一种纳米尖浸润聚焦的电射流打印方法转让专利

申请号 : CN201710477680.X

文献号 : CN107234804B

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发明人 : 梁军生杨金鹤方旭张小辉王大志马艳艳王金鹏王立鼎

摘要 :

本发明一种纳米尖浸润聚焦的电射流打印方法属于先进制造技术领域,涉及一种纳米尖浸润聚焦的电射流打印方法。该方法中利用纳米尖表面毛细结构浸润聚焦,将阿升级液滴精确输送至聚焦射流点,从而将电射流打印分辨率由微米尺度提升至纳米尺度。方法首先制备并安装打印装置,然后通过给墨系统将墨水输送到纳米尖所在的容墨腔,墨水在纳米尖毛细浸润作用下形成聚焦液锥。接着施加浸润电压,聚焦液锥在电浸润作用下进一步锐化;最后施加脉冲电压,将纳米液滴发射至接收板上。该方法具有打印分辨率高,控制精度好,材料适应性广等特点,可用于3D纳米结构的精细打印制造。实现高精度、低成本、柔性化的电射流纳米打印制造。