镀膜夹层玻璃的制备工艺

摘要

本发明提供了一种镀膜夹层玻璃的制备工艺，包括如下步骤，第一步：对第一玻璃基片进行镀膜处理；第二步：将镀膜处理后的所述第一玻璃基片、第二玻璃基片和胶片进行合片处理；第三步：合片处理后进行辊压处理和烧制处理。本发明的制备工艺创造性地将对第一玻璃基片的镀膜处理置于合片处理之前，使第一玻璃基片和第二玻璃基片的厚度不受玻璃镀膜设备对玻璃厚度的限制的影响，制成的镀膜夹层玻璃具有更厚的厚度、强度大以及硬度高等优良性能，又能够抵御台风等自然灾害。

权利要求

1.一种镀膜夹层玻璃的制备工艺，其特征在于，包括如下步骤:

第一步：对第一玻璃基片进行镀膜处理；

第二步：将镀膜处理后的所述第一玻璃基片、第二玻璃基片和胶片进行合片处理；

第三步：合片处理后进行辊压处理和烧制处理，

所述合片处理后所述胶片和所述镀膜处理形成的复合膜层在所述第一玻璃基片的相对两侧，所述对第一玻璃基片镀膜处理后形成的复合膜层依次具有第一复合介质层、第一保护层、第一银层、第二保护层、第二复合介质层、第三保护层、第二银层、第四保护层、第三复合介质层、第五保护层、第三银层、第六保护层和第四复合介质层，所述第一保护层、所述第二保护层、所述第三保护层、所述第四保护层、所述第五保护层和所述第六保护层中包含Ta，所述第一复合介质层、所述第二复合介质层、所述第三复合介质层和所述第四复合介质层中同时包含SiN和ZnO两种物质，在沉积SiN膜的时候加入少量O2，所述第一银层、所述第二银层和所述第三银层的总厚度大于35nm。

2.根据权利要求1所述的镀膜夹层玻璃的制备工艺，其特征在于，在所述步骤中仅对所述第一玻璃基片进行镀膜处理是在真空条件下操作。

3.根据权利要求1所述的镀膜夹层玻璃的制备工艺，其特征在于，所述第一复合介质层厚度为30～50nm、所述第一保护层厚度为1～6nm、所述第一银层厚度为5～20nm、所述第二保护层厚度为1～6nm、所述第二复合介质层厚度为60～100nm、所述第三保护层厚度为1～

6nm、所述第二银层厚度为5～20nm、所述第四保护层厚度为1～6nm、所述第三复合介质层厚度为60～100nm、所述第五保护层厚度为1～6nm、所述第三银层厚度为5～20nm、所述第六保护层厚度为1～6nm、所述第四复合介质层厚度为20～50nm。

4.根据权利要求1所述的镀膜夹层玻璃的制备工艺，其特征在于，所述辊压处理包括预辊压、分步加热和终辊压。

5.根据权利要求4所述的镀膜夹层玻璃的制备工艺，其特征在于，所述分步加热为经所述预辊压 后的镀膜夹层玻璃依次经过60～80℃、180～230℃、200～250℃、150～180℃加热区进行加热。

说明书

镀膜夹层玻璃的制备工艺

技术领域

[0001] 本发明涉及夹层玻璃制备工艺，尤其涉及一种镀膜夹层玻璃的制备工艺。

背景技术

[0002] 镀膜玻璃因其具有很低的红外线透过率、辐射率和传热系数，能有效限制红外光透过，充分降低玻璃两侧的热交换，使其与普通玻璃和传统镀膜玻璃相比，具有优良的节能性能、光学性能和环保性能，从而被广泛应用于建筑、汽车等领域，将镀膜玻璃与其它玻璃基片制成夹层玻璃并应用于建筑玻璃也很普遍，但镀膜玻璃与其它玻璃基片制成夹层玻璃存在一些问题，因为玻璃镀膜设备对玻璃厚度的限制(一般要求在22mm以内)，采用传统的先做夹层后进行镀膜的工艺生产的镀膜夹层玻璃要求总体厚度较小，一方面满足这种厚度的玻璃基片较少，另一方面较薄的镀膜夹层玻璃强度、硬度等性能较小，难以抵御台风等自然灾害，并且，采用这种工艺时，玻璃基片和胶片之间的合片以及镀膜过程都必须在真空条件下，浪费时间、人力和物力，增加成本。

