一种轴承打磨工艺

摘要

本发明属于用于对工件进行磨削或抛光的工艺技术领域，具体公开了一种轴承打磨工艺，包括一种打磨装置，所述打磨装置包括内圆打磨部、磨料循环部和外圆打磨部，所述外圆打磨部内设有废料分离机构，所述外圆打磨部上设有磨料循环部；通过上述结构实现磨料同时打磨轴承套圈的内圆与外圆，进而解决现有技术对于轴承内圆和外圆的打磨需要不同的磨床来进行的问题。

权利要求

1.一种轴承打磨工艺，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1：准备粒径为10～18μm的磨料；准备打磨装置，所述打磨装置包括内圆打磨箱、磨料循环部和外圆打磨箱，所述外圆打磨箱内设有废料分离机构，所述外圆打磨箱上设有磨料循环部；

步骤2：所述内圆打磨箱内底面上安装有定位机构，定位机构包括通过螺栓与内圆打磨箱底面连接的横截面呈半圆环状的第一橡胶防滑片，第一橡胶防滑片沿径向一端一体成型的第二橡胶防滑片，第一橡胶防滑片另一端从端面到与内圆打磨箱内底面连接处的外表面上开有间隔均匀的卡槽，第二橡胶防滑片距离其端部5cm处的内表面上一体成型有与卡槽配合的挂钩；将需要打磨内圆的轴承套圈放入内圆打磨箱内的第一橡胶防滑片的内凹面上，而后将第二橡胶防滑片的自由端拉至无法继续拉动，而后将挂钩与距离最近的卡槽卡合，完成对轴承套圈的定位；把需要打磨外圆的轴承套圈放入外圆打磨箱内并套在转动轴上，而后将螺杆旋入盲孔内直至压板与转动轴相抵，完成对轴承套圈的定位，使得需要打磨外圆的轴承套圈定位在外圆打磨箱中间高度位置；

步骤3：从进料口将准备好的磨料全部倒入内圆打磨箱中，在内圆打磨箱下端面设置一个铰点；

步骤4：驱动打磨装置不断绕铰点上下摆动，使得磨料在内圆打磨箱内不断滑动，使得磨料不断在轴承套圈的内圆上滑动，对轴承套圈内圆进行打磨抛光；同时磨料在滑动过程中由于重力滑落到外圆打磨箱中，并与外圆打磨箱内的轴承套圈接触，实现对轴承套圈的外圆的打磨；

步骤5：将废料分离机构设置在磨料打磨完轴承套圈外圆后落下的轨迹上，通过废料分离机构将磨料打磨之后夹杂的金属碎屑从磨料中分离出，所述废料分离机构为电磁铁；

步骤6：被分离完废料的磨料通过磨料循环部重新进入内圆打磨箱内，继续进行打磨；

步骤7：步骤5～步骤6不断循环持续40～50min后，完成打磨。

2.根据权利要求1所述的一种轴承打磨工艺，其特征在于：所述内圆打磨箱每分钟绕铰点摆动40～60次。

3.根据权利要求1所述的一种轴承打磨工艺，其特征在于：磨料优选为碳化硅颗粒。

4.根据权利要求1所述的一种轴承打磨工艺，其特征在于：内圆打磨箱和外圆打磨箱内温度保持在20℃±1℃。

5.根据权利要求1所述的一种轴承打磨工艺，其特征在于：内圆打磨箱和外圆打磨箱内相对湿度小于70.5％。

说明书

一种轴承打磨工艺

技术领域

[0001] 本发明属于用于对工件进行磨削或抛光的工艺技术领域，具体公开了一种轴承打磨工艺。

背景技术

[0002] 轴承是如今的机械设备中一种重要零部件。轴承的主要功能是支撑机械旋转体，降低其运动过程中的摩擦系数，并保证其回转精度。其中向心滚动轴承是使用量最大的轴承之一，向心滚动轴承的组成通常包括内圈、外圈、滚动体和保持架；内圈的作用是与轴相配合并与轴一起旋转；外圈作用是与轴承座相配合，起支撑作用，轴承内圈和外圈统称为轴承套圈，其中轴承外圈的内圆和轴承内圈的外圆均为直接与滚动体接触的接触面，由于轴承套圈直接与滚动体接触，因此为了降低摩擦系数，对于轴承套圈与滚动体的接触面的表面粗糙度有着很高的要求。

