带电粒子束治疗装置转让专利

申请号 : CN201680018018.1

文献号 : CN107427694B

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相似专利:

发明人 : 熊田幸生井上淳一

申请人 : 住友重机械工业株式会社

摘要 :

本发明提供一种带电粒子束治疗装置。第1剂量测定部(31)设置于照射喷嘴(12)内并能够测定带电粒子束的第1剂量,第2剂量测定部(33)设置于射束传输线路(13)并能够测定带电粒子束的第2剂量。并且,第2剂量测定部(33)的响应频率比第1剂量测定部(31)的响应频率高。第1剂量测定部(31)能够测定即将照射到被照射体(P)时的带电粒子束的剂量。另一方面,第2剂量测定部(33)能够以高于第1剂量测定部(31)的响应频率测定射束传输线路(13)中的带电粒子束的剂量。由此,即使在以高速进行扫描照射的情况下,也能够通过第2剂量测定部(33)测定带电粒子束的剂量。

权利要求 :

1.一种带电粒子束治疗装置,其具备:加速器,将带电粒子加速并射出带电粒子束;

照射部,对被照射体照射所述带电粒子束;

射束传输线路,将从所述加速器射出的所述带电粒子束传输至所述照射部;

第1剂量测定部,设置于所述照射部内并测定所述带电粒子束的第1剂量;

第2剂量测定部,设置于所述射束传输线路并测定所述带电粒子束的第2剂量;及控制部,根据由所述第1剂量测定部及所述第2剂量测定部的测定结果生成的合成信号,控制照射到所述被照射体的所述带电粒子束的剂量,所述第1剂量测定部及所述第2剂量测定部具备:一对电极,在填充有气体的空间内相对置;及测定部,测定在所述一对电极间产生的电流,所述第1剂量测定部中的所述一对电极间的距离比所述第2剂量测定部中的所述一对电极间的距离小,所述第2剂量测定部的响应频率比所述第1剂量测定部的响应频率高。

2.根据权利要求1所述的带电粒子束治疗装置,所述控制部具备:

低通滤波器,将利用所述第1剂量测定部测定的数据中与高于预先设定的设定频率的频率相关的数据截止;

高通滤波器,将利用所述第2剂量测定部测定的数据中与低于预先设定的设定频率的频率相关的数据截止;及离子源控制部,根据将从所述低通滤波器输出的信号和从所述高通滤波器输出的信号相加而得到的所述合成信号控制向所述加速器供给离子的离子源的动作。

3.根据权利要求1或2所述的带电粒子束治疗装置,其还具备:能量调整部,设置于所述射束传输线路并调整所述带电粒子束的能量,所述第2剂量测定部比所述能量调整部更靠上游侧设置。

说明书 :

带电粒子束治疗装置

技术领域

[0001] 本发明涉及一种带电粒子束治疗装置。

背景技术

[0002] 以往,作为通过向被照射体照射带电粒子束来进行治疗的带电粒子束治疗装置,已知有例如专利文献1中记载的带电粒子束治疗装置。专利文献1中记载的带电粒子束治疗装置对针对被照射体设定的一个层,一边按照规定的扫描图案扫描带电粒子束一边进行照射。带电粒子束治疗装置若结束对一个层的带电粒子束的照射,则变更带电粒子束的能量,对于下一个层,一边按照针对该下一个层设定的扫描图案扫描带电粒子束一边进行照射。
[0003] 以往技术文献
[0004] 专利文献
[0005] 专利文献1:国际公开WO2012/120677号说明书

