层叠光学膜的制造方法

摘要

本发明提供层叠光学膜的制造方法，其可抑制光学膜表面及重叠于光学膜的树脂层表面的损伤。层叠光学膜的制造方法具备：在膜状基材22a的表面上形成含活化能射线固化性树脂的涂膜32a的涂敷工序、介由涂膜32a将基材22a贴合在光学膜(偏振元件38)的表面上的贴合工序、由基材22a侧对涂膜32a照射活化能射线L，由涂膜32a形成树脂层32b的固化工序。基材22a中的活化能射线L的透过率在70％以上。

权利要求

1.一种层叠光学膜的制造方法，

其具备涂敷工序、贴合工序、固化工序、剥离工序，所述涂敷工序中，在膜状基材的没有实施电晕处理的表面上形成含活化能射线固化性树脂的涂膜，所述贴合工序中，所述基材介由所述涂膜贴合在光学膜的表面上，所述固化工序中，由所述基材侧向所述涂膜照射活化能射线，由所述涂膜形成树脂层，所述剥离工序中，从所述树脂层剥离所述基材，所述基材中的所述活化能射线的透过率在70％以上，所述基材为环状聚烯烃系树脂或丙烯酸系树脂，所述树脂层为保护所述光学膜的保护层。

2.根据权利要求1所述的层叠光学膜的制造方法，所述活化能射线为紫外线。

3.根据权利要求1或2所述的层叠光学膜的制造方法，所述活化能射线固化性树脂是从环氧系树脂、丙烯酸系树脂及氧杂环丁烷系树脂组成的群中选择的至少一种。

说明书

层叠光学膜的制造方法

技术领域

[0001] 本发明涉及层叠光学膜的制造方法。

背景技术

[0002] 偏光板是层叠光学膜的一种，构成液晶显示装置。偏光板具有，作为光学膜的一种的偏振元件、和层叠于偏振元件的单面或两面的保护膜。下述专利文献1中公开了，通过在偏光膜的单面或两面涂敷树脂溶液，形成了透明的树脂层。有必要保护偏振元件以外的光学膜的场合下，层叠光学膜具有与光学膜重叠的树脂层。

[0003] (专利文献1)日本专利特开2000-199819号公报

发明内容

[0004] 近年来，伴随着智能手机等移动设备的薄型化，寻求移动设备中使用的层叠光学膜变得更薄。层叠光学膜变薄的一个方法是，取代以往的保护膜，用更薄的保护层重叠在光学膜上。例如，制造偏光板时，使用凹版辊等涂敷设备在偏振元件的表面上形成含活化能射线固化性树脂的涂膜，用活化能射线将该涂膜固化，容易形成比以往的保护膜更薄的保护层(树脂层)。但是，当在偏振元件的表面上涂敷涂膜时，涂敷设备与偏振元件相接触从而会损伤偏振元件的表面。在偏振元件以外的光学膜的表面上形成保护层的场合下，也可能出现这样的问题。也就是因涂敷设备划伤光学膜的表面，从而会损伤光学膜的光学性能。此外，偏振元件的表面上形成的保护层(树脂层)，因为太薄的原因，也会在之后的工序或运送时与辊等的接触而被划伤。

[0005] 本发明是鉴于上述情形而做成，其目的在于提供可以抑制光学膜表面以及与光学膜重叠的树脂层表面的损伤的层叠光学膜的制造方法。

[0006] 本发明的一个方式所涉及的层叠光学膜的制造方法，其具有：在膜状基材的表面上形成含活化能射线固化性树脂的涂膜的涂敷工序，与介由涂膜将基材贴合在光学膜的表面上的贴合工序，由基材侧向涂膜照射活化能射线，由涂膜形成树脂层的固化工序。基材中的活化能射线的透过率在70％以上。

