一种垂直取向强磁性介质薄膜及其制备方法转让专利
申请号 : CN201710266362.9
文献号 : CN107134341A
文献日 : 2017-09-05
发明人 : 崔伟斌 , 王强 , 张同博 , 钟辉 , 周小倩 , 付艳请 , 于德东
摘要 :
本发明涉及一种强磁性介质薄膜,具体涉及一种垂直取向强磁性介质薄膜及其制备方法。本发明的技术方案如下:一种垂直取向强磁性介质薄膜,包括依次层叠的衬底、缓冲层、垂直取向强磁性介质层和保护层,所述衬底为单晶、多晶或非晶基片,所述缓冲层材质为具有六方晶体结构的无机非金属氮化物陶瓷,所述垂直取向强磁性介质层为钐钴薄膜、铝镍钴薄膜、鉄铂薄膜、铁钯薄膜、钴铂薄膜和/或钴钯薄膜,所述保护层为过渡金属、氮化物膜体材料或氧化物膜体材料。本发明提供的垂直取向强磁性介质薄膜及其制备方法,具有体积小、垂直磁化方向、作为存储单元的晶粒尺寸小、矫顽力大、稳定性高等优点,制备工艺简单,应用领域更广。