发明内容

[0006] 发明要解决的技术课题
[0007] 因此,近年来要求一边以高速扫描带电粒子束一边进行扫描照射,由此向被照射体照射带电粒子束。如此,为了一边以高速扫描带电粒子束一边进行扫描照射,需要以高响应速度测定带电粒子束的剂量(强度)。在此,引用文献1中记载的带电粒子束治疗装置中,在对被照射体照射带电粒子束的照射部设置有剂量测定部。然而,这种剂量测定部存在难以以高响应速度测定剂量的问题。
[0008] 本发明是为了解决这种课题而完成的,其目的在于提供一种能够以高响应速度测定带电粒子束的剂量的带电粒子束治疗装置。
[0009] 用于解决技术课题的手段
[0010] 本发明的一个方面所涉及的带电粒子束治疗装置具备:加速器,将带电粒子加速并射出带电粒子束;照射部,对被照射体照射带电粒子束;射束传输线路,将从加速器射出的带电粒子束传输至照射部;第1剂量测定部,设置于照射部内并测定带电粒子束的第1剂量;及第2剂量测定部,设置于射束传输线路并测定带电粒子束的第2剂量,第2剂量测定部的响应频率比第1剂量测定部的响应频率高。
[0011] 根据本发明的一个方面所涉及的带电粒子束治疗装置,第1剂量测定部设置于照射部内并能够测定带电粒子束的第1剂量。第2剂量测定部设置于射束传输线路并能够测定带电粒子束的第2剂量。并且,第2剂量测定部的响应速度(响应频率)比第1剂量测定部的响应速度(响应频率)高。第1剂量测定部能够测定即将照射到被照射体时的带电粒子束的剂量。另一方面,第2剂量测定部能够以高于第1剂量测定部的响应速度(响应频率)测定射束传输线路中的带电粒子束的剂量。由此,即使在一边以高速扫描带电粒子束一边进行扫描照射的情况下,也能够通过第2剂量测定部以高响应速度测定带电粒子束的剂量。通过以上特征,能够一边以高速扫描带电粒子束一边进行扫描照射,并且还能够以高响应速度测定带电粒子束的剂量。
[0012] 并且,本发明的另一个方面所涉及的带电粒子束治疗装置中可以如下:第1剂量测定部及第2剂量测定部具备:一对电极,在填充有气体的空间内相对置;及测定部,测定在一对电极间产生的电流,第1剂量测定部中的一对电极间的距离比第2剂量测定部中的一对电极间的距离小。由此,仅以缩小一对电极间的距离这一简单的结构便能够提高第2剂量测定部的响应频率。
[0013] 并且,本发明的另一个方面的带电粒子束治疗装置可以进一步具备:低通滤波器,截止利用第1剂量测定部测定的数据中与高于预先设定的设定频率的频率相关的数据;高通滤波器,截止利用第2剂量测定部测定的数据中与低于预先设定的设定频率的频率相关的数据;及离子源控制部,根据将从低通滤波器输出的信号和从高通滤波器输出的信号相加而得的合成信号控制向加速器供给离子的离子源的动作。由此,关于响应速度(响应频率)低的第1剂量测定部,能够使用低通滤波器来提高频率低的区域(响应速度低的区域)中的测定精度。关于响应速度(响应频率)高的第2剂量测定部,能够使用高通滤波器来提高频率高的区域(响应速度高的区域)中的测定精度。离子源控制部,根据将从低通滤波器输出的信号和从高通滤波器输出的信号相加而得到的合成信号控制离子源的动作。因此,能够在自带电粒子束的频率高的区域至低的区域为止的宽带域根据测定精度高的测定结果控制离子源。
[0014] 并且,本发明的另一个方面所涉及的带电粒子束治疗装置中可以如下:进一步具备能量调整部,设置于射束传输线路并调整带电粒子束的能量,第2剂量测定部比能量调整部更靠上游侧设置。由此,第2剂量测定部能够测定被能量调整部调整之前的高能量的状态下的带电粒子束的剂量。因此,能够提高第2剂量测定部的测定精度。
[0015] 发明效果
[0016] 根据本发明能够以高响应速度测定带电粒子束的剂量。

附图说明

[0017] 图1为表示本发明所涉及的带电粒子束照射装置的一实施方式的概略结构图。
[0018] 图2为表示本实施方式所涉及的带电粒子束治疗装置的主要部分的概略结构图。
[0019] 图3为剂量测定部的概略结构图。
[0020] 图4为表示虚拟分切被照射体的情况的示意图。
[0021] 图5为表示变形例所涉及的带电粒子束照射装置的概略结构图。