[0007] 本发明的一个方式中，活化能射线可以是紫外线。

[0008] 本发明的一个方式中，基材可以含有，环状聚烯烃系树脂、聚丙烯系树脂、丙烯酸系树脂及聚乙烯系树脂组成的群中选择的至少一种。

[0009] 本发明的一个方式中，活化能射线固化性树脂可以是，环氧系树脂、丙烯酸系树脂及氧杂环丁烷系树脂组成的群中选择的至少一种。

[0010] 本发明的一个方式涉及的层叠光学膜的制造方法中，可以在固化工序后进一步具有从树脂层剥离基材的剥离工序。

[0011] 本发明的一个方式所涉及的层叠光学膜的制造方法的涂敷工序中，可以在没有实施表面糙化处理的基材的表面上形成涂膜。

[0012] 本发明的一个方式中，树脂层可以是保护光学膜的保护层。

[0013] 根据本发明，提供可以抑制光学膜表面及重叠于光学膜的树脂层表面的损伤的层叠光学膜的制造方法。

附图说明

[0014] 图1是显示本发明的第一实施方式所涉及的偏光板的制造方法的模式图。

[0015] 图2中的(a)、图2中的(b)及图2中的(c)是显示本发明的第一实施方式所涉及的偏光板的制造方法的模式图。

[0016] 图3是显示本发明的第二实施方式所涉及的偏光板的制造方法的模式图。

[0017] 图4中的(a)、图4中的(b)及图4中的(c)是显示本发明的第二实施方式所涉及的偏光板的制造方法的模式图。

[0018] 符号说明

[0019] 38…偏振元件(光学膜)、32a，52a，54a…涂膜、32b，52b，54b…树脂层(保护层)、22a，42a，44a…基材、L…活化能射线。

具体实施方式

[0020] 以下参照图对本发明适宜的实施方式进行说明。图中，同样的构成部件标记相同的符号。本发明并不限定于下述实施方式。

[0021] (第一实施方式)

[0022] 第一实施方式涉及作为层叠光学膜的一种的偏光板的制造方法。第一实施方式所涉及的偏光板的制造方法至少具有涂敷工序、贴合工序、固化工序。涂敷工序中，在膜状基材的表面上形成含活化能射线固化性树脂的涂膜。贴合工序中，介由涂膜将基材贴合在光学膜的表面上。固化工序中，由基材侧向涂膜照射活化能射线，由涂膜形成树脂层。以下对各工序进行详细说明。

[0023] [涂敷工序]

[0024] 如图1及图2中的(a)所示，第一实施方式的涂敷工序中，使用第一层叠体24。第一层叠体24具有：膜状的偏振元件38，与偏振元件38重叠的粘合剂层36，介由粘合剂层36贴合于偏振元件38的保护膜34。

[0025] 膜状的偏振元件38可以按照例如以下顺序制作。

[0026] 首先将膜状的聚乙烯醇系树脂沿着单轴方向或双轴方向拉伸。接着，通过碘或二色性色素对聚乙烯醇系树脂染色。为了交联，将染色后的聚乙烯醇系树脂在交联剂溶液(例如，硼酸水溶液)中进行处理。通过交联剂处理后，将聚乙烯醇系树脂水洗，接着进行干燥。经过以上顺序之后，得到偏振元件38。聚乙烯醇系树脂可以通过将聚乙酸乙烯酯系树脂皂化而得到。聚乙酸乙烯酯系树脂可以是例如，作为乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯、或者乙酸乙烯酯与其他的单体的共聚物(例如，乙烯－乙酸乙烯酯共聚物)。与乙酸乙烯酯共聚的其他的单体，可以是除乙烯之外的不饱和羧酸类、烯烃类、乙烯基醚类、不饱和磺酸类、或具有铵基的丙烯酰胺类。聚乙烯醇系树脂可以经改性。经改性的聚乙烯醇系树脂可以是例如，经醛类改性的聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯醇缩乙醛、或聚乙烯醇缩丁醛。

[0027] 偏振元件38的厚度可以是10μm以下、或8μm以下。偏振元件38越薄，越容易实现偏光板的薄型化。偏振元件38的厚度可以是2μm以上。偏振元件38越厚则越容易提高偏振元件38的机械强度。

[0028] 保护膜34具有保护偏振元件38的功能。保护膜34只要是具有透光性的热塑性树脂即可，可以是光学透明的热塑性树脂。构成保护膜34的树脂可以是例如，链状聚烯烃系树脂、环状聚烯烃系树脂、纤维素酯系树脂、聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、聚苯乙烯系树脂、或这些的混合物或者共聚物。

[0029] 链状聚烯烃系树脂可以是例如，聚乙烯系树脂或聚丙烯系树脂这样的链状烯烃的均聚物。链状聚烯烃系树脂可以是由二种以上的链状烯烃形成的共聚物。

[0030] 环状聚烯烃系树脂可以是例如，环状烯烃的开环(共)聚合物、或环状烯烃的加成聚合物。环状聚烯烃系树脂可以是例如，环状烯烃与链状烯烃的共聚物(例如，无规共聚物)。构成共聚物的链状烯烃可以是例如，乙烯或丙烯。环状聚烯烃系树脂可以是上述聚合物经不饱和羧酸或者其衍生物改性的接枝聚合物、或其氢化物。环状聚烯烃系树脂可以是例如，使用了降冰片烯或多环降冰片烯系单体等降冰片烯系单体的降冰片烯系树脂。

[0031] 纤维素酯系树脂可以是例如，三醋酸纤维素(三乙酰纤维素)、二醋酸纤维素、丙酸纤维素或二丙酸纤维素。可以使用这些的共聚物。可以使用羟基的一部分被其他的取代基修饰的纤维素酯系树脂。

