基板处理装置转让专利
申请号 : CN201710858732.8
文献号 : CN107863309B
文献日 : 2021-11-05
发明人 : 矢野航 , 桥诘彰夫
申请人 : 株式会社斯库林集团
摘要 :
权利要求 :
1.一种基板处理装置,其中,具备:
旋转保持机构,保持基板,使该基板以规定的旋转轴为中心旋转,清洗刷,包括能够弹性变形的刷主体,以及,刷移动机构,包括安装有所述清洗刷的轴,所述刷移动机构通过使所述轴移动来使所述清洗刷移动,所述轴沿着贯穿所述基板的主面的方向延伸;
所述刷主体包括沿着所述轴的延伸方向延伸的柱状部分,并且包括用于与所述基板抵接的基板抵接部,该基板抵接部形成所述柱状部分的顶端面,所述刷主体具有海绵状的结构,
所述刷移动机构能够使所述刷主体的所述基板抵接部与所述基板的主面接触,在用具有所述清洗刷的设计形状且以规定的方式安装于所述轴的假设的清洗刷定义设计刷,用所述设计刷的与所述刷主体相当的部分定义设计主体,用所述设计主体的与所述基板抵接部相当的部分定义设计抵接部时,所述基板处理装置还具备:
矫正构件,在该矫正构件的外周面包括接触部,该接触部能够与所述设计刷的所述设计主体的外周面相对并接触,
相对定位机构,通过使所述矫正构件相对于所述设计刷相对地移动,使所述矫正构件定位于相对于所述设计刷被规定的目标位置以及,流体供给机构,在所述矫正构件相对于所述设计刷定位于所述目标位置的状态下,所述流体供给机构向所述清洗刷的所述刷主体供给规定的流体,形成经过所述刷主体的内部朝向所述矫正构件的所述接触部的所述流体的流体流;
在所述矫正构件定位于所述目标位置时,所述接触部与对象部分彼此重叠,所述对象部分为,将所述设计主体的与所述柱状部分相当的设计柱状部分的外周面中的所述设计抵接部、该外周面中的从所述设计抵接部的周缘沿着所述轴的延伸方向延伸的带状的环状部分合起来的部分,
所述接触部形成为将所述设计刷的所述对象部分的形状反转的形状,并且所述接触部中的与所述带状的环状部分对应的部分,是与所述轴的中心轴线相对的中心轴线相对面。
2.根据权利要求1所述的基板处理装置,其中,在所述矫正构件形成有在所述接触部开口的吸引用流路,所述基板处理装置还具备减压机构,所述减压机构与所述吸引用流路连通,来对所述吸引用流路内进行减压。
3.根据权利要求1所述的基板处理装置,其中,还具备矫正构件清洗机构,在所述矫正构件从所述目标位置离开的状态下,所述矫正构件清洗机构向所述矫正构件的所述接触部供给清洗液来清洗所述接触部。
4.根据权利要求1所述的基板处理装置,其中,还具备刷清洗机构,在所述矫正构件定位于所述目标位置的状态下,所述刷清洗机构能够向所述清洗刷的所述刷主体供给清洗液来清洗所述刷主体。
5.根据权利要求3所述的基板处理装置,其中,在所述矫正构件定位于所述目标位置的状态下,所述矫正构件清洗机构能够向所述清洗刷的所述刷主体供给清洗液来清洗所述刷主体。
6.根据权利要求1至5中任一项权利要求所述的基板处理装置,其中,还具备测量器,所述测量器测量所述清洗刷的所述刷主体的变形量。
7.一种基板处理装置,其中,具备:
旋转保持机构,保持基板,使该基板以规定的旋转轴为中心旋转,清洗刷,包括能够弹性变形的刷主体,以及,刷移动机构,包括安装有所述清洗刷的轴,所述刷移动机构通过使所述轴移动来使所述清洗刷移动,所述轴沿着贯穿所述基板的主面的方向延伸;
所述刷主体包括沿着所述轴的延伸方向延伸的柱状部分,并且包括用于与所述基板抵接的基板抵接部,该基板抵接部形成所述柱状部分的顶端面,所述刷移动机构能够使所述刷主体的所述基板抵接部与所述基板的主面接触,在用具有所述清洗刷的设计形状且以规定的方式安装于所述轴的假设的清洗刷定义设计刷,用所述设计刷的与所述刷主体相当的部分定义设计主体,用所述设计主体的与所述基板抵接部相当的部分定义设计抵接部时,所述基板处理装置还具备:
矫正构件,在该矫正构件的外周面包括接触部,该接触部能够与所述设计刷的所述设计主体的外周面相对并接触,以及,相对定位机构,通过使所述矫正构件相对于所述设计刷相对地移动,使所述矫正构件定位于相对于所述设计刷被规定的目标位置;
在所述矫正构件定位于所述目标位置时,所述接触部与对象部分彼此重叠,所述对象部分为,将所述设计主体的与所述柱状部分相当的设计柱状部分的外周面中的所述设计抵接部、该外周面中的从所述设计抵接部的周缘沿着所述轴的延伸方向延伸的带状的环状部分合起来的部分,
所述接触部形成为将所述设计刷的所述对象部分的形状反转的形状,并且所述接触部中的与所述带状的环状部分对应的部分,是与所述轴的中心轴线相对的中心轴线相对面,在所述矫正构件形成有在所述接触部开口的吸引用流路,所述基板处理装置还具备减压机构,所述减压机构与所述吸引用流路连通,来对所述吸引用流路内进行减压。
8.一种基板处理装置,其中,具备:
旋转保持机构,保持基板,使该基板以规定的旋转轴为中心旋转,清洗刷,包括能够弹性变形的刷主体,以及,刷移动机构,包括安装有所述清洗刷的轴,所述刷移动机构通过使所述轴移动来使所述清洗刷移动,所述轴沿着贯穿所述基板的主面的方向延伸;
所述刷主体包括沿着所述轴的延伸方向延伸的柱状部分,并且包括用于与所述基板抵接的基板抵接部,该基板抵接部形成所述柱状部分的顶端面,所述刷移动机构能够使所述刷主体的所述基板抵接部与所述基板的主面接触,在用具有所述清洗刷的设计形状且以规定的方式安装于所述轴的假设的清洗刷定义设计刷,用所述设计刷的与所述刷主体相当的部分定义设计主体,用所述设计主体的与所述基板抵接部相当的部分定义设计抵接部时,所述基板处理装置还具备:
矫正构件,在该矫正构件的外周面包括接触部,该接触部能够与所述设计刷的所述设计主体的外周面相对并接触,
相对定位机构,通过使所述矫正构件相对于所述设计刷相对地移动,使所述矫正构件定位于相对于所述设计刷被规定的目标位置,以及,相对旋转机构,使所述清洗刷以所述轴的中心轴线为中心,相对于所述矫正构件相对地旋转;
