制备滤光片的方法

摘要

本发明涉及一种制备滤光片的方法，包括步骤：(a)采用超声波清洗工艺清洗白玻璃；(b)采用镀膜设备对白玻璃进行预清洗；(c)在白玻璃的一个面上镀制红外截止膜层；(d)在白玻璃的另一个面上旋涂有机物形成旋涂层；(e)在旋涂层上镀制减反射膜层；其中，红外截止膜层的厚度为400‑680nm时，反射率＜2％。通过本方法制备的滤光片耐温性能更好，膜层致密性更好，旋涂层无黑点，结构更加稳定。

权利要求

1.一种制备滤光片的方法，包括如下步骤：（a）采用超声波清洗工艺清洗白玻璃；

（b）采用镀膜设备对白玻璃进行预清洗，增加白玻璃附着力；

（c）在白玻璃的一个面上镀制红外截止膜层；

（d）在白玻璃的另一个面上旋涂有机物形成旋涂层；

（e）在旋涂层上镀制减反射膜层；

其中，红外截止膜层的厚度为400-680nm时，反射率＜2%；

所述（c）步骤中，采用离子源辅助镀膜，离子源的参数设定为以下数值或数值范围，。

2.根据权利要求1所述的制备滤光片的方法，其特征在于，红外截止膜层的半波值为

705±5nm。

3.根据权利要求1所述的制备滤光片的方法，其特征在于，所述（d）步骤中，旋涂层的温度为100±20℃。

4.根据权利要求3所述的制备滤光片的方法，其特征在于，所述（e）步骤中，采用离子源辅助镀膜，离子源的参数设定在以下数值或数值范围，。

5.根据权利要求4所述的制备滤光片的方法，其特征在于，TI3O5材料的蒸发速率为2±

0.5埃/秒,SIO2的蒸发速率为6±2埃/秒。

说明书

制备滤光片的方法

技术领域

[0001] 本发明涉及一种制备滤光片的方法。

背景技术

[0002] 中国专利201610305348.0公开了一种混合吸收型红外截止滤光片及其制备方法。该混合吸收型红外截止滤光片包括玻璃基板，设置在玻璃基板上表面的涂覆胶层，设在涂
覆胶层之上的减反射膜层以及设置在玻璃基板下表面的红外截止膜层。该滤光片中的涂覆
胶层仅有一层，且在镀制过程中，是先涂覆胶层后镀制红外截止膜层和减反射膜层。制备这种混合吸收型红外截止滤光片的方法是对玻璃基板先进行超声波清洗，然后利用匀胶机进
行旋涂镀膜，再利用充氮气进行烘烤。利用这种制备方法制备的滤光片的结构不稳定，膜层之间的牢固度偏低，而且利用氮气进行烘烤使得作业难度高，成本也偏高。

[0003] 中国专利200510080527.0公开了一种滤光片镀膜方法。该滤光片的镀膜方法只是在白玻璃上通过特定的方法镀制IR膜(红外截止膜)，而没有镀制AR膜(减反射膜)，然后通
过检测、切割、超声波清洗和检验步骤完成滤光片的制备。通过这种方法制备的滤光片成像质量差，亮度低，同时耐温性和膜层致密度较差。

[0004] 目前随着移动通信的快速发展，手机市场也发展迅猛，作为手机摄像模组的主要部件——UV-IRcut滤色片需求也越来越多，为改善模组的成像品质，市场主流使用蓝玻璃
的滤色片，但因蓝玻璃的本身强度较低，厚度基本只能做到0.21mm左右。市场开发出一种旋涂有机物+光学玻璃(白玻璃)的方法来达到蓝玻璃相似的光学特性。且白玻璃的强度更优
于蓝玻璃，厚度也能做到0.11mm左右，在大角度更好的抑制成像时的偏色效果，因旋涂玻璃的材质是玻璃+有机物质，在耐温度以及基底的致密度需重点改善，基于以上的缺陷，旋涂玻璃的镀膜工艺需重新设计来适应市场需求。

发明内容

[0005] 本发明的目的在于提供一种制备滤光片的方法，通过该方法制备耐温性能更好，膜层致密性更好，旋涂层无黑点，结构更加稳定的滤光片。

[0006] 为实现上述目的，本发明提供一种制备滤光片的方法，包括如下步骤：

[0007] (a)采用超声波清洗工艺清洗白玻璃；

[0008] (b)采用镀膜设备对白玻璃进行预清洗；

[0009] (c)在白玻璃的一个面上镀制红外截止膜层；

[0010] (d)在白玻璃的另一个面上旋涂有机物形成旋涂层；

[0011] (e)在旋涂层上镀制减反射膜层；

[0012] 其中，红外截止膜层的厚度为400-680nm时，反射率＜2％。

[0013] 根据本发明的一个方面，红外截止膜层的半波值为705±5nm。

[0014] 根据本发明的一个方面，所述(c)步骤中，采用离子源辅助镀膜，离子源的参数设定为以下数值或数值范围，

[0015]

[0016] 根据本发明的一个方面，所述(d)步骤中，旋涂层的温度为100±20℃。

[0017] 根据本发明的一个方面，所述(e)步骤中，采用离子源辅助镀膜，离子源的参数设定在以下数值或数值范围，

[0018]

[0019]