[0032] 可以使用纤维素酯系树脂以外的聚酯系树脂。聚酯系树脂可以是例如，多元羧酸或其衍生物与多元醇的缩聚物。多元羧酸或其衍生物可以是二元羧酸或其衍生物。多元羧酸或其衍生物可以是例如，对苯二甲酸、间苯二甲酸、对苯二甲酸二甲酯、或萘二羧酸二甲酯。多元醇可以是例如二醇。多元醇例如有乙二醇、丙二醇、丁二醇、新戊二醇、或环己烷二甲醇。

[0033] 聚酯系树脂可以是例如聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二酯、聚邻苯二甲酸酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸丁二醇酯、聚对苯二甲酸丙二醇酯、聚萘二甲酸丙二醇酯、聚对苯二甲酸环己二甲酯、或聚萘二甲酸环己二甲酯。

[0034] 聚碳酸酯系树脂是聚合单元(单体)通过碳酸酯基键合而成的聚合物。聚碳酸酯系树脂可以是具有修饰后的聚合物骨架的改性聚碳酸酯，也可以是共聚聚碳酸酯。

[0035] (甲基)丙烯酸系树脂，可以是例如聚(甲基)丙烯酸酯(例如聚甲基丙烯酸甲酯)；甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物；甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物；甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物；(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(例如MS树脂)；甲基丙烯酸甲酯与具有脂环族烃基的化合物的共聚物(例如甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸环己基共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降冰片共聚物等)。

[0036] 保护膜34可以含有选自润滑剂、增塑剂、分散剂、热稳定剂、紫外线吸收剂、红外线吸收剂、抗静电剂及抗氧剂形成的群中选择的至少一种添加剂。

[0037] 保护膜34的厚度可以是90μm以下、50μm以下或30μm以下。保护膜34越薄，偏光板的薄型化越容易。保护膜34的厚度可以是5μm以上。保护膜34越厚，保护膜34的机械强度及操作性越容易提高。

[0038] 保护膜34可以是像相位差膜或亮度提高膜那样具有光学功能的膜。例如通过将上述热塑性树脂形成的膜拉伸，或在该膜上形成液晶层等，可以得到赋予了任意的相位差值的相位差膜。

[0039] 粘合剂层36可以含有聚乙烯醇等水系粘合剂，可以含有后述的活化能射线固化性树脂。固化的粘合剂层36的厚度可以是例如0.05μm以上10μm以下。粘合剂层36越厚，则偏振元件38与保护膜34之间越难形成气泡，偏振元件38及保护膜34越容易坚固地粘合。粘合剂层36越薄，偏光板的薄型化越容易。

[0040] 如图1及图2中的(a)所示，第一实施方式的涂敷工序中，使用涂敷设备1，在膜状基材22a的表面上形成含活化能射线固化性树脂的涂膜32a。也就是在涂敷工序中制作具有基材22a、在基材22a的表面上形成了涂膜32a的第二层叠体22b。涂敷设备1可以是例如，MCD型超精密涂布机等凹板涂敷机。涂膜32a可以只由活化能射线固化性树脂形成。如上所述，因为涂膜32a在基材22a的表面上而不是在偏振元件38的表面上形成，所以涂敷设备1不直接与偏振元件38的表面相接触。从而不会产生因与涂敷设备1相接触而引起的偏振元件38的表面的损伤。

[0041] 基材22a中的活化能射线的透过率在70％以上。活化能射线可以是例如，紫外线、可见光、电子束或X射线。基材22a中的活化能射线的透过率可以在75％以上、76.7％以上、80％以上或89％以上。基材22a中的活化能射线的透过率在95％以下、99％以下、或不足
100％。此外，基材22a中的活化能射线的透过率T可以定义为例如，(I/I0)×100。I0是基材
22a中入射的活化能射线的辐射出射度。I是透过了基材22a的活化能射线的辐射出射度。

[0042] 基材22a中的活化能射线的透过率可以使用例如，日本分光株式会社制的紫外线-可见光-近红外分光光度计“V－7100”来测定。

[0043] 活化能射线可以是紫外线。紫外线的透过率在70％以上的基材22a，可以含有例如环状聚烯烃系树脂、聚丙烯系树脂、丙烯酸系树脂及聚乙烯系树脂组成的群中选择的至少一种。

[0044] 环状聚烯烃系树脂可以是例如，环状烯烃的开环(共)聚合物、或环状烯烃的加成聚合物。环状聚烯烃系树脂可以是例如，环状烯烃与链状烯烃的共聚物(例如，无规共聚物)。构成共聚物的链状烯烃可以是例如，乙烯或丙烯。环状聚烯烃系树脂可以是上述聚合物经不饱和羧酸或者其衍生物改性的接枝聚合物、或其氢化物。环状聚烯烃系树脂可以是例如，使用降冰片烯或多环降冰片烯系单体等降冰片烯系单体的降冰片烯系树脂。