将所述设计主体的与所述柱状部分相当的设计柱状部分的外周面中的所述设计抵接部、该外周面中的从所述设计抵接部的周缘沿着所述轴的延伸方向延伸的带状的环状部分合起来的部分,是以所述中心轴线为中心的旋转体,在所述矫正构件定位于所述目标位置时,所述接触部与对象部分彼此重叠,所述对象部分为,将所述旋转体的旋转轨迹中的与所述带状的环状部分对应的部分的周向的至少一部分、该旋转轨迹中的与所述设计抵接部对应的部分合起来的部分,所述旋转体利用所述相对旋转机构相对于所述矫正构件相对地旋转,所述接触部形成为将所述设计刷的所述对象部分的形状反转的形状,并且所述接触部中的与所述带状的环状部分对应的部分,是与所述轴的中心轴线相对的中心轴线相对面。
9.根据权利要求8所述的基板处理装置,其中,所述刷主体具有海绵状的结构;
所述基板处理装置还具备流体供给机构,在所述矫正构件相对于所述设计刷定位于所述目标位置的状态下,所述流体供给机构向所述清洗刷的所述刷主体供给规定的流体,形成经过所述刷主体的内部朝向所述矫正构件的所述接触部的所述流体的流体流。
10.根据权利要求8所述的基板处理装置,其中,在所述矫正构件形成有在所述接触部开口的吸引用流路,所述基板处理装置还具备减压机构,所述减压机构与所述吸引用流路连通,来对所述吸引用流路内进行减压。
11.根据权利要求8所述的基板处理装置,其中,还具备矫正构件清洗机构,在所述矫正构件从所述目标位置离开的状态下,所述矫正构件清洗机构向所述矫正构件的所述接触部供给清洗液来清洗所述接触部。
12.根据权利要求8所述的基板处理装置,其中,还具备刷清洗机构,在所述矫正构件定位于所述目标位置的状态下,所述刷清洗机构能够向所述清洗刷的所述刷主体供给清洗液来清洗所述刷主体。
13.根据权利要求11所述的基板处理装置,其中,在所述矫正构件定位于所述目标位置的状态下,所述矫正构件清洗机构能够向所述清洗刷的所述刷主体供给清洗液来清洗所述刷主体。
14.根据权利要求8至13中任一项权利要求所述的基板处理装置,其中,还具备测量器,所述测量器测量所述清洗刷的所述刷主体的变形量。
15.一种基板处理装置,其中,具备:
旋转保持机构,保持基板,使该基板以规定的旋转轴为中心旋转,清洗刷,包括能够弹性变形的刷主体,以及,刷移动机构,包括安装有所述清洗刷的轴,所述刷移动机构通过使所述轴移动来使所述清洗刷移动,所述轴沿着贯穿所述基板的主面的方向延伸;
所述刷主体包括沿着所述轴的延伸方向延伸的柱状部分,并且在所述柱状部分的侧面包括用于与所述基板抵接的基板抵接部,所述刷主体具有海绵状的结构;
所述刷移动机构能够使所述刷主体的所述基板抵接部与所述基板的周缘部接触,在用具有所述清洗刷的设计形状且以规定的方式安装于所述轴的假设的清洗刷定义设计刷,用所述设计刷的与所述刷主体相当的部分定义设计主体,用所述设计主体的与所述基板抵接部相当的部分定义设计抵接部时,所述基板处理装置还具备:
矫正构件,在该矫正构件的外周面包括接触部,该接触部能够与所述设计刷的所述设计主体的外周面相对并接触,
相对定位机构,通过使所述矫正构件相对于所述设计刷相对地移动,使所述矫正构件定位于相对于所述设计刷被规定的目标位置以及流体供给机构,在所述矫正构件相对于所述设计刷定位于所述目标位置的状态下,所述流体供给机构向所述清洗刷的所述刷主体供给规定的流体,形成经过所述刷主体的内部朝向所述矫正构件的所述接触部的所述流体的流体流;
在所述矫正构件定位于所述目标位置时,所述接触部与对象部分彼此重叠,所述对象部分为,所述设计主体的与所述柱状部分相当的设计柱状部分的侧面中的、包括所述设计抵接部的部分,
所述接触部形成为将所述设计刷的所述对象部分的形状反转的形状,并且所述接触部是与所述轴的中心轴线相对的中心轴线相对面。
16.根据权利要求15所述的基板处理装置,其中,在所述矫正构件形成有在所述接触部开口的吸引用流路,所述基板处理装置还具备减压机构,所述减压机构与所述吸引用流路连通,来对所述吸引用流路内进行减压。
17.根据权利要求15所述的基板处理装置,其中,还具备矫正构件清洗机构,在所述矫正构件从所述目标位置离开的状态下,所述矫正构件清洗机构向所述矫正构件的所述接触部供给清洗液来清洗所述接触部。
18.根据权利要求15所述的基板处理装置,其中,还具备刷清洗机构,在所述矫正构件定位于所述目标位置的状态下,所述刷清洗机构能够向所述清洗刷的所述刷主体供给清洗液来清洗所述刷主体。
19.根据权利要求17所述的基板处理装置,其中,在所述矫正构件定位于所述目标位置的状态下,所述矫正构件清洗机构能够向所述清洗刷的所述刷主体供给清洗液来清洗所述刷主体。
20.根据权利要求15至19中任一项权利要求所述的基板处理装置,其中,还具备测量器,所述测量器测量所述清洗刷的所述刷主体的变形量。
21.一种基板处理装置,其中,具备:
旋转保持机构,保持基板,使该基板以规定的旋转轴为中心旋转,清洗刷,包括能够弹性变形的刷主体,以及,刷移动机构,包括安装有所述清洗刷的轴,所述刷移动机构通过使所述轴移动来使所述清洗刷移动,所述轴沿着贯穿所述基板的主面的方向延伸;
所述刷主体包括沿着所述轴的延伸方向延伸的柱状部分,并且在所述柱状部分的侧面包括用于与所述基板抵接的基板抵接部,所述刷移动机构能够使所述刷主体的所述基板抵接部与所述基板的周缘部接触,在用具有所述清洗刷的设计形状且以规定的方式安装于所述轴的假设的清洗刷定义设计刷,用所述设计刷的与所述刷主体相当的部分定义设计主体,用所述设计主体的与所述基板抵接部相当的部分定义设计抵接部时,所述基板处理装置还具备:
矫正构件,在该矫正构件的外周面包括接触部,该接触部能够与所述设计刷的所述设计主体的外周面相对并接触,以及,相对定位机构,通过使所述矫正构件相对于所述设计刷相对地移动,使所述矫正构件定位于相对于所述设计刷被规定的目标位置;
在所述矫正构件定位于所述目标位置时,所述接触部与对象部分彼此重叠,所述对象部分为,所述设计主体的与所述柱状部分相当的设计柱状部分的侧面中的、包括所述设计抵接部的部分,
