样品。如果期望的话，该固定器可以被移动以便实现射束关于样品的扫描运动。一般而言，这样的样品固定器将被连接到诸如机械载台之类的定位系统。

[0023] – 检测器（用于检测从经辐照的样品发出的辐射），其本质上可以是单体的或复合/分布式的，并且其可以取决于被检测到的辐射而采取许多不同形式。示例包括光电二极管、CMOS检测器、CCD检测器、光伏电池、X射线检测器（诸如硅漂移检测器和Si（Li）检测器）等等。一般而言，CPM可以包括若干不同类型的检测器，可以在不同情形中调用对不同类型的检测器的选择。

[0024] 在透射类型显微镜（诸如例如（S）TEM）的情况下，CPM还将包括：

[0025] – 成像系统，其本质上取得透射经过样本（平面）的带电粒子并且将它们引导（聚焦）到分析装置上，分析装置诸如是检测/成像设备、光谱学装置（诸如EELS设备）等等。如同以上提到的照明器的情况那样，成像系统还可以执行其它功能，诸如像差减轻、裁剪、滤波等等，并且该成像系一般将包括一个或多个带电粒子透镜和/或其它类型的粒子-光学组件。

[0026] 在下文中，本发明可以——作为示例——有时在电子显微术的具体情境中进行阐述；然而，这样的简化仅仅意图用于澄清/说明目的，并且不应当被解释为是限制性的。

[0027] 如以上开头段落中阐述的方法是例如从美国专利US 7,034,315和US 8,461,525（通过引用并入本文）得知的，所述美国专利具有与本发明共同的发明人。在所述专利中，带电粒子束被偏心（离轴）地引导经过粒子-光学透镜，作为其结果，带电粒子束变成（能量-）色散的，即被扇出到不同“颜色”（粒子能量）的“光谱”中。光阑然后被用于从该光谱选择其中存在粒子能量的相对窄范围Δ的窄窗口——从而将色散的射束转换成基本上单能（受限能量分散）的子射束。

[0028] 该已知方法所具有的问题在于其遭受（双重）像散（特别是与射束经过透镜的有意偏心传递相关联）的有害效应。作为这样的像散的结果，所选能量范围Δ将典型地被具有Δ以上和/或以下的能量的带电粒子的存在所“污染”。

发明内容

[0029] 本发明的目的是解决该问题。特别地，本发明的目的是提供一种用于生成用于在带电粒子显微镜中使用的改进的带电粒子射束的方法/装置。更具体地，本发明的目的是这样的方法/装置应当提供补偿（双重）像散效应的手段。此外，本发明的目的是所述方法/装置应当能够产生基本上单能的输出射束。

[0030] 这些和其它目的在如以上开头段落中阐述的方法中实现，其特征在于以下步骤：

[0031] – 提供带电粒子的非单能输入射束；

[0032] –将所述输入射束传递经过光学模块，所述光学模块包括以下的串联布置：

[0033] ·像散矫正器，从而产生具有特定单能线聚焦方向的经像散补偿、能量色散的中间射束；

[0034] ·射束选择器，包括狭缝，所述狭缝被旋转取向以便将狭缝的方向与所述线聚焦方向匹配，从而产生包括所述中间射束的能量辨别部分的输出射束。

[0035] 在此使用的术语将受到以下的另外阐明。

[0036] 传统上使用相互旋转（例如转过45°）的一对协作的像散矫正器（例如四极光学元件）来校正像散。本发明产生惊人的见解，即在当前情境（用于在CPM中使用的可接受初期射束的产生）中，还可以通过使用仅一个像散矫正器和具有可选旋转姿态的相关联狭缝来令人满意地补偿像散效应——这在（高电压）CPM源/照明器的狭窄界限中是巨大的优点，因为其节省了空间并且减少了（高电压）电气馈通（feedthrough）（其是庞大的，并且往往充当针对环境振动的不合期望的机械桥）的所需数目。本发明如下起作用：