[0045] 丙烯酸系树脂((甲基)丙烯酸系树脂)可以是例如，聚(甲基)丙烯酸酯(例如聚甲基丙烯酸甲酯)；甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物；甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物；甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物；(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(例如MS树脂)；甲基丙烯酸甲酯与具有脂环族烃基的化合物的共聚物(例如甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸环己基共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降冰片共聚物等)。

[0046] 活化能射线固化性树脂是通过对其照射活化能射线而固化的树脂。活化能射线固化性树脂可以是一种树脂，也可以含有多种树脂。

[0047] 活化能射线为紫外线时，活化能射线固化性树脂是紫外线固化性树脂。紫外线固化性树脂可以调制为无溶剂型粘合剂。因此活化能射线固化性树脂为紫外线固化性树脂时，涂敷工序、贴合工序或固化工序之后，可以实施除去溶剂的干燥工序。此外，紫外线固化性树脂与水系粘合剂相比，容易与透湿度低的保护膜并用。

[0048] 紫外线固化性树脂可以含有，阳离子聚合性固化性化合物、或自由基聚合性固化性化合物。紫外线固化性树脂可以含有引发上述固化性化合物的固化反应的阳离子聚合引发剂或自由基聚合引发剂。

[0049] 阳离子聚合性固化性化合物可以是例如环氧系树脂(分子内具有至少一个环氧基的化合物)、或氧杂环丁烷系树脂(分子内具有至少一个氧杂环丁烷环的化合物)。自由基聚合性固化性化合物可以是例如(甲基)丙烯酸系树脂(分子内具有至少一个(甲基)丙烯酰氧基的化合物)。自由基聚合性固化性化合物，可以是具有自由基聚合性双键的乙烯基系树脂。

[0050] 活化能射线固化性树脂，根据需要可以含有阳离子聚合促进剂、离子捕捉剂、抗氧化剂、链转移剂、粘合赋予剂、热塑性树脂、填料、流动调节剂、增塑剂、消泡剂、抗静电剂、流平剂或溶剂等。

[0051] 活化能射线可以是紫外线A波(UVA)。紫外线A波是波长为400～315nm的紫外线。构成紫外线A波的透过率在70％以上的基材22a的树脂可以是例如，环状聚烯烃系树脂、聚丙烯系树脂或丙烯酸系树脂。通过紫外线A波的照射而固化的活化能射线固化性树脂(紫外线固化性树脂)可以是例如，环氧系树脂、丙烯酸系树脂或氧杂环丁烷系树脂。活化能射线可以是紫外线B波(UVB)。紫外线B波是波长为315～280nm的紫外线。构成紫外线B波的透过率在70％以上的基材22a的树脂可以是例如，环状聚烯烃系树脂、聚丙烯系树脂或丙烯酸系树脂。通过紫外线B波的照射而固化的活化能射线固化性树脂(紫外线固化性树脂)可以是例如，环氧系树脂、丙烯酸系树脂或氧杂环丁烷系树脂。活化能射线可以是紫外线C波(UVC)。紫外线C波是波长不足280nm的紫外线。基材22a使用紫外线C波的透过率在70％以上的树脂即可。

[0052] 活化能射线可以是可见光。基材22a使用可见光的透过率在70％以上的树脂即可。

[0053] 例如，活化能射线是以高压水银灯为光源的紫外线、该紫外线波长为300nm、基材22a由环状聚烯烃系树脂膜或聚丙烯系树脂膜形成时，基材22a中的活化能射线的透过率为
89％。此时通过活化能射线的照射而固化的活化能射线固化性树脂为例如，环氧系树脂。例如，活化能射线是以高压水银灯为光源的紫外线、该紫外线波长为300nm、基材22a由丙烯酸系树脂膜形成时，基材22a中的活化能射线的透过率为76.7％。此时通过活化能射线的照射而固化的活化能射线固化性树脂为例如，环氧系树脂。

[0054] 基材22a的厚度可以是例如，5μm以上100μm以下。基材22a越薄，则基材22a中的活化能射线的透过率倾向于越高。基材22a越厚，则基材22a中的活化能射线的透过率倾向于越低。

[0055] [贴合工序]

[0056] 如图1及图2中的(a)所示，沿着方向d24移送第一层叠体24，供给到一对贴合辊(辊7a及7b)之间。导向辊5a与第一层叠体24具有的保护膜34的表面相接触。此外，沿着方向d22移送第二层叠体22b，供给到一对辊7a及7b之间。导向辊5b与第二层叠体22b具有的基材22a的表面相接触。