具体实施方式

[0022] 以下,参考附图对本发明的实施方式进行详细说明。另外,“上游”、“下游”分别表示所射出的带电粒子束的上游(加速器侧)、下游(患者侧)。
[0023] 如图1所示,带电粒子束治疗装置1为在通过放射线疗法进行癌症治疗等中使用的装置。带电粒子束治疗装置1具备:加速器11,将带电粒子加速并射出带电粒子束;照射喷嘴12(照射部),对被照射体照射带电粒子束;射束传输线路13(传输线路),将从加速器11射出的带电粒子束传输至照射喷嘴12;第2剂量测定部33,设置于射束传输线路13并测定带电粒子束的剂量;降能器(能量调整部)18,设置于射束传输线路13并降低带电粒子束的能量而调整带电粒子束的射程;多个电磁铁25,设置于射束传输线路13;电磁铁电源27,与多个电磁铁25分别对应而设置;及控制部30,控制带电粒子束治疗装置1整体。本实施方式中,作为加速器11采用回旋加速器,但并不限定于此,可以是产生带电粒子束的其他产生源,例如同步加速器(详细内容利用图5进行后述)、同步回旋加速器、线性加速器等。
[0024] 带电粒子束治疗装置1对于治疗台22上的患者P的肿瘤(被照射体)进行从加速器11射出的带电粒子束的照射。带电粒子束为将带电的粒子高速加速而成的粒子束,例如有质子束、重粒子(重离子)束等。本实施方式所涉及的带电粒子束治疗装置1为通过所谓扫描法进行带电粒子束的照射的装置,将被照射体沿深度方向虚拟分割(分切),就每个分切平面(层),对层上的照射范围进行带电粒子束的照射。
[0025] 另外,作为利用扫描法进行的照射方式,例如有点式扫描照射及光栅式扫描照射。点式扫描照射为在一个层中的照射范围内,若结束对一个点的照射,则停止一次射束(带电粒子束)的照射,待结束对下一点的照射准备之后对下一点进行照射的方式。相对于此,光栅式扫描照射为对于一个层中的照射范围,中途不停止照射而连续进行射束照射的方式。
如此,光栅式扫描照射为对一个层中的照射范围连续进行射束照射的方式。因此,光栅式扫描照射不同于点式扫描照射,照射范围不是由多个点构成。以下,以通过光栅式扫描照射进行照射为例进行说明,但并不限定于此,也可以是通过点式扫描照射进行照射的结构。
[0026] 照射喷嘴12安装于能够绕治疗台22旋转360度的旋转台架23的内侧,且能够通过旋转台架23移动到任意的旋转位置。照射喷嘴12包括聚焦电磁铁19、扫描电磁铁21、第1剂量测定部31及真空导管28。扫描电磁铁21设置于照射喷嘴12中。扫描电磁铁21具有:X方向扫描电磁铁,在与带电粒子束的照射方向交叉的面向X方向扫描带电粒子束;及Y方向扫描电磁铁,与在带电粒子束的照射方向交叉的面向与X方向交叉的Y方向扫描带电粒子束。并且,通过扫描电磁铁21扫描的带电粒子束向X方向和/或Y方向偏转,因此比扫描电磁铁更靠下游侧的真空导管28的直径越往下游侧越大。第1剂量测定部31测定照射前的带电粒子束的剂量(详细内容进行后述)。
[0027] 射束传输线路13具有使带电粒子束通过的真空导管14。真空导管14的内部维持真空状态,并抑制构成传输中的带电粒子束的带电粒子被空气等散射。
[0028] 并且,射束传输线路13具有:ESS(能源选择系统(Energy Selection System))15,从由加速器11射出的具有规定能量宽度的带电粒子束中选择性地取出比规定能量宽度窄的能量宽度的带电粒子束;BTS(射束传输系统(Beam Transport System))16,将具有通过ESS15选择的能量宽度的带电粒子束在维持能量的状态下传输;及GTS(台架传输系统(Gantry Transport System))17,从BTS16朝向旋转台架23传输带电粒子束。
[0029] 降能器18降低所通过的带电粒子束的能量来调整该带电粒子束的射程。从患者体表至被照射体即肿瘤为止的深度根据每一患者而不同,因此对患者照射带电粒子束时,需要调整带电粒子束的到达深度即射程。降能器18以通过调整从加速器11以恒定的能量射出的带电粒子束的能量而使带电粒子束适当地到达位于患者体内的规定深度的被照射体的方式调整。通过这种降能器18进行的带电粒子束的能量调整按将被照射体虚拟分切的层逐一进行。例如如图4所示,被照射体G被虚拟分切成多个层L。若一个层L中带电粒子束的扫描结束(描绘扫描线路SL),则在与该层相邻的其他层L进行带电粒子束的扫描。