所述接触部形成为将所述设计刷的所述对象部分的形状反转的形状,并且所述接触部是与所述轴的中心轴线相对的中心轴线相对面,在所述矫正构件形成有在所述接触部开口的吸引用流路,所述基板处理装置还具备减压机构,所述减压机构与所述吸引用流路连通,来对所述吸引用流路内进行减压。
22.一种基板处理装置,其中,具备:
旋转保持机构,保持基板,使该基板以规定的旋转轴为中心旋转,清洗刷,包括能够弹性变形的刷主体,以及,刷移动机构,包括安装有所述清洗刷的轴,所述刷移动机构通过使所述轴移动来使所述清洗刷移动,所述轴沿着贯穿所述基板的主面的方向延伸;
所述刷主体包括沿着所述轴的延伸方向延伸的柱状部分,并且在所述柱状部分的侧面包括用于与所述基板抵接的基板抵接部,所述刷移动机构能够使所述刷主体的所述基板抵接部与所述基板的周缘部接触,在用具有所述清洗刷的设计形状且以规定的方式安装于所述轴的假设的清洗刷定义设计刷,用所述设计刷的与所述刷主体相当的部分定义设计主体,用所述设计主体的与所述基板抵接部相当的部分定义设计抵接部时,所述基板处理装置还具备:
矫正构件,在该矫正构件的外周面包括接触部,该接触部能够与所述设计刷的所述设计主体的外周面相对并接触,
相对定位机构,通过使所述矫正构件相对于所述设计刷相对地移动,使所述矫正构件定位于相对于所述设计刷规定的目标位置,以及,相对旋转机构,使所述清洗刷以所述轴的中心轴线为中心,相对于所述矫正构件相对地旋转;
所述设计主体的与所述柱状部分相当的设计柱状部分的侧面中的、包括所述设计抵接部的环状部分,是以所述中心轴线为中心的旋转体,在所述矫正构件定位于所述目标位置时,所述接触部与对象部分彼此重叠,所述对象部分为,所述旋转体的旋转轨迹中的周向的至少一部分,所述旋转体利用所述相对旋转机构相对于所述矫正构件相对地旋转,所述接触部形成为将所述设计刷的所述对象部分的形状反转的形状,并且所述接触部是与所述轴的中心轴线相对的中心轴线相对面。
23.根据权利要求22所述的基板处理装置,其中,所述刷主体具有海绵状的结构;
所述基板处理装置还具备流体供给机构,在所述矫正构件相对于所述设计刷定位于所述目标位置的状态下,所述流体供给机构向所述清洗刷的所述刷主体供给规定的流体,形成经过所述刷主体的内部朝向所述矫正构件的所述接触部的所述流体的流体流。
24.根据权利要求22所述的基板处理装置,其中,在所述矫正构件形成有在所述接触部开口的吸引用流路,所述基板处理装置还具备减压机构,所述减压机构与所述吸引用流路连通,来对所述吸引用流路内进行减压。
25.根据权利要求22所述的基板处理装置,其中,还具备矫正构件清洗机构,在所述矫正构件从所述目标位置离开的状态下,所述矫正构件清洗机构向所述矫正构件的所述接触部供给清洗液来清洗所述接触部。
26.根据权利要求22所述的基板处理装置,其中,还具备刷清洗机构,在所述矫正构件定位于所述目标位置的状态下,所述刷清洗机构能够向所述清洗刷的所述刷主体供给清洗液来清洗所述刷主体。
27.根据权利要求25所述的基板处理装置,其中,在所述矫正构件定位于所述目标位置的状态下,所述矫正构件清洗机构能够向所述清洗刷的所述刷主体供给清洗液来清洗所述刷主体。
28.根据权利要求22至27中任一项权利要求所述的基板处理装置,其中,还具备测量器,所述测量器测量所述清洗刷的所述刷主体的变形量。
说明书 :
基板处理装置
技术领域
用基板、光磁盘用基板、光掩模用玻璃基板、太阳能电池用基板等。
背景技术
顶端设置有向下方延伸的轴,该轴能够以其中心轴为中心旋转。在轴的下端连结有清洗刷,
该清洗刷具备安装于刷保持件的刷主体。在该基板处理装置中,在使清洗刷按压于旋转的
基板的上表面的状态下,向基板的上表面供给清洗用的处理液并且使臂旋转,从而使得清
洗刷在基板的上表面中央部和上表面周缘部之间移动。由此,清洗刷的刷主体与基板的整
个上表面接触,对基板的上表面进行清洗处理。当基板的清洗处理结束时,该基板处理装置
通过使臂移动,来使清洗刷移动到设置于待机位置的筒状的待机容器(pod)。在待机容器,
设置有喷出用于清洗清洗刷的清洗液的筒状的清洗棒。在该基板处理装置中,能够在使清
洗刷的刷主体接触清洗棒的状态下,通过使轴和清洗刷以中心轴为中心一体地旋转来清洗
刷主体。
的接触方式产生变动。由此,不能进行预想的清洗方式,因此存在清洗效率变差或者污染基
板的问题。
发明内容
机构,包括安装有所述清洗刷的轴,所述刷移动机构通过使所述轴移动来使所述清洗刷移
动,所述轴沿着贯穿所述基板的主面的方向延伸;所述刷主体包括沿着所述轴的延伸方向
延伸的柱状部分,并且包括用于与所述基板抵接的基板抵接部,该基板抵接部形成所述柱
状部分的顶端面;所述刷移动机构能够使所述刷主体的所述基板抵接部与所述基板的主面
接触;在用具有所述清洗刷的设计形状且以规定的方式安装于所述轴的假设的清洗刷定义
设计刷,用所述设计刷的与所述刷主体相当的部分定义设计主体,用所述设计主体的与所
述基板抵接部相当的部分定义设计抵接部时,所述基板处理装置还具备:矫正构件,在该矫
正构件的外周面包括接触部,该接触部能够与所述设计刷的所述设计主体的外周面相对并
接触,以及,相对定位机构,通过使所述矫正构件相对于所述设计刷相对地移动,使所述矫
正构件定位于相对于所述设计刷规定的目标位置;在所述矫正构件定位于所述目标位置
时,所述接触部与对象部分彼此重叠,所述对象部分为,将所述设计主体的与所述柱状部分
相当的设计柱状部分的外周面中的所述设计抵接部、该外周面中的从所述设计抵接部的周
缘沿着所述轴的延伸方向延伸的带状的环状部分合起来的部分;所述接触部形成为将所述
设计刷的所述对象部分的形状反转的形状,并且所述接触部中的与所述带状的环状部分对
应的部分,是与所述轴的中心轴线相对的中心轴线相对面。
所述清洗刷的轴,所述刷移动机构通过使所述轴移动来使所述清洗刷移动,所述轴沿着贯
穿所述基板的主面的方向延伸;所述刷主体包括沿着所述轴的延伸方向延伸的柱状部分,