[0003] 因此，急需一种成本低、效率高镀膜夹层玻璃的制备工艺，使制备出的镀膜夹层玻璃具有强度大、硬度高以及红外线透过率、辐射率和传热系数低等优良性能，能够抵御台风等自然灾害。

发明内容

[0004] 本发明的目的在于提供一种镀膜夹层玻璃的制备工艺，使制备出的镀膜夹层玻璃具有更厚的厚度、强度大以及硬度高等优良性能，能够抵御台风等自然灾害。

[0005] 为实现上述目的，本发明之一提供了一种镀膜夹层玻璃的制备工艺，包括如下步骤：

[0006] 第一步：对第一玻璃基片进行镀膜处理；

[0007] 第二步：将镀膜处理后的所述第一玻璃基片、第二玻璃基片和胶片进行合片处理；

[0008] 第三步：合片处理后进行辊压处理和烧制处理。

[0009] 与现有技术相比，本发明提供的镀膜夹层玻璃的制备工艺先对第一玻璃基片进行镀膜处理，然后将镀膜后的第一玻璃基片、第二玻璃基片和胶片进行合片处理，最后进行辊压处理和烧制处理。本发明的镀膜夹层玻璃的制备工艺创造性地将对第一玻璃基片的镀膜处理置于合片处理之前，一方面使第一玻璃基片和第二玻璃基片的厚度不受玻璃镀膜设备对玻璃厚度的限制(一般要求在22mm以内)的影响，增加了对不同厚度的第一玻璃基片和第二玻璃基片的选择，使制备出的镀膜夹层玻璃既具有更厚的厚度、强度大以及硬度高等优良性能，又能够抵御台风等自然灾害。

具体实施方式

[0010] 为了详细说明本发明的技术内容、构造特征，以下结合实施方式作进一步说明。

[0011] 一种镀膜夹层玻璃的制备工艺，其特征在于，包括如下步骤，

[0012] 第一步：对第一玻璃基片进行镀膜处理；

[0013] 第二步：将镀膜处理后的所述第一玻璃基片、第二玻璃基片和胶片进行合片处理；

[0014] 第三步：合片处理后进行辊压处理和烧制处理。

[0015] 较佳地，在所述步骤中仅对所述第一玻璃基片进行镀膜处理是在真空条件下操作，采用真空磁控溅射工艺，该工艺是在真空条件下，以保证在第一玻璃基片上镀膜的质量，第一玻璃基片和第二玻璃基片优选钢化、半钢化玻璃，而将镀膜处理后的所述第一玻璃基片、第二玻璃基片和胶片进行合片处理不需要在真空条件下，能够节约时间、人力和物力，降低成本。

[0016] 较佳地，所述对第一玻璃基片镀膜处理后形成的复合膜层依次具有第一复合介质层、第一保护层、第一银层、第二保护层、第二复合介质层、第三保护层、第二银层、第四保护层、第三复合介质层、第五保护层、第三银层、第六保护层和第四复合介质层，Ag层作为最重要的功能层，Ag容易氧化，在各Ag层前后都增加保护层能够有效地对其进行保护，使其在后续的处理过程中不易被氧化，并且制得的镀膜夹层玻璃具有极低的红外热能透过率3％、辐射率0.02和传热系数1.66。

