一种电弧离子镀引弧针调节装置转让专利

申请号 : CN201711243193.3

文献号 : CN107761061B

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法律信息:

相似专利:

发明人 : 王铁钢林伟刘源蔡玉俊刘艳梅范其香

申请人 : 天津职业技术师范大学

摘要 :

本发明公开了一种电弧离子镀引弧针调节装置,该装置包括主杆、外套筒、弹簧、调节螺柱和引弧针,主杆的一端设置有用于安装调节螺柱的内螺纹孔,调节螺柱安装在该内螺纹孔中,在主杆上设置有用于安装弹簧的阶梯结构,所述外套筒滑动套设在主杆上,弹簧被安装在外套筒内的主杆的阶梯结构上,通过弹簧为外套筒提供沿主杆轴向向调节螺柱端的弹力;在主杆的内螺纹孔的孔壁上开设有一段通槽,引弧针的竖直段安装在通槽中,在弹簧弹力的作用下,引弧针被加持固定在外套筒和调节螺柱之间。当需要调节引弧针与靶面的距离时,旋动调节螺柱,调节螺柱推动引弧针沿通槽长向滑动,引弧针带动外套筒使弹簧压缩,从而实现引弧针位置的连续调整。

权利要求 :

1.一种电弧离子镀引弧针调节装置,其特征在于:包括主杆、外套筒、弹簧、调节螺柱和引弧针;所述主杆的一端设置有用于连接气缸动作端的内螺纹盲孔,主杆的另一端设置有用于安装调节螺柱的内螺纹孔,所述调节螺柱安装在该内螺纹孔中;在主杆上设置有用于安装弹簧的阶梯结构,所述外套筒滑动套设在主杆上,外套筒的外端设置有内缘,弹簧被安装在外套筒内的主杆的阶梯结构上,且弹簧的一端抵触在主杆的阶梯上,弹簧的另一端抵触在外套筒的内缘上,通过弹簧为外套筒提供沿主杆轴向调节螺柱端的弹力;

在主杆的内螺纹孔的孔壁上沿主杆轴向开设有一段通槽,引弧针的竖直段安装在通槽中,引弧针能够沿通槽长向滑动,在引弧针的竖直段上开设有位置对称的第一凹槽和第二凹槽,第一凹槽用于与外套筒外端配合,第二凹槽用于与调节螺柱终端配合,在弹簧弹力的作用下,外套筒外端顶入引弧针的第一凹槽,且调节螺柱终端顶入引弧针的第二凹槽,从而实现引弧针的固定;

所述引弧针包括竖直段、弯折过度段和水平段,竖直段、弯折过度段和水平段为一体式结构,材质为不锈钢,在水平段的终端内嵌有用于和靶材接触的钼材质的接触针;

通过主杆右端的内螺纹盲孔将该装置固定在镀膜机的动作气缸的输出杆上,开启镀膜机,由气缸带动该装置往复振动,使引弧针触碰靶材产生放电进行引弧,在工作过程中,由于弹簧具有足够的弹力,所以能够保证引弧针被固定在调节螺柱和外套筒之间;

当需要调节引弧针与靶面的距离时,旋动调节螺柱,调节螺柱推动引弧针,引弧针带动外套筒使弹簧压缩,从而实现引弧针位置的连续调整;

所述通槽沿主杆轴向的长度为1.5-3cm。

说明书 :

一种电弧离子镀引弧针调节装置

技术领域

[0001] 本发明属于电弧离子镀技术领域,具体涉及一种电弧离子镀引弧针调节装置。

背景技术

[0002] 在电弧离子镀膜设备镀膜过程中,通过引弧针触碰靶材产生放电进行引弧。镀膜过程中,引弧针位置与靶材表面距离过近,引弧针针尖温度不断升高,持续烧蚀的电弧会使针尖部分熔断,造成灭弧且无法再次起弧,使镀膜过程中断;引弧针位置与靶材距离过远,弧针与靶材之间放电不充分,无法起弧。随着靶材的不断消耗,靶材与引弧针之间的距离在不断地变化,这就需要不断调整引弧针的位置,使弧针与靶材之间放电充分顺利起弧且不会熔断弧针,由于每次靶材消耗程度难以度量,给引弧针位置的调整增加了很大的难度,这就需要一种便于调节的引弧针调节装置。