并且包括用于与所述基板抵接的基板抵接部,该基板抵接部形成所述柱状部分的顶端面;
所述刷移动机构能够使所述刷主体的所述基板抵接部与所述基板的主面接触;在用具有所
述清洗刷的设计形状且以规定的方式安装于所述轴的假设的清洗刷定义设计刷,用所述设
计刷的与所述刷主体相当的部分定义设计主体,用所述设计主体的与所述基板抵接部相当
的部分定义设计抵接部时,所述基板处理装置还具备:矫正构件,在该矫正构件的外周面包
括接触部,该接触部能够与所述设计刷的所述设计主体的外周面相对并接触,相对定位机
构,通过使所述矫正构件相对于所述设计刷相对地移动,使所述矫正构件定位于相对于所
述设计刷规定的目标位置,以及,相对旋转机构,使所述清洗刷以所述轴的中心轴线为中
心,相对于所述矫正构件相对地旋转;将所述设计主体的与所述柱状部分相当的设计柱状
部分的外周面中的所述设计抵接部、该外周面中的从所述设计抵接部的周缘沿着所述轴的
延伸方向延伸的带状的环状部分合起来的部分,是以所述中心轴线为中心的旋转体;在所
述矫正构件定位于所述目标位置时,所述接触部与对象部分彼此重叠,所述对象部分为,将
所述旋转体的旋转轨迹中的与所述带状的环状部分对应的部分的周向的至少一部分、该旋
转轨迹中的与所述设计抵接部对应的部分合起来的部分,所述旋转体利用所述相对旋转机
构相对于所述矫正构件相对地旋转;所述接触部形成为将所述设计刷的所述对象部分的形
状反转的形状,并且所述接触部中的与所述带状的环状部分对应的部分,是与所述轴的中
心轴线相对的中心轴线相对面。
清洗刷的轴,所述刷移动机构通过使所述轴移动来使所述清洗刷移动,所述轴沿着贯穿所
述基板的主面的方向延伸;所述刷主体包括沿着所述轴的延伸方向延伸的柱状部分,并且
在所述柱状部分的侧面包括用于与所述基板抵接的基板抵接部;所述刷移动机构能够使所
述刷主体的所述基板抵接部与所述基板的周缘部接触;在用具有所述清洗刷的设计形状且
以规定的方式安装于所述轴的假设的清洗刷定义设计刷,用所述设计刷的与所述刷主体相
当的部分定义设计主体,用所述设计主体的与所述基板抵接部相当的部分定义设计抵接部
时,所述基板处理装置还具备:矫正构件,在该矫正构件的外周面包括接触部,该接触部能
够与所述设计刷的所述设计主体的外周面相对并接触,以及,相对定位机构,通过使所述矫
正构件相对于所述设计刷相对地移动,使所述矫正构件定位于相对于所述设计刷规定的目
标位置;在所述矫正构件定位于所述目标位置时,所述接触部与对象部分彼此重叠,所述对
象部分为,所述设计主体的与所述柱状部分相当的设计柱状部分的侧面中的、包括所述设
计抵接部的部分;所述接触部形成为将所述设计刷的所述对象部分的形状反转的形状,并
且所述接触部是与所述轴的中心轴线相对的中心轴线相对面。
述清洗刷的轴,所述刷移动机构通过使所述轴移动来使所述清洗刷移动,所述轴沿着贯穿
所述基板的主面的方向延伸;所述刷主体包括沿着所述轴的延伸方向延伸的柱状部分,并
且在所述柱状部分的侧面包括用于与所述基板抵接的基板抵接部;所述刷移动机构能够使
所述刷主体的所述基板抵接部与所述基板的周缘部接触;在用具有所述清洗刷的设计形状
且以规定的方式安装于所述轴的假设的清洗刷定义设计刷,用所述设计刷的与所述刷主体
相当的部分定义设计主体,用所述设计主体的与所述基板抵接部相当的部分定义设计抵接
部时,所述基板处理装置还具备:矫正构件,在该矫正构件的外周面包括接触部,该接触部
能够与所述设计刷的所述设计主体的外周面相对并接触,相对定位机构,通过使所述矫正
构件相对于所述设计刷相对地移动,使所述矫正构件定位于相对于所述设计刷规定的目标
位置,以及,相对旋转机构,使所述清洗刷以所述轴的中心轴线为中心,相对于所述矫正构
件相对地旋转;所述设计主体的与所述柱状部分相当的设计柱状部分的侧面中的、包括所
述设计抵接部的环状部分,是以所述中心轴线为中心的旋转体;在所述矫正构件定位于所
述目标位置时,所述接触部与对象部分彼此重叠,所述对象部分为,所述旋转体的旋转轨迹
中的周向的至少一部分,所述旋转体利用所述相对旋转机构相对于所述矫正构件相对地旋
转;所述接触部形成为将所述设计刷的所述对象部分的形状反转的形状,并且所述接触部
是与所述轴的中心轴线相对的中心轴线相对面。
刷定位于所述目标位置的状态下,所述流体供给机构向所述清洗刷的所述刷主体供给规定
的流体,形成经过所述刷主体的内部朝向所述矫正构件的所述接触部的所述流体的流体
流。
构与所述吸引用流路连通,来对所述吸引用流路内进行减压。
矫正构件的所述接触部供给清洗液来清洗所述接触部。
所述刷主体供给清洗液来清洗所述刷主体。
给清洗液来清洗所述刷主体。
设计刷的外周面中的与基板抵接部相当的设计抵接部、从设计抵接部的周缘沿着轴的延伸
方向延伸的带状的环状部分合起来的部分。然后,在矫正构件定位于目标位置时,矫正构件
的接触部与对象部分彼此重叠。接触部形成为将对象部分的形状反转的形状,并且接触部
中的与带状的环状部分对应的部分,是与轴的中心轴线相对的中心轴线相对面。因此,当矫
正构件定位于目标位置时,清洗刷的基板抵接部的扩展被矫正构件的中心轴线相对面限
制。由此,能够抑制基板抵接部的大小变动。
心轴线为中心,相对于矫正构件相对地旋转,包括设计刷的设计抵接部、从设计抵接部的周
缘延伸的带状的环状部分的部分,是以轴的中心轴线为中心的旋转体,对象部分为,将该旋
转体的旋转轨迹中的与带状的环状部分对应的部分的周向的至少一部分、该旋转轨迹中的
与设计抵接部对应的部分合起来的部分。然后,当矫正构件定位于目标位置时,矫正构件的
接触部与对象部分彼此重叠。接触部形成为将对象部分的形状反转的形状,并且接触部中
的与带状的环状部分对应的部分,是与轴的中心轴线相对的中心轴线相对面。因此,当矫正
构件定位于目标位置时,清洗刷的基板抵接部的扩展被矫正构件的中心轴线相对面限制。
由此,能够抑制基板抵接部的大小变动。此外,根据第八方式的发明,由于清洗刷以轴的中
心轴线为中心,相对于矫正构件相对地旋转,因此清洗刷的基板抵接部的扩展更强力地被