[0037] – 像散将导致点聚焦被畸变成一对线聚焦，其沿轴向方向（射束传播方向）彼此间隔。此效应将针对输入射束中的每一粒子能量而发生。

[0038] – 在发明性方法中，（适当地配置/激励的）像散矫正器被用于将中间射束中的线聚焦的轴向分离减少到（接近）最小值（参见例如以下的实施例3）。

[0039] – 在线聚焦中的所选一个的焦平面中（例如近端线聚焦，其位于最靠近像散矫正器），该线聚焦的方向将是不可预测的（参见下文）。为了应对这一点，射束选择器将必须包括旋转自由度，以便能够将狭缝方向与所牵涉的特定线聚焦方向匹配。

[0040] – 中间射束中的色散将在狭缝平面上产生一串/一系列的平行线聚焦，每个都对应于不同能量。这些中的特定一个可以通过产生射束相对于狭缝（或反之亦然）的适当平移来选择。由于中间射束中的线聚焦取向的这种不规则/非系统性的性质，将中间射束传递经过固定方向狭缝（如在现有技术中那样）通常将不导致定义明确的能量范围的选择；然而，提供各种狭缝方向之间的选择允许与给定线聚焦方向最佳匹配的最优选择狭缝取向的选择（因为二者是完美平行、近似平行或在离散狭缝取向的有限选择的情况下尽可能地平行——参见下文）。射束选择器的“标称”旋转姿态可以基于像散矫正器（的柱）（关于光轴）的所选旋转姿态来预先确定。

[0041] （在功能上）理解本发明的另一方式是将中间射束的像散视为在本质上是复合的，由此：

[0042] – 像散矫正器被用于减轻第一、系统性像散效应/分量；

[0043] – 射束选择器被用于解决第二、寄生像散效应/分量。

[0044] 在该场景中可以做出对包括位于“DC”（恒定）基上的“AC”（可变）波动的信号的情形的某种宽松的类比：当减去DC基（类似于像散矫正器所做的）时，暴露AC分量。

[0045] 在先前段落中阐述的场景的特定方面中：

[0046] – 所述第一、系统性像散效应与由所述输入射束横穿的偏心透镜相关联；

[0047] – 所述第二、寄生像散效应与射束选择器上游的光学组件中的定位误差相关联。

[0048] 在此横穿的“透镜”可以是像散矫正器，或者其可以是位于像散矫正器上游的透镜（类似于前述US 7,034,315/US 8,461,525中的设置（set-up）），或者二者；在这方面应当记住的是，如果像散矫正器的差分激励（多极效应）叠加在底层非差分激励（透镜效应）上的话，像散矫正器将充当透镜。术语“上游”在此是指在射束选择器之前的光学镜筒（的部分）（包括源）。在此提到的“定位误差”可以例如包括诸如定位偏移/漂移、机械变形、形状不精确性等等之类的效应；这样的效应的典型示例是源尖端定位偏移。

[0049] 本发明具有相对于现有技术的数个明显优点。例如：

[0050] – 其实现比例如前述US 7,034,315/US 8,461,525中的技术更精确/明确的能量选择；

[0051] – 其能够递送高得多的能量选择的输出射束电流，例如将大约25pA的相对低的典型现有技术值增加到200pA的高得多的值，具有可得到的分辨率中的伴随的显著改进（特别是对于 5keV以下的射束能量）。~

[0052] – 其有效地增加诸如源之类的上游组件的可用寿命。在过去，一旦它们由于（累积的）漂移效应而变得不可用，则这些必须被丢弃。然而，本发明提供了一种功能，由此可以（连续）补偿这样的漂移效应，从而允许延长的使用，具有相关联的成本降低和正常运行时间（uptime）改进。

[0053] – 其减轻了称为“条带化”的烦扰现象，在该现象中当射束沿瑕疵（诸如毛刺）掠过时产生干涉条纹，所述瑕疵沿如在US 7,034,315/US 8,461,525中使用的能量选择光阑的边缘出现。由于本发明的能量选择狭缝可以与从像散矫正器出现的经像散补偿的中间射束（的单能线聚焦）的取向旋转地匹配，狭缝的较小部分倾向于被照亮，具有干涉效应中的伴随降低。