[0017] 较佳地，所述第一保护层、所述第二保护层、所述第三保护层、所述第四保护层、所述第五保护层和所述第六保护层中包含Ta、镍铬中的一种或两种，Ta化学性质稳定，热膨胀系数小，Ag膜层与Ta膜层之间能够形成混合层，能够更好地与Ag膜层结合，增强膜层结合力，同时起到有效保护Ag膜层的作用，镀NiCr的时候通入少量N2，使得NiCr中较活泼的Cr形成微量的CrN结构，同为氮化物，可以与SiN形成更好的结合，各保护层中添加Ta、NiCr既能提高膜层的耐氧化性能以保证在后续的辊压和烧制处理过程中膜层不被氧化，又能够有效增强Ag层的结合力，提高膜层的耐划伤性能，使第一玻璃基片表面的膜层在合片、辊压过程中，能抵抗机械设备对膜层直接的相互作用而产生的作用力，不产生划痕等缺陷，因此，在各保护层中添加Ta、NiCr以加强对Ag层的保护是使其满足后续加工的重要手段。例如辊压处理过程中复合膜层是裸露在空气中的，整个辊压-高压釜中处理的时间约10小时，对耐氧化性能要求很高。其次，对第一玻璃基片、第二玻璃基片较多的是采用清洗机清洗，复合膜层与清洗机等其他机械存在摩擦，有时相互作用力较大，如果复合膜层与第一玻璃基片之间结合力不够会出现相互移动或使用过程中易脱落或损坏，出现划伤而降低镀膜夹层玻璃的性能。

[0018] 较佳地，所述第一复合介质层、所述第二复合介质层、所述第三复合介质层和所述第四复合介质层中包含氮化硅、氧化锌、氧化锌锡、AZO中的一种或多种，其中，AZO为掺铝氧化锌，更优地，在各复合介质层中同时选择SiN和ZnO两种物质，在沉积SiN膜的时候加入少量O2，能够形成微量的SiOxNy结构，并在SiN和ZnO的界面处SiOxNy可以与ZnO更好的结合，能够增加氧化物膜与氮化物膜结合力，提高膜层的耐划伤性能。

[0019] 较佳地，所述第一复合介质层厚度为30～50nm、所述第一保护层厚度为1～6nm、所述第一银层厚度为5～20nm、所述第二保护层厚度为1～6nm、所述第二复合介质层厚度为60～100nm、所述第三保护层厚度为1～6nm、所述第二银层厚度为5～20nm、所述第四保护层厚度为1～6nm、所述第三复合介质层厚度为60～100nm、所述第五保护层厚度为1～6nm、所述第三银层厚度为5～20nm、所述第六保护层厚度为1～6nm、所述第四复合介质层厚度为20～50nm，各层的厚度在该范围内，使第一玻璃基片与所镀的膜层之间具有结合力好、耐氧化性能和耐划伤性能佳等优良性能。

[0020] 较佳地，所述第一银层、所述第二银层和所述第三银层的总厚度大于35nm，三层银层的总厚度应大于35nm，使镀膜夹层玻璃具有优异的节能性。

[0021] 较佳地，对所述镀膜夹层玻璃进行所述合片处理后所述胶片和所述镀膜处理形成的复合膜层在所述第一玻璃基片的相对两侧，胶片优选PVB、SGP、EVA胶片与第一玻璃基片和第二玻璃基片结合牢固。

[0022] 较佳地，所述辊压处理包括预辊压、分步加热和终辊压，所述预压辊的压力为0.1～0.3MPa，所述终压辊的压力为0.4～0.7MPa，所述分步加热为经所述预压辊后的镀膜夹层玻璃依次经过60～80℃、180～230℃、200～250℃、150～180℃加热区进行加热，辊压处理能加热胶片，同时加压使玻璃与胶片结合，辊压处理采用预辊压、分步加热和终辊压工艺，使第一玻璃基片、第二玻璃基片和胶片之间结合性能好，保证镀膜夹层玻璃性能更优异。