矫正构件的中心轴线相对面限制。
与该柱状部分相当的设计柱状部分的侧面中的、包括与基板抵接部相当的设计抵接部的部
分。然后,当矫正构件定位于目标位置时,矫正构件的接触部与对象部分彼此重叠。接触部
形成为将设计刷的对象部分的形状反转的形状,并且接触部是与轴的中心轴线相对的中心
轴线相对面。因此,当矫正构件定位于目标位置时,清洗刷的基板抵接部的扩展被矫正构件
的中心轴线相对面限制。由此,能够抑制基板抵接部的大小变动。
轴线为中心,相对于矫正构件相对地旋转,设计刷的设计柱状部分的侧面中的包括设计抵
接部的环状部分,是以轴的中心轴线为中心的旋转体,设计刷的对象部分为,该旋转体的旋
转轨迹中的周向的至少一部分。然后,当矫正构件定位于目标位置时,矫正构件的接触部与
对象部分彼此重叠。接触部形成为将设计刷的对象部分的形状反转的形状,并且接触部是
与轴的中心轴线相对的中心轴线相对面。因此,当矫正构件定位于目标位置时,清洗刷的基
板抵接部的扩展被矫正构件的中心轴线相对面限制。由此,能够抑制基板抵接部的大小变
动。此外,根据第二十二方式的发明,由于清洗刷以轴的中心轴线为中心,相对于矫正构件
相对地旋转,因此清洗刷的基板抵接部的扩展更强力地被矫正构件的中心轴线相对面限
制。
的内部朝向矫正构件的接触部的该流体的流体流。因此,即使在刷主体中的与矫正构件的
接触部相对的部分收缩的情况下,也能够利用流体使刷主体膨胀来按压于接触部,因此能
够使该相对的部分接近接触部的形状。
矫正构件相对于设计刷定位于目标位置的状态下,如果减压机构对吸引用流路内进行减
压,则即使在清洗刷的刷主体中的与接触部相对的部分收缩的情况下,也能够通过对吸引
用流路内进行减压,使该部分朝向接触部拉伸来接近接触部的形状。
部。因此,在利用清洗刷进行清洗基板的清洗处理中能够并行地清洗接触部,因此能够提高
基板处理装置的处理能力。
够一边利用矫正构件矫正清洗刷的刷主体的形状,一边清洗刷主体。
专用的清洗机构,因此能够简化装置结构。
清洗刷的消息等。
附图说明
具体实施方式
张或简化图示各部的尺寸和数量。此外,各附图中,对具有相同的结构和功能的部分标注相
同的附图标记,以下说明中省略重复说明。上下方向是铅垂方向,在以旋转卡盘为基准时,
基板侧为上方。
立体图。
保持为水平姿势且使该基板W旋转;处理液供给机构4,其用于向基板W供给处理液;清洗刷
5,其用于清洗基板W;筒状的待机容器39,设置于清洗刷5的退避位置,用于容纳清洗刷5;矫
正构件(也称为“模具(mold)”)7,其设置于待机容器39内;刷移动机构3,其用于移动清洗刷
5;刷旋转机构18,其使与清洗刷5连结的轴20旋转,来使安装于轴20的清洗刷5旋转;刷清洗
机构11,其用于在待机容器39内清洗清洗刷5;防溅挡板27,其用于抑制向基板W供给的处理
液飞散;以及,测量器191,其测量清洗刷5的刷主体51的变形量。
持机构2具备:旋转卡盘(“基板保持机构”)21,其将基板W保持为水平姿势;筒状的旋转轴
22,其从旋转卡盘21向下方延伸;以及,旋转驱动机构23,其使旋转卡盘21和旋转轴22旋转。
旋转轴22的下侧部分和旋转驱动机构23容纳于筒状的壳体24。
其上表面朝向上方的方式,被旋转卡盘21保持为大致水平姿势。
以通过基板W的中心的铅垂的旋转轴线a1为中心一体地旋转。另外,在本实施方式中,例示
了吸附式的旋转保持机构2,但旋转保持机构2也可以是用多个基板夹持构件夹持基板W的
夹持式的卡紧机构。
定清洗刷5的螺母(未图示)。该螺母例如通过安装于在清洗刷5的上端突出设置的安装部
(未图示)的周围的螺钉部,将清洗刷5固定于轴20的下端部。
机构19结合。此外,轴20的下端从臂35向下方突出。轴20利用旋转驱动机构19,以轴20的中
心轴线a2为中心进行旋转驱动。由此,安装于轴20的清洗刷5与轴20一体地,以中心轴线a2
为中心进行旋转驱动。
旋转机构160也可以设置为与刷旋转机构18不同的机构。
32,与臂支撑轴33结合。
马达、将伺服马达的旋转转换为直线运动并传递给臂支撑轴33的滚珠螺杆等。
着水平面旋转。利用臂35的旋转,清洗刷5以旋转轴线a3为中心与臂35一体地旋转。图2表示
了如下的例子,即,清洗刷5从设定于基板W的旋转范围外的清洗刷5的待机位置的上方(圆
形的双点划线的位置),沿着通过基板W的上表面中央部的上方的大致圆弧状的路径T1移
动。待机容器39设置于基板W的旋转范围外。旋转驱动机构32例如具备伺服马达、向臂支撑
轴33传递伺服马达的旋转的齿轮机构等。
进行清扫。
计刷6规定的目标位置。即,刷移动机构3也可以用作相对定位机构150。相对定位机构150也
可以设定为与刷移动机构3不同的机构。
接。
结。在该状态下,当刷主体51的上侧部分容纳并保持于刷保持件50时,刷主体51的一部分的
柱状部分52比刷保持件50的下面更向下方突出。基板处理装置1利用刷移动机构3使清洗刷
5与臂35一体地移动,使刷主体51与基板W的表面接触。刷保持件50例如由聚丙烯等塑料材
料一体地形成。刷主体51例如由烯烃类树脂、氟树脂、聚乙烯醇(PVA)、聚乙烯或聚氨酯树脂
等形成为能够弹性变形。
抵接部53的径向的另一端从上表面离开的状态下,用基板W的上表面和该另一端之间的间
隔(也称为“刷的平面度”)D1表示。
的关系的一例的图。
的曲线图),表示了基板的处理张数和间隔D1之间的关系。如图6所示,不使用矫正构件7的
情况与使用矫正构件7的情况相比,相对于基板的处理张数的间隔D1的增加率显著地变大。
此外,在图7的例中,当间隔D1超过1.5mm时,残留于基板W的颗粒数显著地增加。
是设计刷6的与清洗刷5的刷保持件50相当的部分。设计主体61是设计刷6的与清洗刷5的刷
主体51相当的部分。设计抵接部63是设计主体61的与刷主体51的基板抵接部53相当的部
分。设计柱状部分62是设计刷6的与清洗刷5的柱状部分52相当的部分。
将矫正构件7定位于目标位置,从而调整清洗刷5的形状。