[0030] 电磁铁25在射束传输线路13设置有多个,以能够通过磁场在射束传输线路13传输带电粒子束的方式进行该带电粒子束的调整。作为电磁铁25,采用使传输中的带电粒子束的射束直径聚焦的聚焦电磁铁19及使带电粒子束偏转的偏转电磁铁20。另外,以下有时不区分聚焦电磁铁19及偏转电磁铁20而记为电磁铁25。并且,电磁铁25至少在射束传输线路13中比降能器18更靠下游侧设置有多个。但是,本实施方式中,电磁铁25还在比降能器18更靠上游侧设置。在此,作为电磁铁25,聚焦电磁铁19为了使通过降能器18调整能量前的带电粒子束的射束直径聚焦,还设置于降能器18的上游侧。电磁铁25的总数能够根据射束传输线路13的长度等而灵活变更,例如可以是10~40左右的数量。另外,图1中仅记载有一部分电磁铁电源27,但实际设置有与电磁铁25相同数量的电磁铁电源。
[0031] 降能器18及电磁铁25在射束传输线路13中的位置没有特别限定。本实施方式中,在ESS15设置有降能器18、聚焦电磁铁19及偏转电磁铁20。并且,在BTS16设置有聚焦电磁铁19,在GTS17设置有聚焦电磁铁19及偏转电磁铁20。另外,降能器18如上所述设置于加速器
11与旋转台架23之间即ESS15中。更详细而言,降能器18设置在ESS15中比旋转台架23更靠加速器11侧(上游侧)。
[0032] 电磁铁电源27通过向相对应的电磁铁25供给电流来产生电磁铁25的磁场。电磁铁电源27能够通过调整供给至相对应的电磁铁25的电流来设定相对应的电磁铁25的磁场的强度。电磁铁电源27根据来自控制部30的信号调整供给至电磁铁25的电流。电磁铁电源27以与各电磁铁25分别一一对应的方式设置。即,设置有与电磁铁25相等数量的电磁铁电源27。并且,电磁铁电源27具有存储与各层相对应的电磁铁25的参数的存储部27a。
[0033] 被照射体的各层的深度与供给至电磁铁25的电流之间的关系如下。即,根据各层的深度,确定用于向各层照射带电粒子束所需的带电粒子束的能量,并确定通过降能器18进行的能量调整量。在此,若带电粒子束的能量发生变化,则用于将该带电粒子束偏转/聚焦所需的磁场的强度也随之发生变化。因此,以电磁铁25的磁场的强度成为与通过降能器18进行的能量调整量相应的强度的方式确定供给至电磁铁25的电流。
[0034] 接着,参考图2对本实施方式所涉及的带电粒子束治疗装置1的主要部分进行说明。图2中示出带电粒子束治疗装置1中的加速器11、第1剂量测定部31、第2剂量测定部33、射束传输线路13及控制部30。另外,图2中,ESS15、BTS16、GTS17被合成一个框来示出。并且,图2中示出向加速器11供给离子的离子源32。
[0035] 在此,参考图3对第1剂量测定部31及第2剂量测定部33的结构进行详细说明。剂量测定部31、33由电离箱构成。具体而言,剂量测定部31、33具备:一对电极42、43,在填充有气体(空气、氮等)的箱体41的空间内相对置;及测定部44,测定在一对电极42、43间产生的电流。
[0036] 电极42、43例如由铜等金属薄板构成,相对置的面被膜42a、43a覆盖。电极42、43间连接有电源,并施加有高压的电场。通过这种结构,若带电粒子束在剂量测定部31、33内通过,则带电粒子束与气体的分子碰撞而使气体电离。由于在电极42、43间施加有电场,因此,电离后的电子e-聚集于其中一个电极43,离子i+聚集于高压的电极42。电离出的电子e-、离子i+的数量与所通过的带电粒子束的剂量成比例。因此,带电粒子束的剂量通过利用测定部44测定的电流值而测定。
[0037] 第2剂量测定部33中的一对电极42、43间的距离(图3中用L1表示的距离)小于第1剂量测定部31中的一对电极42、43间的距离(图3中用L2表示的距离)。第1剂量测定部31与第2剂量测定部33相比,一对电极42、43间的距离小,且能够在短时间内聚集电子。因此,第2剂量测定部33的响应速度(响应频率)比第1剂量测定部31的响应速度(响应频率)高。第1剂量测定部31中的一对电极42、43间的距离被设定为5~8μm,响应频率为1kHz以下(或比其小)。第2剂量测定部33中的一对电极42、43间的距离被设定为4μm以下,响应频率为1kHz以上(或比其小)。另外,“响应频率”表示能够检测单位时间内的剂量的次数。