[0057] 如图1以及图2中的(a)及(b)所示，贴合工序中，以第二层叠体22b的涂膜32a与第一层叠体24的偏振元件38相对，将第一层叠体24和第二层叠体相重叠。重叠的第一层叠体24及第二层叠体22b被一对辊7a及7b夹持。换而言之，使用一对贴合辊、介由涂膜32a将基材
22a与偏振元件38的表面贴合。结果是得到了第三层叠体26a，其具有基材22a、与基材22a重叠的涂膜32a、与涂膜32a重叠的偏振元件38、与偏振元件38重叠的粘合剂层36、与粘合剂层
36重叠的保护膜34。

[0058] [固化工序及剥离工序]

[0059] 如图1所示，沿着方向d26移送第三层叠体26a至一对辊7a及7b之间。然后在固化工序中，使用照射装置3由基材22a侧向涂膜32a照射活化能射线L。也就是介由基材22a对涂膜32a间接地照射活化能射线L。也就是活化能射线L透过基材22a到达涂膜32a。通过活化能射线L的照射，涂膜32a固化成为树脂层32b。

[0060] 照射装置3可以是例如低压水银灯、中压水银灯、高压水银灯、超高压水银灯、化学灯、黑光灯、微波激发光灯或者金属卤化灯。

[0061] 可以在固化工序后实施剥离工序。如图1以及图2中的(b)及(c)所示，剥离工序中，将基材22a由第三层叠体26a的树脂层32b剥离。剥离工序中，导向辊5c与第三层叠体26a具有的基材22a相接触。将剥离了基材22a后的第四层叠体26b向方向d26移送。

[0062] 实施剥离工序的场合下，偏光板不具备基材22a。经由剥离工序而完成的偏光板(第四层叠体26b)，如图2中的(c)所示，具有：树脂层32b、直接与树脂层32b重叠的偏振元件38、介由粘合剂层36贴合于偏振元件38的保护膜34。此外，只要后续工序中不是一定不需要基材22a时，也可以不剥离基材22a。基材22a通过保护树脂层32b，可以抑制树脂层32b的表面上的伤痕或凹凸的出现。

[0063] 树脂层32b可以是保护偏振元件38的保护层。树脂层32b可以是光学补偿层(OC层)。偏光板(第四层叠体26b)可以具备层叠于保护膜34或树脂层32b的其他光学层。其他光学层可以是例如反射型偏光膜、具有防眩功能的膜、具有表面防反射功能的膜、反射膜、半透过反射膜、视角补偿膜、硬涂层、粘合剂层、触摸传感器层、防静电层或防污层。

[0064] 固化工序中，基材22a中的活化能射线L的透过率在70％以上，因此，与基材中的活化能射线L的透过率不足下限值的场合相比，涂膜32a容易均一且充分地被固化。结果是，形成了硬度高，不容易被刮伤的树脂层32b。因此，即使在从树脂层32b剥离基材22a的场合下，树脂层32b的一部分或未固化的树脂难以附着在剥离后的基材22a的表面上。也就是可以抑制基材22a上粘合的树脂层32b的表面，其伴随着基材22a的剥离而出现的损伤。基于上述理由，抑制了与膜状的偏振元件38(光学膜)重叠的树脂层32b的损伤。

[0065] 实施剥离工序时，涂敷工序中，可以在没有实施表面糙化处理的基材22a的表面上形成涂膜32a。在基材22a上实施表面糙化处理时，涂膜32a容易与基材22a的表面密切贴合，由固化后的涂膜32a(树脂层32b)剥离基材22a变得困难。此外，在基材22a上实施表面糙化处理时，伴随着从与基材22a相接的树脂层32b的表面剥离基材22a，出现了损伤。因此，通过在没有实施表面糙化处理的基材22a的表面上形成涂膜32a，剥离工序中由树脂层32b剥离基材22a变得容易，可以抑制树脂层32b的表面的损伤。表面糙化处理可以是例如等离子体处理、电晕处理、紫外线照射处理、火帧处理(火焰处理)。

[0066] 可以不实施剥离工序。不实施剥离工序的场合下，可以在涂敷工序前对基材22a的表面实施糙化处理。在接下来的涂敷工序中，可以在表面糙化的基材22a的表面上形成涂膜32a。结果是，从树脂层32b上剥离基材22a变得困难。不实施剥离工序的场合下，完成的偏光板具备有：基材22a，与基材重叠的树脂层32b，与树脂层32b重叠的偏振元件38，介由粘合剂层36贴合于偏振元件38上的保护膜34上。基材22a可以有保护偏振元件38的膜的功能。偏光板可以具有层叠于基材22a上的其它的光学层。

[0067] (第二实施方式)

[0068] 本发明的第二实施方式所涉及的偏光板的制造方法，除了以下记载的事项，其他与第一实施方式相同。第二实施方式，与第一实施方式相同，可以抑制与偏振元件38(光学膜)重叠的树脂层32b的损伤。以下省略对第一实施方式及第二实施方式共通的事项的说明。