边矫正清洗刷5,所述第二情形指,在不使清洗刷5相对于矫正构件7旋转的情况下,矫正清
洗刷5。另外,矫正构件7例如由石英、PTFE、PVC、PFA、PP、PS等树脂或玻璃类材料形成。矫正
构件7的材质比刷主体51更硬。矫正构件7实质上由非研磨性材料形成。矫正构件7优选由不
包含研磨材料的材料形成。
平面图形以该平面上的轴为中心旋转而得到的立体)66。带状的环状部分64为,设计柱状部
分62的外周面中的、从设计抵接部63的周缘沿着轴20的延伸方向延伸的大致恒定宽度的部
分。
的环状部分64对应的部分的周向的至少一部分、该旋转轨迹67中的与设计抵接部63对应的
部分合起来的部分。
计抵接部63的周缘垂直地立设。矫正构件7包括:圆板部,其具有水平的上表面;以及,周壁
部,其沿着该圆板部的周缘部从该周缘部向上方立设。当矫正构件7配置于目标位置时,该
圆板部的上表面中的被该周壁部包围的部分(底面73),与设计刷6的设计抵接部63重叠,该
周壁的内周面(中心轴线相对面74)与设计刷6的带状的环状部分64重叠。
也形成为长方体型。刷主体的下端面是基板抵接部。例如,就清洗刷5而言,无论在所述的第
一情形和第二情形的任一情形下,都能利用矫正构件7矫正形状。但是,清洗刷5A不相对于
矫正构件7进行旋转来进行矫正。用于矫正清洗刷5A的矫正构件例如具备:长方体型的平板
部,其与刷主体的形状对应;以及,框部(周壁部),其从平板部的周缘沿着周缘向上方突出
设置。
IPA、TMAH或三甲基‑2‑羟乙基氢氧化铵水溶液(CHOLINE,胆碱)等)的喷嘴41。来自处理液供
给源44的处理液,经由配管42向喷嘴41供给。在配管42的途中安装有开闭阀43。通过对开闭
阀43进行开闭,能够对从喷嘴41喷出处理液和停止从喷嘴41喷出处理液进行切换。喷嘴41
向利用旋转卡盘21旋转的基板W的上表面喷出:经由配管42供给的处理液。从喷嘴41喷出的
处理液,向基板W的上表面中的包括旋转中心的范围供给。
板W和壳体24的直径。防溅挡板27利用未图示的升降机构在上方位置和退避位置之间升降,
其中,所述上方位置指,防溅挡板27的上端位于基板W的上方的位置,所述退避位置指,防溅
挡板27的上端位于基板W的下方的位置。在处理液供给机构4向基板W的上表面喷出处理液
时,防溅挡板27配置于上方位置,由内壁面接收从基板W的周缘排出的处理液。接收的处理
液经由设置于防溅挡板27的下方的未图示的排液配管被指定的容器等回收。
的矫正构件7。该凹部的表面是接触部75。从刷清洗机构11向待机容器39内供给清洗液。接
触到矫正构件7的该凹部的清洗液,从在矫正构件7的凹部开口并向下方延伸的排液配管38
排出。另外,清洗刷5容纳于待机容器39内的矫正构件7的位置是清洗刷5的待机位置。
甲基‑2‑羟乙基氢氧化铵水溶液(CHOLINE,胆碱)等);以及,清洗液供给机构115,其与喷嘴
110连通来向喷嘴110供给清洗液。清洗液供给机构115包括:清洗液供给源118;以及,配管
116,其向喷嘴110引导清洗液供给源118供给的清洗液。在配管116的途中设置有开闭阀
117。通过对开闭阀117进行开闭,能够对从喷嘴41喷出处理液和停止从喷嘴41喷出处理液
进行切换。
供给至控制部140,控制部140在基于该输出检测到异常时,发出警报或进行禁止清洗处理
等。在清洗刷5旋转的情况下,如果对刷主体51的旋转轨迹的一处进行测量,则能够对刷主
体51的整周的大小的变化进行测量。
的CPU、存储基本程序的读取专用的存储器即ROM、存储各种信息的可自由读写的存储器即
RAM、存储与各种处理对应的程序和数据等的存储装置连接而成。存储装置还存储有规定基
板W的处理内容和处理顺序的规程(recipe)等。
机构18等各部,根据控制部140的控制进行动作。
度。当相对定位机构150使清洗刷5从矫正构件7的上方下降时(步骤S110),刷主体51的下端
部分与矫正构件7中的形成中心轴线相对面74的周壁部接触(步骤S120)。然后,当清洗刷5
进一步被压入接触部75时,刷主体51被按压于接触部75而矫正为设计刷6的形状(步骤
S130)。
洗机构11能够向清洗刷5的刷主体51供给清洗液来清洗刷主体51。当进行了基板W的清洗处
理的清洗刷5利用刷移动机构3配置于退避位置、矫正构件7利用相对定位机构150(刷移动
机构3)配置于目标位置来开始进行刷主体51的矫正处理时,刷清洗机构11从喷嘴110向刷
主体51喷出清洗液的液流L1,进行刷主体51的清洗,由此,还防止刷主体51的干燥。
洗的期间,从喷嘴110向矫正构件7喷出清洗液。由此,由于基板W的清洗和矫正构件7的清洗
并行地进行,因此能够提高基板处理装置1的运转效率。
或之后,进行刷主体51的矫正处理。
的内部;配管172,其将流路171与流体供给源174连接;以及,开闭阀173,其设置于配管172
的路径途中。流体供给源174例如能够供给空气、氮气,氦,氩或者纯水等规定的流体。流体
供给源174优选供给气体。
向刷主体51供给规定的流体。流体供给机构170形成:经过刷主体51的内部朝向矫正构件7
的接触部75的规定的流体的流体流。由此,刷主体51膨胀而被按压于矫正构件7的接触部
75。由此,刷主体51的形状被矫正为接近设计刷6的形状。
多个小径流路。各小径流路的一端在接触部75的表面开口,另一端与贯通矫正构件7A的另
一层的大径配管的流路连通。吸引用流路181包括各小径流路和大径配管的流路。基板处理
装置1还包括与吸引用流路181连通并对吸引用流路内进行减压的减压机构180。减压机构
180包括:吸引用流路181;配管182,其与吸引用流路181连通;真空泵等减压器184,其与配
管182连接,能够对配管182和吸引用流路181内进行减压;以及,开闭阀183,其安装于配管
182。
喷出口优选在整个接触部75相同地设置。
装置1的清洗刷5。此外,在待机容器39内设置有矫正构件10,来代替基板处理装置1的矫正