[0003] 现在人们通常通过磨床对轴承套圈进行磨加工，由于轴承套圈的内圆和外圆均需要打磨，而现有技术中完成这一步骤需要用到内圆磨床和外圆磨床来分别对轴承套圈的内圆和外圆进行打磨，这就使得厂家需要购置多台磨床才能完成内圆和外圆的打磨抛光，使得生产成本增加。

发明内容

[0004] 本发明公开了一种轴承打磨工艺，意在解决目前对于轴承内圆和外圆的打磨需要不同的磨床来进行的问题。

[0005] 本发明的基础方案为：一种轴承打磨工艺，包括如下步骤：

[0006] 步骤1：准备粒径为10～18μm的磨料；准备打磨装置，所述打磨装置包括内圆打磨箱、磨料循环部和外圆打磨箱，所述外圆打磨箱内设有废料分离机构，所述外圆打磨箱上设有磨料循环部；

[0007] 步骤2：将需要打磨内圆的轴承套圈放入内圆打磨箱内并对轴承套圈进行定位；把需要打磨外圆的轴承套圈放入外圆打磨箱内并将轴承套圈进行定位，使得需要打磨外圆的轴承套圈定位在外圆打磨箱中间高度位置；

[0008] 步骤3：从进料口将准备好的磨料全部倒入内圆打磨箱中，在内圆打磨箱下端面设置一个铰点；

[0009] 步骤4：驱动打磨装置不断绕铰点上下摆动，使得磨料在内圆打磨箱内不断滑动，使得磨料不断在轴承套圈的内圆上滑动，对轴承套圈内圆进行打磨抛光；同时磨料在滑动过程中由于重力滑落到外圆打磨箱中，并与外圆打磨箱内的轴承套圈接触，实现对轴承套圈的外圆的打磨；

[0010] 步骤5：将废料分离机构设置在磨料打磨完轴承套圈外圆后落下的轨迹上，通过废料分离机构将磨料打磨之后夹杂的金属碎屑从磨料中分离出；

[0011] 步骤6：被分离完废料的磨料通过磨料循环部重新进入内圆打磨箱内，继续进行打磨；

[0012] 步骤7：步骤5～步骤6不断循环持续40～50min后，完成打磨。

[0013] 本发明的技术原理和有益效果在于：

[0014] 1.本工艺中步骤4中使得内圆打磨箱绕着铰点上下摆动，从而使得从进料口进入的磨料在内圆打磨箱内左右滑动，磨料在滑动过程中经过轴承套圈内圆并与轴承套圈内圆之间产生摩擦，进而实现对轴承套圈内圆的精打磨和抛光。由于是利用磨料自身重力对轴承套圈进行打磨，磨料在倒入内圆打磨箱后分散在内圆打磨箱内，从而使得接触面积增大，使得压力分散，与现有的磨床相比，不会出现因工人操作失误而一次进给太多造成工件损坏的问题。

[0015] 2.本工艺步骤4中通过在将需要打磨外圆的轴承套圈定位在外圆打磨箱中间高度位置，磨料落入外圆打磨箱时，在自身重力作用下，落到轴承套圈外圆上并与轴承套圈外圆产生摩擦，实现对轴承套圈外圆的抛光打磨，由于是依靠磨料的重力所以不需要额外的动力，使得能耗降低，成本也降低。

[0016] 3.本工艺步骤5中磨料在打磨完轴承套圈外圆后做自由落体运动，而由于废料分离机构设置在磨料落下的轨迹上，使得磨料在对轴承套圈的内圆和外圆进行打磨后，带着工件表面打磨下来的金属碎屑和粉末通过废料分离机构时，金属碎屑和粉末被废料分离机构分离，进而实现对废料的分离，既可以保证磨料内无杂质，又可以实现废料的回收，进一步降低成本。