[0069] 第二实施方式涉及的偏光板的制造方法，与第一实施方式相同，至少具备有涂敷工序与贴合工序以及固化工序。只是，第二实施方式的涂敷工序中，在一对基材各自的表面上形成涂膜。第二实施方式的贴合工序中，在一对基材之间配置膜状的偏振元件。然后介由涂膜将一对基材贴合在偏振元件的两面。第二实施方式的固化工序中，通过分别由一对基材各侧对涂膜照射活化能射线，形成夹持有偏振元件的一对树脂层。以下对各工序进行详细地说明。

[0070] 如图3及图4中的(a)所示，第二实施方式的涂敷工序中，使用涂敷设备1a，在膜状基材44a的表面上形成含活化能射线固化性树脂的涂膜54a，制作层叠体44b。第二实施方式的层叠体44b，可以与第一实施方式的第二层叠体22b相同。此外，涂敷工序中，使用涂敷设备1b，在膜状基材42a的表面上形成含活化能射线固化性树脂的涂膜52a，制作层叠体42b。第二实施方式的层叠体42b，可以与第一实施方式的第二层叠体22b相同。层叠体44b的涂膜
54a的组成，可以与层叠体42b的涂膜52a相同。层叠体44b的涂膜54a的组成可以与层叠体
42b的涂膜52a不同。层叠体44b的基材44a的组成，可以与层叠体42b的基材42a相同。层叠体
44b的基材44a的组成，可以与层叠体42b的基材42a不同。如上所述，因为涂膜52a形成在基材42a的表面上而不是偏振元件38的表面上，所以涂敷设备1b不直接与偏振元件38的表面相接触。此外，涂膜54a形成在基材44a的表面上而不是偏振元件38的表面上，所以涂敷设备
1a不直接与偏振元件38的表面相接触。因此，不会出现因与涂敷设备1a及1b的接触而引起的偏振元件38的两个表面的损伤。

[0071] 如图3所示，第二实施方式中，沿着方向d44移送层叠体44b，供给到一对贴合辊(辊7c及7d)之中。导向辊5d与层叠体44b具有的基材44a的表面相接触。此外，沿着方向d42移送层叠体42b，供给到辊7c及7d之间。导向辊5e与层叠体42b具有的基材42a的表面相接触。此外，膜状的偏振元件38供给到辊7c及7d之间。

[0072] 如图3以及图4中的(a)及(b)所示，第二实施方式的贴合工序中，偏振元件38夹持于一对层叠体44b及42b之间。层叠体44b的涂膜54a与偏振元件38的一个表面相对。层叠体42b的涂膜52a与偏振元件38的另一个表面相对。于是层叠体44b、偏振元件38及层叠体42b相重叠地夹持于一对辊7c及7d之间。结果是，如图4中的(b)所示，基材44a介由涂膜54a贴合在偏振元件38的一个表面，基材42a介由涂膜52a贴合在偏振元件38的另一个表面上。也就是贴合工序中得到了层叠体46a，其具有：基材42a、与基材42a重叠的涂膜52a、与涂膜52a重叠的偏振元件38、与偏振元件38重叠的涂膜54a、与涂膜54a重叠的基材44a。

[0073] 如图4所示，第二实施方式中，沿着方向d46移送层叠体46a至一对辊7c及7d之间。然后，固化工序中使用照射装置3a，由基材44a侧向涂膜54a间接地照射活化能射线L，使涂膜54a固化。也就是活化能射线L透过基材44a到达涂膜54a。同时使用照射装置3b，由基材
42a侧向涂膜52a间接地照射活化能射线L，使涂膜52a固化。也就是活化能射线L透过基材
42a到达涂膜52a。根据以上的固化工序，由涂膜52a形成树脂层52b，由涂膜54a形成树脂层
54b。

[0074] 如图3及图4中的(b)及(c)所示，第二实施方式中，可以在固化工序后实施剥离工序。剥离工序中，从层叠体46a的树脂层54b上剥离基材44a。剥离工序中，导向辊5f与层叠体46a具有的基材44a相接。此外，剥离工序中，从层叠体46a的树脂层52b剥离基材42a。剥离工序中，导向辊5g与层叠体46a具有的基材42a相接。将基材42a及44a上剥离的层叠体46b沿着方向d46移送。

[0075] 实施剥离工序时，偏光板不具备基材42a或44a。例如，经由剥离工序完成的偏光板至少具备：树脂层52b、与树脂层52b直接相重叠的偏振元件38、与偏振元件38直接相重叠的其他树脂层54b。偏光板可以具备层叠于树脂层52b或54b上其他的光学层。此外，只要后续工序中不是一定不需要基材42a或44a，可以不剥离基材42a或44a。通过基材42a保护树脂层52b，可以抑制树脂层52b的表面上的伤痕或凹凸的发生。通过基材44a保护树脂层54b，可以抑制树脂层54b的表面上的伤痕或凹凸的发生。