[0054] – 其通过去除对于使用用于像散补偿的第二像散矫正器的需要而降低成本和复杂度，并且增加可用体积。

[0055] 应当明确指出的是，发明性射束选择器的狭缝不一定必须位于像散矫正器的光轴上。而是，如果期望的话，其可以（略微）离轴地定位，以免妨碍对于一些应用而言可能需要的轴上的、未经校正的、高电流射束。这在某种程度上类似于US 7,034,315/US 8,461,525中说明的情形，其中所采用的光阑具有轴上开口（对于非偏心射束）和离轴开口（对于偏心射束传递）。同样参见以下的图2。

[0056] 在本发明的特定实施例中：

[0057] – 所述射束选择器包括不透明板，所述不透明板包含不同取向的多个狭缝；

[0058] – 通过实现所述板和所述中间射束的适当相对运动来选择特定狭缝。

[0059] 这样的板向从像散矫正器出现的中间射束提供狭缝取向的离散集合，例如对着（在板的平面中）具有参考方向的nθ的角度的狭缝的集合，其中n为整数并且θ是增量角（诸如例如15°）。该类型的板可以被安装在滑动器（或例如旋转回转车）上，该滑动器（或例如旋转回转车）可以用于将其相对于像散矫正器的光轴进行移位（从而允许不同狭缝被放置在中间射束路径中）；可替换地/补充地，偏转器单元可以用于跨越板来将中间射束进行移位（将射束导引到不同狭缝上）。该类型的实施例的示例例如在图2和3中图示——其中所图示的板被布置为垂直于像散矫正器的光轴。

[0060] 在可替换的实施例中，射束选择器包括具有可调取向的狭缝的不透明板。这样的板可以例如是关于像散矫正器的光轴（或与其平行的离轴方向）可旋转的，例如通过将其安装在环状承载槽（bearing chase）中并且使用采用例如嵌齿/螺旋传动的机制来将其旋转到给定（滚转）姿态。如果期望的话，这样的可旋转板中的狭缝还可以在宽度方面是可调的，例如通过如期望的那样跨越狭缝开口使可移动刀形边缘前/后地移位。

[0061] 在对两个先前实施例的又一可替换方案中，不同狭缝板的库（例如机架/卡盒）被原位存储，并且取回器设备（诸如机器人臂）用于（从库）取出特定的板并且将其插入到射束选择器位置中，如所需要的那样；在使用之后，讨论中的板可以由所述取回器臂返回到库。

[0062] 当前发明还涉及一种校准/调节发明性校正器设备的方法。这样做的一种方式将是使用相对基本的过程，诸如以下：

[0063] – 在所述射束选择器中选择第一狭缝取向，并且测量从其出现的输出射束的能量分布；

[0064] – 针对至少一个、第二狭缝取向重复该过程；

[0065] – 从由此选择的（至少两个）狭缝取向的集合选择具有最小测量能量分布的成员。

[0066] 然而，发明人已经开发了更加高效/完善的可替换方案，其包括以下步骤：

[0067] – 提供包含测试孔的孔板，所述测试孔具有比孔板的平面中的中间射束的横截面大幅更小的横截面；

[0068] – 产生测试孔和中间射束横截面的相对扫描运动并且测量作为扫描位置的函数的透射经过测试孔的射束强度，从而产生针对射束横截面的强度分布；

[0069] – 使用图像识别软件来分析所述强度分布并且从其导出相关联的线聚焦方向；

[0070] – 选择与所述线聚焦方向最紧密匹配的所述射束选择器的狭缝取向。

[0071] 这样的过程可以以期望的间隔来执行，以便确保/维持校正器设备的最优性能。可以通过跨越测试孔使中间射束进行扫描和/或通过相对于射束使孔板横向移位来产生所暗指的扫描运动。如在此提到的测试孔可以例如是具有大约100nm左右的宽度的方形或圆形孔洞。