[0023] 烧制处理较多地选择在高压釜内烧制。

[0024] 以下对于本发明的镀膜夹层玻璃的制备工艺利用实施例进行详细的说明。

[0025] 实施例1

[0026] 一种镀膜夹层玻璃的制备工艺，包括如下步骤：

[0027] 第一步：

[0028] 对第一玻璃基片和第二玻璃基片进行清洗处理，第一玻璃基片和第二玻璃基片的厚度都为12mm；

[0029] 对第一玻璃基片镀膜处理，镀膜处理采用真空磁控溅射工艺；

[0030] 复合膜层为：第一复合介质层为：氮化硅(20nm)，氧化锌(10nm)，AZO(10nm)、第一保护层：钽(1nm)、第一银层(10nm)、第二保护层：镍铬(1nm)、第二复合介质层：氮化硅(20nm)，氧化锌(20nm)，氧化锌锡(20nm)，AZO(10nm)、第三保护层：镍铬(1nm)、第二银层(15nm)、第四保护层：镍铬(2nm)、第三复合介质层：氮化硅(25nm)，氧化锌锡(35nm)，氧化锌(20nm)，AZO(10nm)、第五保护层：钽(1nm)、第三银层(15nm)、第六保护层：钽(1nm)，镍铬(3nm)和第四复合介质层：AZO(10nm)，氧化锌(10nm)，氮化硅(20nm)；

[0031] 对镀膜后的第一玻璃基片进行清洗处理，不需真空条件；

[0032] 第二步：将镀膜后的第一玻璃基片、第二玻璃基片和胶片合片处理，第一玻璃基片、第二玻璃基片间铺设1.52mm的PVB胶片，不需真空条件；

[0033] 第三步：

[0034] 辊压处理，辊压处理包括预辊压、分步加热、终辊压，预压辊的压力为0.1MPa，终压辊的压力为0.4MPa，分步加热为经预压辊后的镀膜夹层玻璃依次经过60℃、180℃、200℃、150℃加热区；

[0035] 烧制处理，高压釜内进行烧制，温度为132℃，压力为13.0kg/cm2，保温90min后降温，降温速率为2℃/min，温度低于40℃时排气。

[0036] 实施例2

[0037] 一种镀膜夹层玻璃的制备工艺，包括如下步骤：

[0038] 第一步：对第一玻璃基片和第二玻璃基片进行清洗处理，第一玻璃基片和第二玻璃基片的厚度都为12mm；

[0039] 对第一玻璃基片镀膜处理，镀膜处理采用真空磁控溅射工艺；

[0040] 复合膜层为第一复合介质层为：氮化硅(10nm)，氧化锌(15nm)，AZO(10nm)、第一保护层：钽(1nm)、第一银层(12nm)、第二保护层：钽(2nm)、第二复合介质层：氮化硅(20nm)，氧化锌(20nm)，氧化锌锡(15nm)，AZO(10nm)、第三保护层：钽(1nm)、第二银层(16nm)、第四保护层：钽(1nm)，镍铬(1nm)、第三复合介质层：氮化硅(25nm)，氧化锌锡(20nm)，氧化锌(25nm)，AZO(10nm)、第五保护层：钽(1nm)、第三银层(15nm)、第六保护层：钽(2nm)，镍铬(3nm)和第四复合介质层：AZO(10nm)，氧化锌(10nm)，氮化硅(25nm)；

[0041] 对镀膜后的第一玻璃基片进行清洗处理，不需真空条件；

[0042] 第二步：将镀膜后的第一玻璃基片、第二玻璃基片和胶片合片处理，第一玻璃基片、第二玻璃基片间铺设1.90mmPVB胶片，不需真空条件；

[0043] 第三步：辊压处理，辊压处理包括预辊压、分步加热、终辊压，预压辊的压力为0.3MPa，终压辊的压力为0.7MPa，分步加热为经预压辊后的镀膜夹层玻璃依次经过80℃、
230℃、200℃、180℃加热区；

[0044] 烧制处理，高压釜内进行烧制，温度为135℃，压力为13.0kg/cm2，保温120min后降温，降温速率为4℃/min，温度低于40℃时排气。

[0045] 实施例3

[0046] 一种镀膜夹层玻璃的制备工艺，包括如下步骤：

[0047] 第一步：对第一玻璃基片和第二玻璃基片进行清洗处理，第一玻璃基片和第二玻璃基片的厚度都为12mm；

[0048] 对第一玻璃基片镀膜处理，镀膜处理采用真空磁控溅射工艺；

[0049] 复合膜层为第一复合介质层为：氮化硅(10nm)，氧化锌(20nm)、第一保护层：镍铬(2nm)，钽(1nm)、第一银层(13nm)、第二保护层：钽(2nm)、第二复合介质层：氮化硅(20nm)，氧化锌(40nm)，AZO(10nm)、第三保护层：镍铬(1nm)，钽(1nm)、第二银层(14nm)、第四保护层：钽(1nm)，镍铬(2nm)、第三复合介质层：氮化硅(25nm)，氧化锌锡(25nm)，氧化锌(25nm)、第五保护层：镍铬(1nm)，钽(1nm)、第三银层(15nm)、第六保护层：钽(2nm)，镍铬(3nm)和第四复合介质层：AZO(10nm)，氧化锌(20nm)，氮化硅(25nm)；