[0017] 4.本工艺步骤6中通过设置磨料循环部，使得经过分离废料的磨料重新进入内圆打磨箱内，开始新一轮的打磨，如此循环实现磨料的循环加料，使得使用本工艺进行打磨时只需要添加一次磨料，大大节省了购置磨料的成本，并且减少了工人添加磨料的步骤。

[0018] 进一步，所述内圆打磨箱每分钟绕铰点摆动40～60次。保证内圆打磨箱的每一次摆动均给磨料留有足够的时间从内圆打磨箱内滑到外圆打磨箱中。

[0019] 进一步，磨料优选为碳化硅颗粒。碳化硅颗粒由于化学性能稳定、导热系数高、热膨胀系数小、耐磨性能好因此是磨料的优良选择。

[0020] 进一步，内圆打磨箱和外圆打磨箱内温度保持在20℃±1℃。由于打磨过程中有摩擦热，因此温度会升高，保证内圆打磨箱和外圆打磨箱内较低的温度，使得摩擦热的散失更快，保证被打磨工件的品质。

[0021] 进一步，内圆打磨箱和外圆打磨箱内相对湿度小于70.5％。湿度过大时会导致磨料与工件被水分浸润，造成摩擦力降低，使得打磨效果下降。

附图说明

[0022] 图1为本发明中打磨装置整体的结构示意图；

[0023] 图2为本发明中打磨装置中的定位机构的剖视图。

具体实施方式

[0024] 下面通过具体实施方式进一步详细说明：

[0025] 说明书附图中的附图标记包括：机架1、内圆打磨箱2、外圆打磨箱3、入料口4、定位机构5、液压缸6、支柱7、转动轴8、送料通道9、电磁铁10、收集槽11、驱动轴12、螺旋叶片13、输送通道14、中转箱15、加料通道16、第一橡胶防滑片17、第二橡胶防滑片18、卡槽19、挂钩20、轴承套圈21。

[0026] 实施例基本如图1和图2所示：打磨装置包括一个左高右低的机架1，机架1上左边较高的端面上安装有内圆打磨箱2，机架1右边较低的端面上固定安装有外圆打磨箱3。

[0027] 内圆打磨箱2内底面上安装有定位机构5，定位机构5包括通过螺栓与内圆打磨箱2底面连接的横截面呈半圆环状的第一橡胶防滑片17，第一橡胶防滑片17沿径向一端一体成型的第二橡胶防滑片18，第一橡胶防滑片17另一端从端面到与内圆打磨箱2内底面连接处的外表面上开有间隔均匀的卡槽19，第二橡胶防滑片18距离其端部5cm处的内表面上一体成型有与卡槽19配合的挂钩20，内圆打磨箱2上端面开有入料口4，内圆打磨箱2的侧壁上开有第一工件入口，第一工件入口的边缘铰接有第一盖板，内圆打磨箱2下端面与机架1之间安装有支柱7，支柱7一端与内圆打磨箱2下端面铰接另一端与机架1固定连接，内圆打磨箱2下端面与机架1之间还固定安装有液压缸6，液压缸6输出端与支柱7左侧的内圆打磨箱2下端面固定连接。

[0028] 外圆打磨箱3内侧壁上转动连接有转动轴8，转动轴8与外圆打磨箱3内侧壁转动连接的一端伸出外圆打磨箱3内侧壁并与电机固定连接，电机固定安装于外圆打磨箱3外侧壁，转动轴8远离电机的一端沿轴向开有盲孔，盲孔内螺纹连接有螺杆，螺杆远离盲孔的一端一体成型有压板，转动轴8右下方的外圆打磨箱3内侧壁上固定安装有电磁铁10，电磁铁10与转动轴8之间的连线与铅垂线之间的夹角为20°，电磁铁10右下方的外圆打磨箱3内底面上固定安装有收集槽11，收集槽11中心点和电磁铁10的连线与铅垂线之间的夹角为15°，外圆打磨箱3侧壁上开有第二工件入口，第二工件入口的边缘铰接有第二盖板。