附图说明

[0072] 现在将在示例性实施例和随附示意图的基础上更加详细地阐明本发明，其中：

[0073] 图1呈现了其中实现本发明的CPM的纵向横截面视图。

[0074] 图2呈现了本发明的实施例的结构和操作原理的图示。

[0075] 图3呈现了如在本发明中使用的射束选择器的特定实施例的正视图。

[0076] 在附图中，在相关的情况下，可以使用对应的参考符号来指示对应的部分。

具体实施方式

[0077] 实施例1

[0078] 图1是其中实现本发明的CPM的实施例的高度示意性描绘；更具体地，其示出了显微镜M的实施例，该显微镜M在这种情况下是SEM（尽管在当前发明的情境中，其可以例如刚好妥当地是（S）TEM，或基于离子的显微镜）。显微镜M包括照明器（粒子-光学镜筒）1，其产生沿粒子-光学轴3'传播的输入带电粒子的射束3（在该情况下是电子束）。照明器1被安装在真空腔5上，该真空腔5包括样品固定器7和相关联的载台/致动器7'以用于固定/定位样品S。使用真空泵（未描绘）来将真空腔5抽真空。在电压源17的帮助下，样品固定器7或至少样品S可以被偏置（浮置）到相对于接地的电势，如果期望的话。

[0079] 照明器1（在当前情况下）包括电子源9（诸如例如肖特基枪）、透镜11、13以将电子束3聚焦到样品S上，以及包括偏转单元15（以执行射束3的射束导引/扫描）。装置M还包括控制器/计算机处理装置25以用于控制尤其是偏转单元15、透镜11、13和检测器19、21，并且在显示单元27上显示从检测器19、21收集的信息。

[0080] 从可以用于检查响应于由输入射束3的辐照而从样品S发出的不同类型的出射辐射E的各种可能的检测器类型选择检测器19、21。在这里描绘的装置中，已经做出以下（非限制性）检测器选择：

[0081] – 检测器19是用于检测从样品S发出的光致发光的固态检测器（诸如光电二极管）。其可以可替换地是X射线检测器，诸如例如硅漂移检测器（SDD）或硅锂（Si（Li））检测器。

[0082] – 检测器21是分段硅电子检测器，包括布置在关于中心孔23（允许主射束3的传递）的环形配置中的多个独立检测段（例如象限）。这样的检测器可以例如用于研究从样品S发出的出射反向散射电子的通量的角度相关性。其典型地将被偏置到正电势，以便吸引从样品S发射的电子。

[0083] 本领域技术人员将理解的是，可以在诸如所描绘的设置之类的设置中选择许多不同类型的检测器。

[0084] 通过在样品S之上使输入射束3进行扫描，出射辐射——包括例如X射线、红外/可见/紫外光、二次电子（SE）和/或反向散射电子（BSE）——从样品S发出。因为这样的出射辐射（由于所述扫描运动）是位置敏感的，所以从检测器19、21获取的信息也将是位置相关的。该事实允许（例如）来自检测器21的信号被用于产生样品S（的部分）的BSE图像，所述图像基本上是作为样品S上的扫描路径位置的函数的所述信号的绘图。

[0085] 来自检测器19、21的信号沿控制线（总线）25'传递、被控制器25处理并且被显示在显示单元27上。这样的处理可以包括诸如组合、积分、相减、加伪彩色、边缘增强之类的操作，以及本领域技术人员已知的其它处理。此外，自动识别过程（例如，如用于粒子分析）可以被包括在这样的处理中。

[0086] 应当指出的是，这样的设置的许多精细方案和可替换方案对本领域技术人员将是已知的，包括但不限于：

[0087] – 双射束的使用——例如用于成像的电子束3和用于加工（或在一些情况下是成像）样品S的离子束；

[0088] – 样品S处的受控环境的使用——例如，维持若干mbar的压强（如在所谓的环境SEM中使用的）或通过容许进入气体，诸如蚀刻或前体气体，

[0089] 等等。

[0090] 在当前发明的具体情境中，照明器1包括校正器设备C，该校正器设备C包括像散矫正器和射束选择器的串联布置，如以上阐述的以及如以下在图2和3中更加详细图示的那样。该设备C用于执行像散补偿和能量选择，因而产生输出射束3，其具有优良质量——例如关于（较高）射束电流和（降低的）条带化误差——并且其允许补偿例如源9中的项目C上游的机械未对准。参见以下的实施例2。