[0050] 对镀膜后的第一玻璃基片进行清洗处理，不需真空条件；

[0051] 第二步：将镀膜后的第一玻璃基片、第二玻璃基片和胶片合片处理，第一玻璃基片、第二玻璃基片间铺设1.52mmSGP胶片，不需真空条件；

[0052] 第三步：辊压处理，辊压处理包括预辊压、分步加热、终辊压，预压辊的压力为0.2MPa，终压辊的压力为0.5MPa，分步加热为经预压辊后的镀膜夹层玻璃依次经过70℃、
200℃、220℃、170℃加热区；

[0053] 烧制处理，高压釜内进行烧制，温度为135℃，压力为13.5kg/cm2，保温120min后降温，降温速率为4℃/min，温度低于40℃时排气。

[0054] 实施例4

[0055] 一种镀膜夹层玻璃的制备工艺，包括如下步骤：

[0056] 第一步：对第一玻璃基片和第二玻璃基片进行清洗处理，第一玻璃基片和第二玻璃基片的厚度都为12mm；

[0057] 对第一玻璃基片镀膜处理，镀膜处理采用真空磁控溅射工艺；

[0058] 复合膜层为第一复合介质层为：氧化锌(20nm)，氧化锌锡(10nm)、第一保护层：钽(1nm)、第一银层(5nm)、第二保护层：镍铬(1nm)、第二复合介质层：氮化硅(20nm)，氧化锌(20nm)，氧化锌锡(20nm)、第三保护层：镍铬(1nm)、第二银层(20nm)、第四保护层：镍铬(1nm)、第三复合介质层：氮化硅(25nm)，氧化锌锡(35nm)、第五保护层：钽(1nm)、第三银层(5nm)、第六保护层：钽(1nm)和第四复合介质层：AZO(10nm)，氮化硅(5nm)，氧化锌(5nm)；

[0059] 对镀膜后的第一玻璃基片进行清洗处理，不需真空条件；

[0060] 第二步：将镀膜后的第一玻璃基片、第二玻璃基片和胶片合片处理，第一玻璃基片、第二玻璃基片间铺设1.90mmSGP胶片，不需真空条件；

[0061] 第三步：辊压处理，辊压处理包括预辊压、分步加热、终辊压，预压辊的压力为0.1MPa，终压辊的压力为0.4MPa，分步加热为经预压辊后的镀膜夹层玻璃依次经过60℃、
180℃、250℃、150℃加热区；

[0062] 烧制处理，高压釜内进行烧制，温度为132℃，压力为13.5kg/cm2，保温90min后降温，降温速率为2℃/min，温度低于40℃时排气。

[0063] 实施例5

[0064] 一种镀膜夹层玻璃的制备工艺，包括如下步骤：

[0065] 第一步：对第一玻璃基片和第二玻璃基片进行清洗处理，第一玻璃基片和第二玻璃基片的厚度都为12mm；

[0066] 对第一玻璃基片镀膜处理，镀膜处理采用真空磁控溅射工艺；

[0067] 复合膜层为第一复合介质层为：氮化硅(20nm)，氧化锌(10nm)，AZO(20nm)、第一保护层：钽(6nm)、第一银层(20nm)、第二保护层：镍铬(6nm)、第二复合介质层：氮化硅(20nm)，氧化锌(20nm)，氧化锌锡(20nm)，AZO(40nm)、第三保护层：镍铬(6nm)、第二银层(5nm)、第四保护层：镍铬(6nm)、第三复合介质层：氮化硅(25nm)，氧化锌锡(35nm)，氧化锌(20nm)，AZO(20nm)、第五保护层：钽(6nm)、第三银层(20nm)、第六保护层：钽(3nm)，镍铬(3nm)和第四复合介质层：AZO(20nm)，氧化锌(10nm)，氮化硅(20nm)；