[0038] 回到图2,控制部30具有进行带电粒子束治疗装置1整体的控制的功能。控制部30根据第1剂量测定部31及第2剂量测定部33的测定结果控制从照射喷嘴12照射到被照射体的带电粒子束的剂量(强度)。本实施方式中,控制部30具备低通滤波器34、高通滤波器35及离子源控制部36。
[0039] 具体而言,低通滤波器34与第1剂量测定部31电连接。低通滤波器34截止利用第1剂量测定部31测定的数据中与高于预先设定的设定频率的频率相关的数据。并且,通过低通滤波器34的信号被输出至离子源控制部36。另外,低通滤波器34的设定频率可以设定为1kHz以下(或比其小)。
[0040] 高通滤波器35与第2剂量测定部33电连接。高通滤波器35截止利用第2剂量测定部33测定的数据中与低于预先设定的设定频率的频率相关的数据。并且,通过高通滤波器35的信号被输出至离子源控制部36。另外,高通滤波器35的设定频率可以设定为1kHz以上(或比其小)。
[0041] 离子源控制部36与低通滤波器34、高通滤波器35及离子源32电连接。离子源控制部36生成将从低通滤波器34输出的信号和从高通滤波器35输出的信号相加而得的合成信号。并且,离子源控制部36根据所生成的合成信号控制离子源32的动作(反馈控制)。例如,离子源控制部36根据合成信号判定带电粒子束的剂量是否在遵循治疗计划。离子源控制部36在判定为带电粒子束的剂量不足的情况下,增加来自离子源32的离子供给量,在判定为带电粒子束的剂量过剩的情况下,减少来自离子源32的离子供给量。
[0042] 接着,对本实施方式所涉及的带电粒子束治疗装置1的作用效果进行说明。
[0043] 在此,以往的带电粒子束治疗装置中,配合患者的呼吸等引起的被照射体的动作来控制带电粒子束的照射。例如通过X射线CT或激光测定器等来检测患者或被照射体的动作,并根据所检测的动作(移动量)调整照射带电粒子束的位置。调整照射带电粒子束的位置时,调整用于扫描带电粒子束的扫描电磁铁的励磁量。伴随呼吸动作等的被照射体的动作随着时间而变化,因此很难准确地调整带电粒子束的照射位置。因此,在如上所述与患者的呼吸同步控制带电粒子束的情况下,存在导致控制变得复杂的问题。另一方面,不进行将照射时机与呼吸同步化的控制的情况下,考虑在患者屏住呼吸期间照射带电粒子束。然而,扫描照射耗费时间的情况下,有时患者不得不频繁屏住呼吸,而加大对患者的负担。因此,要求减少利用带电粒子束治疗装置进行治疗的期间对患者的负担。为了减少这种对患者的负担,要求扫描照射的高速化。伴随于此,要求以高响应速度测定带电粒子束的剂量。
[0044] 因此,根据本实施方式所涉及的带电粒子束治疗装置1,第1剂量测定部31设置于照射喷嘴12内并能够测定带电粒子束的第1剂量,第2剂量测定部33设置于射束传输线路13并能够测定带电粒子束的第2剂量。并且,第2剂量测定部33的响应速度(响应频率)比第1剂量测定部31的响应速度(响应频率)高。第1剂量测定部31能够测定即将照射到被照射体P时的带电粒子束的剂量。另一方面,第2剂量测定部33能够以高于第1剂量测定部31的响应速度(响应频率)测定射束传输线路13中的带电粒子束的剂量。由此,即使在一边以高速扫描带电粒子束一边进行扫描照射的情况下,也能够通过第2剂量测定部33以高响应速度测定带电粒子束的剂量。通过以上特征,能够一边以高速扫描带电粒子束一边进行扫描照射,并且还能够以高响应速度测定带电粒子束的剂量。
[0045] 并且,作为第1剂量测定部31,沿用在以往的带电粒子束治疗装置中使用的现有的剂量监控器,且能够在此追加第2剂量测定部33。并且,通过由低频用的第1剂量测定部31和高频用的第2剂量测定部33分担,能够沿用现有的设备,并且还能够应对高速的扫描照射。
[0046] 并且,本实施方式所涉及的带电粒子束治疗装置1中,第1剂量测定部31及第2剂量测定部33具备:一对电极42、43,在填充有气体的空间内相对置;及测定部44,测定在一对电极42、43间产生的电流。第1剂量测定部31中的一对电极42、43间的距离比第2剂量测定部33中的一对电极42、43间的距离小。由此,仅以缩小一对电极42、43间的距离这一简单的结构便能够提高第2剂量测定部33的响应频率。