[0091] 实施例2

[0092] 图2示意性地图示了根据本发明的方法/校正器设备的实施例（还参照图1）的结构和操作。在图2中，源9在多个方向上发射带电粒子（例如电子），该多个方向在此由从源9的尖端发出的锥体来描绘。空间滤波器31（提取器孔板）包含相对于光轴3'考虑的离轴孔31a和轴上孔31b。从源9经过孔31a传播的输入射束3a偏心地传递经过（在轴3'上居中的）像散矫正器（四极透镜）33，并且作为中间射束3b从像散矫正器33出现；另一方面，（轴向）射束3a'非偏心地传递经过像散矫正器33的中心。如以上已经阐述的，中间射束3b将证实（双重）像散和能量色散。

[0093] 像散矫正器33的下游是一组偏转器35a、35b，其可以被用于改变从像散矫正器33出现的射束3b、3a'的方向。更具体地，作为应用于偏转器35a、35b的适当电学激励的结果：

[0094] – 中间射束3b可以使其路线改变，变成可以被导引到射束选择器37的不同区域上的可移动射束段3c，该射束选择器37位于射束3b/3c的线聚焦中的一个的焦平面（狭缝平面）中。以下将给出关于射束选择器37的更多细节。

[0095] – 轴向射束3a'可以在其不需要在下游时转向偏离路线，以便撞击在屏幕（射束挡板）37'上。

[0096] 中间射束3b/3c作为输出射束3d从射束选择器37出现——其如以上所阐述的，相比于中间射束3b/3c是较不多能的（是更加能量辨别的）。其然后传递经过偏转器对39a、39b，该偏转器对39a、39b可以被用于将其“轴上”偏转，使得其沿光轴3'/基本上平行于光轴
3'传播。

[0097] 为了给出具体、非约束性示例，可以采用以下近似轴向分离（沿轴3'）：

[0098] – 源9到空间滤波器31：2.6mm。

[0099] – 源9到像散矫正器33（的中值平面）：5.5mm。

[0100] – 源9到射束选择器37（狭缝平面）：12.5mm。

[0101] 现在转向图3，这更加详细地示出在平行于轴3'（Z轴）的方向上观看到的射束选择器37。在此所示的特定实施例包括板41，其中已经提供了多个狭缝状（细长）开口。这些狭缝中的特定的（中心的）一个（43）是沿轴Y取向的，但是通过相对于该参照顺时针和逆时针地改变量来使其它狭缝倾斜：例如，狭缝43a、43a'分别相对于Y倾斜经过+5°和-5°，狭缝43b、43b'分别相对于Y倾斜经过+10°和-10°，等等。通过使用偏转器对35a、35b（图2）和/或通过在XY平面内将板41适当移位，射束3c的横截面（图2）——其在从像散矫正器33出现之后将具有特定（单能）线聚焦方向——可以与来自板41中的狭缝的“最佳拟合”匹配（对准）；作为结果，仅射束横截面的横向受限的（并且方向匹配的）部分将被允许横穿射束选择器37。作为非限制性示例，板41中的所描绘的狭缝均具有例如大约2μm的长度和大约0.15μm的宽度。

[0102] 实施例3

[0103] 以下是可以在本发明中使用的直接像散矫正器调节（校准）例程的示例：

[0104] （i）对于线聚焦中的第一个（例如远端线聚焦，最远离像散矫正器），人们选择像散矫正器的特定差分激励（ED）并且调节像散矫正器的非差分激励（EC）以实现狭缝平面处的最佳聚焦。人们然后针对ED的至少一个其它值重复该过程，从而允许制作EC对比ED的第一图线。

[0105] （ii）针对线聚焦中的第二个（近端线聚焦，最靠近像散矫正器）重复（i）中的过程，导致了EC对比ED的第二图线。

[0106] （iii）所述第一和第二图线的交叉点处的ED的值是将会最小化第一和第二线聚焦的轴向分离的值。

[0107] 这样的过程良好地处于本领域技术人员的涉及范围（ambit）内，本领域技术人员可以例如使其缩减以使得他可以从总共仅三个数据点（两个用于一个线聚焦，以及一个用于另一线聚焦）获得所需信息。