[0076] 实施剥离工序时，可以在涂敷工序中使用没有实施表面糙化处理的基材42a及44a。

[0077] 第二实施方式中，剥离工序中可以只剥离基材42a或44a的任一方。只剥离基材42a或44a的任一方时，涂敷工序中，作为没有剥离一侧的基材，可以使用没有实施表面糙化处理的基材。第二实施方式中，可以不实施剥离工序。不实施剥离工序时，涂敷工序中可以使用实施了表面糙化处理的基材。没有实施剥离工序而完成的偏光板的外表面上配置有基材42a及44a。该偏光板，可以具有层叠于基材42a或44a上的其他的光学层。

[0078] 以上对本发明的第一实施方式及第二实施方式进行了说明，但本发明不限定于上述实施方式。

[0079] 例如，形成了树脂层的光学膜，可以不是偏振元件，而是其他的光学层。例如，通过与偏振元件的表面上形成树脂层时同样的方法，可以在保护膜、反射型偏光膜、具有防眩功能的膜、具有表面防反射功能的膜、反射膜、半透过反射膜、视角补偿膜、触摸传感器层或液晶层等的光学层的表面上形成树脂层。

[0080] (实施例)

[0081] 以下，通过使用实施例及比较例对本发明的内容详细地说明，但本发明并不限定于以下的实施例。

[0082] [实施例1]

[0083] (1)底漆层形成工序

[0084] 将聚乙烯醇粉溶解于95℃的热水中，调制浓度为3重量％的聚乙烯醇水溶液。作为聚乙烯醇粉，使用日本合成化学工业(株)制的“Z-200”(平均聚合度1100，皂化度99.5摩尔％)。在聚乙烯醇水溶液中混合交联剂。相对于聚乙烯醇粉6重量份，调整交联剂的添加量至5重量份。作为交联剂，使用田冈化学工业(株)制的“SUMIREZ树脂650”。经过以上工序，得到底漆层形成用的涂敷液(涂敷液1)。

[0085] 作为基材膜，准备厚度90μm的未拉伸聚丙烯膜(融点：163℃)。对基材膜的单面实施电晕处理。在实施了电晕处理的基材膜的表面上，使用小径凹版涂敷机，涂敷涂敷液1。在80℃下对基材膜上所涂敷的涂敷液干燥10分钟，通过此，形成底漆层。底漆层的厚度为0.2μm。

[0086] (2)层叠膜的制作(树脂层形成工序)

[0087] 将聚乙烯醇粉溶解于95℃的热水中，调制浓度8重量％的聚乙烯醇水溶液。作为聚乙烯醇粉，使用(株)可乐丽制的“PVA124”(平均聚合度2400、皂化度98.0～99.0摩尔％)。将该聚乙烯醇水溶液作为聚乙烯醇系树脂层形成用的涂敷液(涂敷液2)使用。

[0088] 在基材膜上所形成的底漆层的表面上，使用唇板涂布机，涂敷涂敷液2。将底漆层的表面上所涂敷的涂敷液2在80℃下干燥20分钟，通过此，在底漆层上形成聚乙烯醇系树脂层。通过以上工序，得到基材膜、与基材膜重叠的底漆层、与底漆层重叠的聚乙烯醇系树脂层形成的层叠膜。

[0089] (3)拉伸膜的制作(拉伸工序)

[0090] 160℃下对层叠膜的自由端实施5.3倍的单轴拉伸，得到拉伸膜。层叠膜的拉伸，使用浮动式的竖式单轴拉伸装置。拉伸后的聚乙烯醇系树脂层的厚度为5.0μm。

[0091] (4)偏光性层叠膜的制作(染色工序)

[0092] 将拉伸膜在碘和碘化钾的水溶液(染色液)中浸渍约180秒钟，进行聚乙烯醇系树脂层的染色处理。染色液的温度调整为30℃。染色液中的碘的重量，调整为每100重量份水中0.6重量份。染色液中的碘化钾的重量，调整为每100重量份水中10重量份。染色处理后，使用10℃的纯水，冲刷聚乙烯醇系树脂层上余下的染色液。

[0093] 接着，第一交联处理中，将拉伸膜浸渍在含硼酸的水溶液(第一交联液)中120秒钟。第一交联液的温度调整为78℃。第一交联液中的硼酸的重量，调整为每100重量份水中9.5重量份。

[0094] 接着，第二交联处理中，将拉伸膜在含硼酸及碘化钾的水溶液(第二交联液)中浸渍60秒钟。调整第二交联液的温度为70℃。第二交联液中的硼酸的重量，调整为每100重量份水中9.5重量份。第二交联液中的碘化钾的重量，调整为每100重量份水中4重量份。