发明内容

[0003] 本发明的目的在于克服现有技术的不足,提供一种便于调节的电弧离子镀引弧针调节装置。通过该装置能够方便快捷的调整引弧针的位置。
[0004] 本发明是通过以下技术方案实现的:
[0005] 一种电弧离子镀引弧针调节装置,该装置包括主杆、外套筒、弹簧、调节螺柱和引弧针,
[0006] 所述主杆的一端设置有用于连接气缸动作端的内螺纹盲孔,主杆的另一端设置有用于安装调节螺柱的内螺纹孔,所述调节螺柱安装在该内螺纹孔中;在主杆上设置有用于安装弹簧的阶梯结构,所述外套筒滑动套设在主杆上,外套筒的外端设置有内缘,弹簧被安装在外套筒内的主杆的阶梯结构上,且弹簧的一端抵触在主杆的阶梯上,弹簧的另一端抵触在外套筒的内缘上,通过弹簧为外套筒提供沿主杆轴向向调节螺柱端的弹力;
[0007] 在主杆的内螺纹孔的孔壁上沿主杆轴向开设有一段通槽,引弧针的竖直段安装在通槽中,引弧针能够沿通槽长向(即沿主杆轴向)滑动,在引弧针的竖直段上开设有位置对称的第一凹槽和第二凹槽,第一凹槽用于与外套筒外端配合,第二凹槽用于与调节螺柱终端配合,在弹簧弹力的作用下,外套筒外端顶入引弧针的第一凹槽,且调节螺柱终端顶入引弧针的第二凹槽,从而实现引弧针的固定。
[0008] 所述电弧离子镀引弧针调节装置的使用方法:
[0009] 通过主杆右端的内螺纹盲孔将本装置固定在镀膜机的动作气缸的输出杆上,开启镀膜机,由气缸带动本装置往复振动,使引弧针触碰靶材产生放电进行引弧,在工作过程中,由于弹簧具有足够的弹力,所以能够保证引弧针被固定在调节螺柱和外套筒之间;
[0010] 当需要调节引弧针与靶面的距离时,旋动调节螺柱,调节螺柱推动引弧针,引弧针带动外套筒使弹簧压缩,从而实现引弧针位置的连续调整。
[0011] 在上述技术方案中,所述引弧针包括竖直段、弯折过度段和水平段,竖直段、弯折过度段和水平段为一体式结构,材质为不锈钢,在水平段的终端内嵌有用于和靶材接触的钼材质的接触针。
[0012] 在上述技术方案中,通槽沿主杆轴向的长度为1.5-3cm。
[0013] 本发明的优点和有益效果为:
[0014] 本发明结构简单、设计合理,使用时,通过主杆一端的内螺纹盲孔将本装置固定在镀膜机的动作气缸的输出杆上,由气缸带动本装置往复振动,使引弧针触碰靶材产生放电进行引弧,在工作过程中,利用弹簧的弹力,外套筒外端顶入引弧针的第一凹槽,且调节螺柱终端顶入引弧针的第二凹槽,从而实现引弧针被固定在调节螺柱和外套筒之间;当需要调节引弧针与靶面的距离时,旋动调节螺柱,调节螺柱推动引弧针沿通槽长向(即沿主杆轴向)滑动,引弧针带动外套筒使弹簧压缩,从而实现引弧针位置的连续调整,在引弧针位置调节过程中,在弹簧的弹力作用下,始终能够保证引弧针实时被固定在调节螺柱和外套筒之间,不会发生掉针危险。
[0015] 本发明使用方便,只需调整调节螺柱,即可实现引弧针的位置调节。
[0016] 本发明的引弧针包括竖直段、弯折过度段和水平段,竖直段、弯折过度段和水平段为一体式结构,材质为不锈钢,在水平段的终端内嵌有用于和靶材接触的钼材质的接触针。将引弧针做成这种弯折的结构是为了使引弧针与靶面平行的那段远离靶表面,避免温度过高造成引弧针的软化,另外也可以有效减缓靶材蒸发出的材料在弧针上的沉积、积瘤。此外,引弧针的接触针采用钼材质,这是因为钼的熔点较高,可以防止持续烧蚀的电弧把不锈钢引弧针熔化,若引弧针整体都用钼丝制作,则成本较高,同时钼丝脆性大,不易弯曲成型,而不锈钢塑性较好,易弯曲成型。