构件7。除了这些不同之外,基板处理装置1A与基板处理装置1相同。
构3使清洗刷5移动的范围不同。图14中表示了如下的例子,即,使清洗刷8从设定于基板W的
旋转范围外的清洗刷8的待机位置的上方(圆形的双点划线的位置),沿着通过基板W的周缘
部的上方的大致圆弧状的路径T2移动。此外,基板处理装置1A具备与基板处理装置1相同地
构成的处理液供给机构4,但是基板处理装置1A的处理液供给机构4向利用清洗刷5进行清
洗的基板W的周缘部供给处理液。基板W的周缘部例如为,从基板W的周缘起宽度为1mm~3mm
左右的环状的区域。
备与刷移动机构3独立的相对定位机构150A(图18、图19)。
部包括朝向下方变粗的圆锥台状部分。该倒立圆锥台部分和该圆锥台部分都是以中心轴线
a2为中心的旋转体。该倒立圆锥台状部分的上下方向(中心轴线a2的方向)的一部分的带状
的环状侧面,是能够与基板W的周缘部中的上侧部分抵接的基板抵接部83。另外,该圆锥台
状部分的上下方向的一部分的带状的环状侧面(未图示),可以设定为能够与基板W的周缘
部中的下侧部分抵接的基板抵接部。此外,例如柱状部分82的中心轴线a2方向的中央部分
(该倒立圆锥台部分和该圆锥台部分的连接部分),是包括柱状部分82中的刷的宽度最细部
分的部分。也可以使基板W的周缘部中的上侧部分与该中央部分的上侧部分抵接,并且使基
板W的周缘部的下侧部分与该中央部分的下侧部分抵接,来进行基板W的清洗。
线a1为中心旋转等,因此刷主体81变形。在图16的例中,刷的宽度D2与设计尺寸相比变小。
化量比0.4mm更大时,去除率比目标值低。
图中的设计刷9(清洗刷8)为了易于识别而表示为立体图。
93是设计主体91的相当于刷主体81的基板抵接部83的部分。设计柱状部分92是设计刷9的
相当于清洗刷8的柱状部分82的部分。
1A中,相对定位机构150A将矫正构件10定位于该目标位置,来矫正清洗刷8的形状。
对于矫正构件10相对地旋转,一边矫正清洗刷8,所述第四情形是指,与第一实施方式的第
二情形相同地,在不使清洗刷8相对于矫正构件10旋转的情况下,矫正清洗刷8。另外,矫正
构件10具有与矫正构件7相同的材质。
状的旋转体。环状部分94是设计柱状部分92的该侧面中的包括设计抵接部93的部分。环状
部分94也是旋转体。
触部105形成为将设计刷9的对象部分95的形状进行反转的形状,并且是与轴20的中心轴线
a2相对的中心轴线相对面104。
9的对象部分95的形状进行反转的形状,并且是与轴20的中心轴线a2相对的中心轴线相对
面104。
部包括向下方变粗的圆锥台状部分。该倒立圆锥台部分和该圆锥台部分都是以中心轴线a2
为中心的旋转体。该倒立圆锥台状部分的上下方向(中心轴线a2的方向)的一部分的带状的
环状侧面为,能够与基板W的周缘部中的上侧部分抵接的设计抵接部93。
截面的一侧面的弯折的轮廓,沿着与该纵截面垂直的方向延伸的形状。矫正构件10包括向
上倾斜的斜面和向下倾斜的斜面。在该向上倾斜的斜面和该向下倾斜的斜面中,沿着所述
的弯折的轮廓在上下方向上延伸的带状部分,既是接触部105也是中心轴线相对面104。
矫正构件10以各自的顶部彼此相对的方式,安装于一对平板102。
矫正构件10配置于各自的目标位置时,各矫正构件10的接触部105与设计刷9的各对象部分
95重叠。
在一对平板102安装有一对矫正构件10,相对定位机构150A通过使一对平板102移动,来使
一对矫正构件10与一对平板102一体地移动。具体来说,相对定位机构150A例如具备平板
101、在各平板102之间设置的各移动台(stage)。在刷移动机构3将清洗刷8移动到待机容器
39内的退避位置时、在使清洗刷8从退避位置向待机容器39外移动时,相对定位机构150A以
不阻碍清洗刷8的移动的方式,设定一对矫正构件10的间隔。在刷移动机构3将清洗刷8配置
于待机容器39内的退避位置的状态下,相对定位机构150A根据控制部140的控制,使各矫正
构件10分别移动到目标位置。由此,清洗刷8的形状被矫正为接近设计刷9的形状。
置,一对矫正构件10定位于其目标位置。清洗刷8A包括沿着其中心轴贯通清洗刷8A的配管。
在配管的侧面,设置有用于与配管内的流路连通的多个贯通孔,向该配管供给的空气等流
体,经过该贯通孔向清洗刷8A的刷主体内供给。流体供给机构170A通过向清洗刷8A的刷主
体供给规定的流体,形成经过该刷主体的内部朝向矫正构件10的接触部105的该流体的流
体流。由此,清洗刷8A的刷主体被按压于接触部105而矫正其形状。流体供给机构170A与基
板处理装置1的流体供给机构170相同地,包括:流体供给源174;配管172,其与流体供给源
174连接;开闭阀173,其设置于配管172的途中;轴20的内部的流路171A,其与配管172连接;
以及,清洗刷8A内的配管,其与流路171A连接。
个分支配管,其在接触部105开口;大径配管,与各分支配管连通。该大径配管贯通平板102。
该大径配管与包括真空泵等的未图示的减压机构连通。通过该减压机构对吸引用流路181A
内进行减压,使清洗刷8的刷主体81向矫正构件10D的接触部105侧拉伸。由此,刷主体81的
形状被矫正为接触部105的形状。
115,其与喷嘴110连通来向喷嘴110供给清洗液(例如碳酸水或纯水等)。在矫正构件10定位
于目标位置的状态下,刷清洗机构11能够向清洗刷8的刷主体81供给清洗液来清洗刷主体
81。
件10从目标位置离开而露出矫正构件10的接触部105的状态下,矫正构件清洗机构12向接
触部105供给清洗液来清洗接触部105。
11也可以具备多个(图的例子中为两个)喷嘴110。在图22中,一对矫正构件10分别定位于目
标位置来矫正清洗刷8的形状。多个喷嘴110设置成沿着清洗刷8的旋转方向夹住一个矫正
构件10。各喷嘴的喷出口大致与清洗刷8的刷主体81正对。根据该结构,在刷主体81以中心
轴线a2为中心旋转且利用矫正构件10矫正形状的期间,向刷主体81的周向中的多处供给清