[0047] 并且,本实施方式所涉及的带电粒子束治疗装置1还具备:低通滤波器34,截止利用第1剂量测定部31测定的数据中与高于预先设定的设定频率的频率相关的数据;高通滤波器35,截止利用第2剂量测定部33测定的数据中与低于预先设定的设定频率的频率相关的数据;及离子源控制部36,根据将从低通滤波器34输出的信号和从高通滤波器35输出的信号相加而得的合成信号控制向加速器11供给离子的离子源32的动作。由此,关于响应速度(响应频率)低的第1剂量测定部31,能够使用低通滤波器34来提高频率低的区域(响应速度低的区域)中的测定精度,关于响应速度(响应频率)高的第2剂量测定部33,能够使用高通滤波器35来提高频率高的区域(响应速度高的区域)中的测定精度。离子源控制部36根据将从低通滤波器34输出的信号和从高通滤波器35输出的信号相加而得的合成信号控制离子源32的动作,因此能够在带电粒子束的频率高的区域至低的区域为止的宽带域根据测定精度高的测定结果控制离子源32。
[0048] 并且,通过新设响应速度快的第2剂量测定部33,能够以高响应速度测定剂量。然而,响应速度高的第2剂量测定部33中,频率低的区域(响应速度低的区域)中的测定精度较低,因此有可能导致剂量的测定精度下降。因此,使第2剂量测定部33中的测定结果通过高通滤波器35来截止低频率区域中的信号。并且,使第1剂量测定部31中的测定结果通过低通滤波器34来截止高频率区域中的信号,并将两者相加。即,由第1剂量测定部31侧进行第2剂量测定部33中的弱点即低频率区域的检测,由此不会降低精度而能够以高响应速度检测剂量。
[0049] 并且,本实施方式所涉及的带电粒子束治疗装置1还具备设置于射束传输线路13并调整带电粒子束的能量的降能器18。第2剂量测定部33比降能器18更靠上游侧设置。由此,第2剂量测定部33能够测定被降能器18调整之前的高能量的状态下的带电粒子束的剂量。因此,能够提高第2剂量测定部33的测定精度。
[0050] 本发明并不限定于上述实施方式。
[0051] 例如,本实施方式中,第2剂量测定部33比设置于射束传输线路13的电磁铁中最靠上游侧设置的电磁铁更靠上游侧设置。取而代之,例如也可以如图1中“33A”所示的位置那样在比最上游侧的电磁铁更靠下游侧的位置配置。并且,例如也可以如图1中“33B”所示的位置那样在比降能器18更靠下游侧的位置配置第2剂量测定部33。
[0052] 并且,上述实施方式中,作为第2剂量测定部33与第1剂量测定部31相同地应用电离箱,但只要能够测定剂量,则可以采用基于任何方式的测定器。并且,第1剂量测定部31也可以采用基于电离箱以外的方式的测定器。
[0053] 并且,上述实施方式中,对第1剂量测定部31设置低通滤波器34,并对第2剂量测定部33设置了高通滤波器35。取而代之,也可以省略任意一个滤波器或两个滤波器。
[0054] 并且,上述实施方式中,示出基于光栅式扫描照射的例子,但也可以进行点式扫描照射。但是,为点式扫描照射时,照射某一点时,在该点使射束停留规定时间并进行照射。只要仅能够检测照射到该点时的剂量的累积值即可,即使在高速照射的情况下,有时剂量检测的响应速度也可以不用高至一定速度以上。相对于此,为光栅式扫描照射时,始终一边扫描射束一边进行照射,因此需要检测常時剂量。因此,进行高速的扫描照射的情况下,需要以高速检测剂量,而使用本发明的优点变大。
[0055] 并且,如图5所示,作为加速器11,可以代替回旋加速器而采用同步加速器。在同步加速器103的上游设置有离子源101和直线加速器即线性加速器102。回旋加速器所射出的带电粒子束的能量恒定,相比之下,同步加速器能够变更所射出的带电粒子束的能量。因此,如图5所示,作为加速器11采用同步加速器的情况下,能够从带电粒子束治疗装置省略用于降低带电粒子束的能量而进行调整的降能器18。
[0056] 符号说明
[0057] 1-带电粒子束治疗装置,11-加速器,12-照射喷嘴(照射部),13-射束传输线路,31-第1剂量测定部,32-离子源,33-第2剂量测定部,34-低通滤波器,35-高通滤波器,36-离子源控制部,42、43-电极,44-测定部。