[0068] 对镀膜后的第一玻璃基片进行清洗处理，不需真空条件；

[0069] 第二步：将镀膜后的第一玻璃基片、第二玻璃基片和胶片合片处理，第一玻璃基片、第二玻璃基片间铺设1.90mmEVA胶片，不需真空条件；

[0070] 第三步：辊压处理，辊压处理包括预辊压、分步加热、终辊压，预压辊的压力为0.1MPa，终压辊的压力为0.4MPa，分步加热为经预压辊后的镀膜夹层玻璃依次经过60℃、
180℃、220℃、150℃加热区；

[0071] 烧制处理，高压釜内进行烧制，温度为132℃，压力为13.0kg/cm2，保温90min后降温，降温速率为2℃/min，温度低于40℃时排气。

[0072] 实施例6

[0073] 一种镀膜夹层玻璃的制备工艺，包括如下步骤：

[0074] 第一步：对第一玻璃基片和第二玻璃基片进行清洗处理，第一玻璃基片和第二玻璃基片的厚度都为12mm；

[0075] 对第一玻璃基片镀膜处理，镀膜处理采用真空磁控溅射工艺；

[0076] 复合膜层为第一复合介质层为：氮化硅(10nm)，氧化锌(15nm)，AZO(10nm)、第一保护层：钽(1nm)、第一银层(20nm)、第二保护层：钽(2nm)、第二复合介质层：氮化硅(20nm)，氧化锌(20nm)，氧化锌锡(15nm)，AZO(10nm)、第三保护层：钽(1nm)、第二银层(10nm)、第四保护层：钽(1nm)，镍铬(1nm)、第三复合介质层：氮化硅(25nm)，氧化锌锡(20nm)，氧化锌(25nm)，AZO(10nm)、第五保护层：钽(1nm)、第三银层(10nm)、第六保护层：钽(2nm)，镍铬(3nm)和第四复合介质层：AZO(10nm)，氧化锌(10nm)，氮化硅(25nm)；

[0077] 对镀膜后的第一玻璃基片进行清洗处理；

[0078] 第二步：将镀膜后的第一玻璃基片、第二玻璃基片和胶片合片处理，第一玻璃基片、第二玻璃基片间铺设1.52mmPVB胶片，不需真空条件；

[0079] 第三步：辊压处理，辊压处理包括预辊压、分步加热、终辊压，预压辊的压力为0.3MPa，终压辊的压力为0.7MPa，分步加热为经预压辊后的镀膜夹层玻璃依次经过80℃、
230℃、220℃、180℃加热区；

[0080] 烧制处理，高压釜内进行烧制，温度为135℃，压力为13.0kg/cm2，保温120min后降温，降温速率为4℃/min，温度低于40℃时排气。

[0081] 对比例1

[0082] 一种镀膜夹层玻璃的制备工艺，包括如下步骤：

[0083] 第一步：对第一玻璃基片和第二玻璃基片进行清洗处理，第一玻璃基片和第二玻璃基片的厚度都为5mm；

[0084] 对第一玻璃基片进行清洗处理；

[0085] 将清洗后的第一玻璃基片、第二玻璃基片和胶片合片处理，第一玻璃基片、第二玻璃基片间铺设0.76mm的PVB胶片，真空条件；

[0086] 第二步：对第一玻璃基片未接触胶片的一面进行镀膜处理，镀膜处理采用真空磁控溅射工艺；

[0087] 复合膜层为第一复合介质层为：氮化硅(20nm)，氧化锌(10nm)，AZO(10nm)、第一保护层：钽(1nm)、第一银层(10nm)、第二保护层：镍铬(1nm)、第二复合介质层：氮化硅(20nm)，氧化锌(20nm)，氧化锌锡(20nm)，AZO(10nm)、第三保护层：镍铬(1nm)、第二银层(15nm)、第四保护层：镍铬(2nm)、第三复合介质层：氮化硅(25nm)，氧化锌锡(35nm)，氧化锌(20nm)，AZO(10nm)、第五保护层：钽(1nm)、第三银层(15nm)、第六保护层：钽(1nm)，镍铬(3nm)和第四复合介质层：AZO(10nm)，氧化锌(10nm)，氮化硅(20nm)；