[0095] 第二交联处理后，将拉伸膜在10℃的纯水中洗浄10秒钟。在40℃下干燥洗浄后的拉伸膜300秒钟。

[0096] 通过以上工序，得到基材膜和、与基材膜重叠的膜状偏振元件形成的偏光性层叠膜。

[0097] (5)带保护膜的偏振元件的制作

[0098] 作为第一保护膜，准备三醋酸纤维素系树脂形成的膜。第一保护膜的厚度为25μm。偏光板配置在显示单元上时，第一保护膜配置于外侧(显示单元的相对侧)。

[0099] 第一保护膜的表面上实施电晕处理。在实施了电晕处理的第一保护膜的表面上，涂敷紫外线固化性粘合剂，形成第一粘合剂层。作为紫外线固化性粘合剂，使用(株)ADEKA制的“KR－70T”。紫外线固化性粘合剂的涂敷，使用小径凹版涂敷机。

[0100] 介由第一粘合剂层，将第一保护膜贴合在具有偏光性层叠膜的偏振元件的表面上。第一保护膜的贴合，使用一对贴合辊。

[0101] 接着，通过使用高压水银灯，从偏光性层叠膜侧向第一粘合剂层照射紫外线，使第一粘合剂层固化。固化后的第一粘合剂层的厚度为1.2μm。调整紫外线的累计光量为200mJ/cm2。

[0102] 通过以上工序，得到基材膜、与基材膜重叠的偏振元件、与偏振元件重叠的第一粘合剂层、介由第一粘合剂层贴合在偏振元件上的第一保护膜形成的层叠体。通过从该层叠体上剥离基材膜，得到偏振元件、与偏振元件重叠的第一粘合剂层、介由第一粘合剂层贴合在偏振元件上的第一保护膜形成的带保护膜的偏振元件。

[0103] (6)偏光板的制作

[0104] (涂敷工序)

[0105] 为了形成保护层，准备作为活化能射线固化性树脂(紫外线固化性树脂)的一种的环氧系树脂。偏光板配置于显示单元上时，保护层配置于显示单元侧。作为环氧树脂，使用(株)ADEKA制的“KR－25T”。作为转印基材，准备环状聚烯烃系树脂膜形成的膜。转印基材的厚度为20μm。使用小径凹版涂敷机，将环氧系树脂涂敷在基材的表面上，在基材的表面上形成环氧系树脂形成的涂膜。

[0106] (贴合工序)

[0107] 介由涂膜将转印基材贴合在构成带有保护膜的偏振元件的偏振元件的表面上。贴合中使用贴合辊。

[0108] (固化工序)

[0109] 使用高压水银灯由转印基材侧向涂膜照射紫外线(活化能射线)。通过紫外线的照射使涂膜固化，形成树脂层。照射在转印基材上的紫外线的累计光量调整为200mJ/cm2。紫外线的波长为300nm。转印基材中的紫外线的透过率，如下述表1所示。树脂层的厚度为3.5μm。

[0110] (剥离工序)

[0111] 固化工序后，将转印基材从树脂层剥离。

[0112] 通过以上工序，制作实施例1的偏光板，其具备有：树脂层、与树脂层重叠的偏振元件、第一粘合剂层、介由第一粘合剂层贴合在偏振元件上的第一保护膜。

[0113] [实施例1～3、比较例1]

[0114] 除使用下述表1所示的转印基材之外，通过与实施例1相同的方法，分别制作其他的实施例及比较例1中的偏光板。其他的实施例及比较例1各自所使用的转印基材中的紫外线的透过率如下述表1所示。

[0115] [比较例2]

[0116] 比较例2的涂敷工序中，使用小径凹版涂敷机，将环氧系树脂直接涂敷在构成带保护膜的偏振元件的偏振元件的表面上，形成涂膜。

[0117] 比较例2的固化工序中，对偏振元件的表面上形成的涂膜直接照射紫外线，在偏振元件的表面上形成树脂层。

[0118] 如上所述，除了不使用转印基材而形成树脂层以外，使用与实施例1相同的方法，制作比较例2的偏光板。

[0119] ＜树脂层的表面的观察＞

[0120] 切断实施例1的偏光板，制作样品。样品的尺寸为500mm×500mm。将样品配置于荧光灯下，使样品具有的树脂层的表面对准光。观察树脂层的表面上的光的反射像。观察的结果如下述表1所示。

[0121] 通过与实施例1相同的方法，观察其他的实施例及比较例各自的树脂层的表面。观察结果如下述表1所示。下述表1记载的A意味着没有发现树脂层的表面上有伤痕及凹凸。B意味着树脂层的表面上发现了凹凸。C意味着树脂层的表面上发现了伤痕。

[0122] 【表1】

[0123]

[0124] (产业上的可利用性)

[0125] 根据本发明，可以制造层叠光学膜，该层叠光学膜可以抑制光学膜表面及重叠于光学膜的树脂层表面的损伤。