[0020] 根据本发明的一个方面，TI3O5材料的蒸发速率为2±0.5埃/秒,SIO2的蒸发速率为6±2埃/秒。

[0021] 根据本发明的制备滤光片的方法，在镀膜之前，利用镀膜设备对白玻璃进行预清洗，这样可以进一步地去除细微的脏污，增加红外截止膜与白玻璃基板的附着力。

[0022] 根据本发明的制备滤光片的方法，能够使得滤光片的角度依存性更佳，同时增加了大角度视角时白玻璃的通光量。

[0023] 根据本发明的制备滤光片的方法，镀制旋涂层的温度为100±20℃，同时控制此温度至镀制减反射膜层完成。这样可以保证膜层之间的牢固度，同时保证旋涂的有机物不会
被高温分解，使得滤光片的性能稳定，结构稳定。

[0024] 根据本发明的制备滤光片的方法，固体TI3O5以及固体SIO2在高真空状态下，经过高温蒸发，分子均匀的沉积在基板表面，因采用离子源辅助镀膜，所以分子排列更加紧密，膜层致密度增加，光学稳定性更佳，这样再将红外截止膜层和减反射膜层镀制在相应的沉
积有TI3O5和SIO2的膜层上，这样有效地增强膜层之间的致密度，使得光学稳定性更好，使得折射率稳定且均匀。

[0025] 根据本发明的制备滤光片的方法，有效地杜绝了旋涂基底受温度以及离子源轰击而分解有机物质，同时增强片源基底的致密度，解决了旋涂液表面产生黑点的技术问题。

附图说明

[0026] 图1是示意性表示根据本发明的制备滤光片的方法流程图。

具体实施方式

[0027] 为了更清楚地说明本发明实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些
实施方式，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

[0028] 在针对本发明的实施方式进行描述时，术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”所表达的方位或位置关系是基于相关附图所示的方位或位置关系，其仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此上述术语不能
理解为对本发明的限制。

[0029] 下面结合附图和具体实施方式对本发明作详细地描述，实施方式不能在此一一赘述，但本发明的实施方式并不因此限定于以下实施方式。

[0030] 根据本发明的制备滤光片的方法包括以下几个环节：

[0031] 超声波清洗基片→镀膜前镀膜设备对基片预清洗→在基片的一个面上镀制红外截止膜层→在基片的另一个面上旋涂有机物→在有机物旋涂层上镀制减反射膜层

[0032] 其中，在本发明中，基片采用白玻璃。

[0033] 根据本发明，制备滤光片的方法，包括以下步骤：

[0034] (a)采用超声波清洗工艺清洗白玻璃。在本步骤中清洗掉白玻璃的待镀制膜层面上的污物以及有机物料等污物，保证白玻璃的表面洁净度良好，有利于提高镀制膜层的质
量。

[0035] (b)在镀膜之前，利用镀膜设备对白玻璃进行预清洗。在本步骤中是对前步超声波清洗的巩固清洁，进一步地去除细微的脏污，增加红外截止膜与白玻璃基板的附着力。

[0036] (c)在白玻璃基板的一个表面上镀制红外截止膜层。在本步骤中，镀制红外截止膜层时使用正常离子源辅助镀膜。在镀制红外截止膜层时，需要控制红外截止膜层的反射率，在本实施方式中，当红外截止膜层的厚度为400-680nm时，反射率需要小于2％。同时，红外截止膜的半波值需要控制在705±5nm范围内。

[0037] 在本实施方式中，需要采用正常离子源辅助镀制红外截止膜层，而正常的离子源参数如下表1中的数值或者数值范围，

[0038]

[0039]

[0040] 表1

[0041] 根据本发明的上述实施方式，能够使得滤光片的角度依存性更佳，同时增加了大角度视角时滤色片的通光量与光源垂直入射时通光量相似。在本发明中，加速电压为直流
电压。

[0042] (d)在白玻璃的另一个表面上旋涂有机物形成旋涂层。在本步骤中，镀制旋涂层的温度为100±20℃，同时控制此温度至镀制减反射膜层完成。这样可以保证膜层之间的牢固
度，同时保证旋涂的有机物不会被高温分解，使得滤光片的性能稳定，结构稳定。

[0043] (e)在旋涂层上镀制减反射膜层。在本步骤中，因为上述的镀膜温度较低，所以在旋涂层上镀制减反射膜层需要采用离子源辅助镀膜。这样处理可以有效地增加膜层之间的
牢固度。而在镀制减反射膜层时，需要选择适中的电流值和电压值，同时需要降低氧气和氩气的流量，达到降低离子源功率的效果。

[0044] 此外，更需注意的是，使用了上述离子源辅助镀膜时，还需要配以适当的相关材料的蒸发速率。在本实施方式中，需要降低TI3O5材料的蒸发速率，以配合离子源的氧气流量，防止因材料失氧而产生吸收。在本实施方式中，具体离子源的工艺参数如下表2中的数值或者数值范围，

[0045]

[0046] 在本实施方式中，TI3O5材料的蒸发速率为2±0.5埃/秒,SIO2的蒸发速率为6±2埃/秒。

[0047] 在本发明的上述实施方式中，固体TI3O5以及固体SIO2在高真空状态下，经过高温蒸发，分子均匀的沉积在基板表面，因采用离子源辅助镀膜，所以分子排列更加紧密，膜层致密度增加，光学稳定性更佳，这样再将红外截止膜层和减反射膜层镀制在相应的沉积有
TI3O5和SIO2的膜层上，这样有效地增强膜层之间的致密度，使得光学稳定性更好，使得折射率稳定且均匀。

[0048] 根据本发明的上述实施方式，本发明有效地杜绝了旋涂基底受温度以及离子源轰击而分解有机物质，同时增强片源基底的致密度，解决了旋涂液表面产生黑点的技术问题。

[0049] 上述内容仅为本发明的具体实施方式的例举，对于其中未详尽描述的设备和结构，应当理解为采取本领域已有的通用设备及通用方法来予以实施。

[0050] 以上所述仅为本发明的一个实施方式而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。