[0088] 第三步：辊压处理，辊压处理包括预辊压、分步加热、终辊压，预压辊的压力为0.1MPa，终压辊的压力为0.4MPa，分步加热为经预压辊后的镀膜夹层玻璃依次经过60℃、
180℃、200℃、150℃加热区；

[0089] 烧制处理，高压釜内进行烧制，温度为132℃，压力为13.0kg/cm2，保温90min后降温，降温速率为2℃/min，温度低于40℃时排气。

[0090] 对比例2

[0091] 一种镀膜夹层玻璃的制备工艺，包括如下步骤：

[0092] 第一步：对第一玻璃基片和第二玻璃基片进行清洗处理，第一玻璃基片和第二玻璃基片的厚度都为8mm；

[0093] 对第一玻璃基片进行清洗处理；

[0094] 将清洗后的第一玻璃基片、第二玻璃基片和胶片合片处理，第一玻璃基片、第二玻璃基片间铺设1.52mm的PVB胶片，真空条件；

[0095] 第二步：对第一玻璃基片未接触胶片的一面进行镀膜处理，镀膜处理采用真空磁控溅射工艺；

[0096] 复合膜层为第一复合介质层为：氮化硅(20nm)，氧化锌(10nm)，AZO(10nm)、第一保护层：钽(1nm)、第一银层(10nm)、第二保护层：镍铬(1nm)、第二复合介质层：氮化硅(20nm)，氧化锌(20nm)，氧化锌锡(20nm)，AZO(10nm)、第三保护层：镍铬(1nm)、第二银层(15nm)、第四保护层：镍铬(2nm)、第三复合介质层：氮化硅(25nm)，氧化锌锡(35nm)，氧化锌(20nm)，AZO(10nm)、第五保护层：钽(1nm)、第三银层(15nm)、第六保护层：钽(1nm)，镍铬(3nm)和第四复合介质层：AZO(10nm)，氧化锌(10nm)，氮化硅(20nm)；

[0097] 第三步：辊压处理，辊压处理包括预辊压、分步加热、终辊压，预压辊的压力为0.1MPa，终压辊的压力为0.4MPa，分步加热为经预压辊后的镀膜夹层玻璃依次经过60℃、
180℃、200℃、150℃加热区；

[0098] 烧制处理，高压釜内进行烧制，温度为132℃，压力为13.0kg/cm2，保温90min后降温，降温速率为2℃/min，温度低于40℃时排气。

[0099] 将实施例1-6与对比例1-2制备的镀膜夹层玻璃进行夹层霰弹袋冲击性能实验，结果如下表所示。

[0100] 夹层霰弹袋冲击性能实验依据国标GB 15763.3标准要求进行。

[0101] 试样要求：试样规格为(1930±2)mm×(864±2)mm，4片/组。试样需在温度20±5℃、相对湿度40～80％、气压：8.60×104～1.06×105Pa的条件下至少放置12h，再进行试验。

[0102] 试验方法：将试样装在试验框架上，薄的一层朝向冲击体。使用45kg±0.1kg的霰弹袋按300mm、750mm和1200mm的高度依次冲击试样各一次。每次冲击后检测试样破坏情况。

[0103]

[0104] 从上表可知，实施例1-6与对比例1-2相比，其第一玻璃基片和第二玻璃基片的厚度都为12mm，而对比例1的第一玻璃基片和第二玻璃基片的厚度为5mm，对比例2的第一玻璃基片和第二玻璃基片的厚度为8mm，因而，实施例1-6的强度比对比例1-2都大。上述第一玻璃基片和第二玻璃基片均经过半钢化处理。

[0105] 以上所揭露的仅为本申请的较佳实例而已，不能以此来限定本申请之权利范围，因此依本申请权利要求所作的等同变化，均属于本申请所涵盖的范围。