附图说明

[0017] 图1是本发明型的结构示意图。
[0018] 图2是靶材损耗之后调节引弧针位置的结构示意图。

具体实施方式

[0019] 下面结合具体实施例进一步说明本发明的技术方案。
[0020] 本发明公开了一种电弧离子镀引弧针调节装置,参见附图,该装置包括主杆1、外套筒2、弹簧3、调节螺柱4和引弧针5,
[0021] 所述主杆1的右端设置有用于连接气缸动作端的内螺纹盲孔1-1,主杆1的左端设置有用于安装调节螺柱4的内螺纹孔1-2,所述调节螺柱4安装在该内螺纹孔1-2中;在主杆1上设置有用于安装弹簧3的阶梯结构1-3,所述外套筒2滑动套设在主杆1上,外套筒2的外端设置有内缘2-1,弹簧3被安装在外套筒2内的主杆的阶梯结构1-3上,且弹簧3的一端抵触在主杆的阶梯上,弹簧3的另一端抵触在外套筒的内缘2-1上,通过弹簧3为外套筒2提供沿主杆轴向向调节螺柱4端的弹力;
[0022] 所述引弧针5包括竖直段5-1、弯折过度段5-2和水平段5-3,竖直段、弯折过度段和水平段为一体式结构,材质为不锈钢,在水平段的终端内嵌有用于和靶材6接触的钼材质的接触针5-4。将引弧针做成这种弯折的结构是为了使引弧针与靶面平行的那段远离靶表面,避免温度过高造成引弧针的软化,另外也可以有效减缓靶材蒸发出的材料在弧针上的沉积、积瘤。此外,引弧针的接触针采用钼材质,这是因为钼的熔点较高,可以防止持续烧蚀的电弧把不锈钢引弧针熔化,若引弧针整体都用钼丝制作,则成本较高,同时钼丝脆性大,不易弯曲成型,而不锈钢塑性较好,易弯曲成型;
[0023] 在主杆1的内螺纹孔1-2的孔壁上沿主杆轴向开设有一段通槽1-4,通槽沿主杆轴向的长度为1.5-3cm,所述引弧针的竖直段5-1安装在通槽1-4中,通槽的槽宽略大于引弧针的竖直段直径,以使引弧针能够沿通槽1-4长向(即沿主杆轴向)滑动,在引弧针的竖直段上开设有位置对称的第一凹槽5-11和第二凹槽5-12,第一凹槽用于与外套筒2外端配合,第二凹槽用于与调节螺柱终端配合,在弹簧弹力的作用下,外套筒外端顶入引弧针的第一凹槽5-11,且调节螺柱终端顶入引弧针的第二凹槽5-12,从而实现引弧针的固定。
[0024] 使用时,通过主杆右端的内螺纹盲孔将本装置固定在镀膜机的动作气缸的输出杆上,开启镀膜机,由气缸带动本装置往复振动,使引弧针触碰靶材6产生放电进行引弧,在工作过程中,由于弹簧具有足够的弹力,所以能够保证引弧针5被固定在调节螺柱4和外套筒2之间。当需要调节引弧针与靶面的距离时,参见附图2,旋动调节螺柱4,调节螺柱推动引弧针,引弧针带动外套筒2使弹簧压缩,就可以实现引弧针位置的连续调整。
[0025] 以上对本发明做了示例性的描述,应该说明的是,在不脱离本发明的核心的情况下,任何简单的变形、修改或者其他本领域技术人员能够不花费创造性劳动的等同替换均落入本发明的保护范围。