洗液,从而高效地进行清洗。
另行设置的喷嘴110向矫正构件10供给清洗液,但是图22的一对矫正构件10C可分别被另一
个矫正构件10C喷出清洗液来被清洗。如图27所示,在矫正构件10C的内部形成有储液孔
110C,形成有与该储液孔110C连通、且在接触部105开口的多个流路。储液孔110C与配管175
连接,配管175与图14所示的清洗液供给机构115连通。清洗液供给机构115供给的清洗液,
经由配管175导入到矫正构件10C内的储液孔110C,从储液孔110C经由各流路,从各流路的
喷出口向另一个矫正构件10C的接触部105喷出。因此,即使没有另行设置清洗用的喷嘴,一
对矫正构件10也能够分别清洗另一个矫正构件10C的接触部105。
使矫正构件10A的接触部105与清洗刷8的基板抵接部83接触。由此,能够利用矫正构件10A
矫正清洗刷8的刷主体81的形状。
8的刷主体81的缩颈部的三角形状。半圆弧部的表面中的上下方向的中央部分的上侧的部
分,是朝向上方扩径的研钵状,下侧部分是朝向下方扩径的研钵状。该半圆弧部的整个表面
是矫正构件10B的接触部105。也可以利用使半圆弧部彼此相对的一对矫正构件10B,矫正清
洗刷8的形状。
结构,不限于海绵状的结构。
端面的基板抵接部53。设计刷6具有清洗刷5的设计形状。对象部分65是将设计刷6的外周面
中的与基板抵接部53相当的设计抵接部63、从设计抵接部63的周缘沿着轴20的延伸方向延
伸的带状的环状部分64合起来的部分。然后,在矫正构件7定位于目标位置时,矫正构件7的
接触部75与对象部分65彼此重叠。接触部75形成为将对象部分65的形状反转的形状,并且
接触部75中的与带状的环状部分64对应的部分,是与轴20的中心轴线a2相对的中心轴线相
对面74。因此,当矫正构件7定位于目标位置时,清洗刷5的基板抵接部53的扩展,被矫正构
件7的中心轴线相对面74限制。由此,能够抑制基板抵接部53的大小的变动。
52的顶端面的基板抵接部53。设计刷6具有清洗刷5的设计形状。清洗刷5以轴20的中心轴线
a2为中心,相对于矫正构件7相对地旋转。设计刷6的包括设计抵接部63、从设计抵接部63的
周缘延伸的带状的环状部分64部分,是以轴20的中心轴线a2为中心的旋转体66。对象部分
65是指,将该旋转体66的旋转轨迹67中的与带状的环状部分64对应的部分的周向的至少一
部分、该旋转轨迹67中的与设计抵接部63对应的部分合起来的部分。然后,当矫正构件7定
位于目标位置时,矫正构件7的接触部75与对象部分65彼此重叠。接触部75形成为将对象部
分65的形状反转的形状,并且接触部75中的与带状的环状部分64对应的部分,是与轴20的
中心轴线a2相对的中心轴线相对面74。因此,当矫正构件7定位于目标位置时,清洗刷5的基
板抵接部53的扩展,被矫正构件7的中心轴线相对面74限制。由此,能够抑制基板抵接部53
的大小的变动。
5的基板抵接部53的扩展,更强力地被矫正构件7的中心轴线相对面74限制。
面包括基板抵接部83。设计刷9具有清洗刷8的设计形状。对象部分95是指,设计刷9的与该
柱状部分82相当的设计柱状部分92的侧面中的、包括与基板抵接部83相当的设计抵接部93
的部分。然后,在矫正构件10定位于目标位置时,矫正构件10的接触部105与对象部分95彼
此重叠。接触部105形成为将设计刷9的对象部分95的形状反转的形状,并且是与轴20的中
心轴线a2相对的中心轴线相对面104。因此,当矫正构件10定位于目标位置时,清洗刷8的基
板抵接部83的扩展被矫正构件10的中心轴线相对面104限制。由此,能够抑制基板抵接部83
的大小的变动。
部83。设计刷9具有清洗刷8的设计形状。清洗刷8以轴20的中心轴线a2为中心,相对于矫正
构件10相对地旋转。设计刷9的设计柱状部分92的侧面中的包括设计抵接部93的环状部分
94,是以轴20的中心轴线a2为中心的旋转体96。设计刷9的对象部分95是该旋转体96的旋转
轨迹97中的周向的至少一部分。矫正构件10定位于目标位置时,矫正构件10的接触部105与
对象部分95彼此重叠。接触部105形成为将设计刷9的对象部分95的形状反转的形状,并且
是与轴20的中心轴线a2相对的中心轴线相对面104。因此,当矫正构件10定位于目标位置
时,清洗刷8的基板抵接部83的扩展被矫正构件10的中心轴线相对面104限制。由此,能够抑
制基板抵接部83的大小的变动。
刷8的基板抵接部83的扩展,更强力地被矫正构件10的中心轴线相对面104限制。
洗刷5、8的刷主体51、81供给规定的流体,形成经过刷主体51、81的内部朝向矫正构件7、10
的接触部75、105的该流体的流体流。因此,即使在刷主体51、81中的与矫正构件7、10的接触
部75、105相对的部分收缩的情况下,也能够利用流体使刷主体51、81膨胀来被按压于接触
部75、105,因此能够使该相对的部分接近接触部75、105的形状。
连通并对吸引用流路181、181A内进行减压的减压机构。因此,在矫正构件7、10相对于设计
刷6、9定位于目标位置的状态下,如果减压机构对吸引用流路181、181A内进行减压,则即使
在清洗刷5、8的刷主体51、81中的与接触部75、105相对的部分收缩的情况下,也能够通过对
吸引用流路181、181A内进行减压,来使该部分朝向接触部75、105拉伸,从而接近接触部75、
105的形状。
的接触部75、105供给清洗液来清洗接触部75、105。因此,在利用清洗刷5、8清洗基板W的清
洗处理中,能够并行地清洗接触部75、105,因此能够提高基板处理装置的处理能力。
81供给清洗液来清洗刷主体51、81。因此,能够一边利用矫正构件7、10矫正清洗刷5、8的刷
主体51、81的形状,一边清洗刷主体51、81。
洗刷主体51、81。因此,无需设置用于清洗刷主体51、81的专用的清洗机构,因此能够简化装
置结构。
板处理装置能够发出例如警报或提醒更换清洗刷5、8的消息等。