[0029] 收集槽11正下方的外圆打磨箱3下端面上固定安装有电机，电机固定连接有驱动轴12，驱动轴12竖直伸入外圆打磨箱3内并伸出外圆打磨箱3上端面，驱动轴12侧壁上固定连接有螺旋叶片13，螺旋叶片13周向安装有与螺旋叶片13外缘接触的输送通道14，输送通道14下端距离收集槽11底面20cm，输送通道14上端伸出外圆打磨箱3上端面并固定连接有中转箱15，驱动轴12和螺旋叶片13伸入中转箱1510cm，中转箱15左侧壁上固定连接有加料通道16，加料通道16另一端与入料口4对准，中转箱15下端面比内圆打磨箱2上端面高50cm，内圆打磨箱2右侧壁上固定连接有送料通道9，送料通道9下端面与内圆打磨箱2内底面处于同一水平面，送料通道9穿过外圆打磨箱3左侧壁并伸入外圆打磨箱3内部10cm外圆打磨箱3左侧壁开有边长为50cm的开口，送料通道9穿过开口，送料通道9的高度高于转动轴8。

[0030] 具体实施时，步骤如下：

[0031] 步骤1：准备粒径为12μm的碳化硅颗粒25kg作为磨料；

[0032] 步骤2：打开第一盖板，将需要打磨内圆的轴承套圈21放入内圆打磨箱2内并安放在第一橡胶防滑套的内凹面上，而后将第二橡胶防滑套的自由端拉至无法继续拉动，而后将挂钩20与距离最近的卡槽19卡合，完成对轴承套圈21的定位，然后盖合第一盖板；

[0033] 步骤3：打开第二盖板，将需要打磨外圆的轴承套圈21放入外圆打磨箱3内并套在转动轴8上，而后将螺杆旋入盲孔内直至压板与转动轴8相抵，完成对轴承套圈21的限位，然后盖合第二盖板；

[0034] 步骤5：从进料口将准备好的碳化硅颗粒全部倒入内圆打磨箱2中；

[0035] 步骤6：启动液压缸6、电磁铁10和电机，使得内圆打磨箱2在液压缸6输出端不断的上下运动下绕着与支柱7的铰接点上下摆动，进而使得碳化硅颗粒在内圆打磨箱2内左右滑动，在碳化硅颗粒左右滑动的过程中穿过轴承套圈21的内圆，与轴承套圈21的内圆发生摩擦，进而实现对轴承套圈21内圆的抛光打磨；

[0036] 由于内圆打磨箱2在不停地摆动，送料通道9也随着内圆打磨箱2不断摆动，因此当送料通道9向下倾斜时，磨料在重力的作用下从送料通道9内滑入外圆打磨箱3内，磨料脱离送料通道9后继续做自由落体运动，并落到轴承套圈21的外圆上，与外圆产生摩擦，进而实现对外圆的打磨；

[0037] 当磨料经过转动轴8后，继续下落，经过电磁铁10，电磁铁10将磨料在打磨过程中磨下的金属粉末和碎屑吸附住，实现对磨料中的废料的收集和除杂；

[0038] 磨料经过电磁铁10后落入收集槽11中，这时磨料被螺旋叶片13向上抬升到中转箱15内，而后由于中转箱15下端面高于内圆打磨箱2上端面，因此在高度差的作用下，磨料由于重力沿着加料通道16滑向入料口4，从入料口4回到内圆打磨箱2内，实现磨料的循环打磨效果。

[0039] 步骤6：步骤5持续35min后，关闭液压缸6、电磁铁10和电机；

[0040] 步骤7：打开第一盖板，而后将第二橡胶防滑片18上的挂钩20拉出卡槽19，进而将轴承套圈21取出；

[0041] 步骤8：打开第二盖板，而后将螺杆旋出盲孔，取出套在转动轴8上的轴承套圈21，完成轴承套圈21内圆和外圆的打磨。

[0042] 以上所述的仅是本发明的实施例，方案中公知的具体结构及特性等常识在此未作过多描述。应当指出，对于本领域的技术人员来说，在不脱离本发明结构的前提下，还可以作出若干变形和改进，这些也应该视为本发明的保护范围，这些都不会影响本发明实施的效果和专利的实用性。