一种Gamma自动调整的方法和系统

摘要

本发明提供一种Gamma自动调整的方法和系统，所述方法包括以下步骤：在液晶面板光配向过程中，先获取各工艺站点中影响Gamma值的主影响因子的参数，其中，所述Gamma值在预设范围内；当检测到至少一所述主影响因子的参数发生变动时，调用Gamma模型；所述Gamma模型根据检测到的所述主影响因子的变动参数计算所述主影响因子的调整参数，并将所述调整参数输出至UV照射机台；所述UV照射机台根据所述调整参数照射所述液晶面板，使所述Gamma值保持在所述预设范围内，以使所述液晶面板中的液晶层的单体形成于所述调整参数对应的配向层/配向构件上。

权利要求

1.一种Gamma自动调整的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：步骤S1、在液晶面板光配向过程中，获取各工艺站点中影响Gamma值且与所述Gamma值强相关的主影响因子的参数，其中，所述Gamma值在预设范围内；

步骤S2、当检测到至少一所述主影响因子的参数发生变动时，调用Gamma模型；

步骤S3、所述Gamma模型根据检测到的所述主影响因子的变动参数计算所述主影响因子的调整参数，并将所述调整参数输出至UV照射机台；

步骤S4、所述UV照射机台根据所述调整参数照射所述液晶面板，使所述Gamma值保持在所述预设范围内，以使所述液晶面板中的液晶层的单体形成于所述调整参数对应的配向层/配向构件上。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述步骤S1之前，所述方法还包括以下步骤：步骤S101、获取液晶面板光配向的各工艺站点中影响Gamma值的影响因子；

步骤S102、检定所述影响因子与所述Gamma值的关联性；

步骤S103、获取与所述Gamma值为强相关的主影响因子，拟合出所述Gamma值与所述主影响因子之间的关系式；

步骤S104、根据所述关系式建立Gamma模型。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述影响因子包括透明电极临界尺寸、聚酰亚胺薄膜厚度、聚酰亚胺薄膜固烤温度、胶框固化炉温度、液晶材料以及UV照射积算光量。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述主影响因子包括所述透明电极临界尺寸与所述UV照射积算光量。

5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，拟合出的所述Gamma值与所述主影响因子之间的关系式为：Gamma＝a*透明电极临界尺寸+b*UV照射积算光量+c

其中，a为所述透明电极临界尺寸的相关系数，b为所述UV照射积算光量的相关系数，c为常数。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述步骤S3包括：所述Gamma模型根据检测到的所述透明电极临界尺寸的变动参数，计算所述UV照射积算光量的相应调整参数，并将所述调整参数输出至所述UV照射机台。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述步骤S4包括：所述UV照射机台根据所述调整参数调整对所述液晶面板的照射强度或照射时间，以使所述Gamma值保持在所述预设范围内。

8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，验证所述UV照射机台的所述UV照射积算光量的最大冗余量，且对应所述调整参数的所述UV照射积算光量小于等于所述最大冗余量。

9.一种Gamma自动调整的系统，其特征在于，包括：

检测单元，在液晶面板的光配向过程中，用以检测各工艺站点中影响Gamma值且与所述Gamma值强相关的主影响因子的参数；

Gamma模型单元，当所述检测单元检测到至少一所述主影响因子的参数发生变动时，用以计算所述Gamma值在预设范围内的对应所述主影响因子的调整参数，并用以将所述调整参数输出至UV照射机台；

调整单元，根据所述Gamma模型单元的所述调整参数，用以调整所述UV照射机台的参数照射所述液晶面板，以使所述Gamma值保持在所述预设范围内，以使所述液晶面板中的液晶层的单体形成于所述调整参数对应的配向层/配向构件上。

10.根据权利要求9所述的系统，其特征在于，所述Gamma值与所述主影响因子之间的关系是强相关，所述主影响因子包括透明电极临界尺寸与UV照射积算光量；

当所述检测单元检测到所述透明电极临界尺寸的参数发生变动时，所述Gamma模型单元用以计算所述UV照射积算光量的调整参数；

所述调整单元根据所述调整参数，用以调整所述UV照射机台对所述液晶面板的照射强度或照射时间。

说明书

一种Gamma自动调整的方法和系统

技术领域

[0001] 本发明涉及TFT LCD显示面板制造领域，尤其涉及一种Gamma自动调整的方法和系统。

背景技术

[0002] 在TFT LCD生产工艺中，越来越多的高世代线(G8代线及以上)采用液晶光配向技术代替传统的用摩擦方式对PI膜进行配向，液晶光配向技术是指在给基板施加电压的情况下，通过紫外线UV光照射促使面板内单体反应，从而达到液晶配向的目的。在光配向过程中，我们可以控制UV光的照射强度及照射时间等参数来优化产品的品质，尤其是对TFT LCD产品的光学特性影响比较大。

[0003] 在产品的光学特性中有一项Gamma特性很重要，Gamma是对TFT LCD面板各灰阶亮度值整体的描述，其与穿透面板的亮度成正比，当Gamma值为2.2时，面板对人眼呈现最佳观影效果。我们知道影响穿透面板的亮度与TFT LCD生产工艺中很多站点及制程参数相关，但这些站点的制程参数常常发生变异(制程变异)，导致穿透面板的亮度受到影响，从而导致Gamma值不佳，进而影响面板的观影效果。

[0004] 因此，有必要提供一种能维持Gamma值最佳的方法，以解决现有技术所存在的问题。

发明内容

[0005] 本发明提供的一种Gamma自动调整的方法和系统，能够使Gamma值保持最佳，从而提升产品的光学特性。

[0006] 为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：

[0007] 本发明提供一种Gamma自动调整的方法，所述方法包括以下步骤：

[0008] 步骤S1、在液晶面板光配向过程中，获取各工艺站点中影响Gamma值的主影响因子的参数，其中，所述Gamma值在预设范围内；

[0009] 步骤S2、当检测到至少一所述主影响因子的参数发生变动时，调用Gamma模型；

[0010] 步骤S3、所述Gamma模型根据检测到的所述主影响因子的变动参数计算所述主影响因子的调整参数，并将所述调整参数输出至UV照射机台；

[0011] 步骤S4、所述UV照射机台根据所述调整参数照射所述液晶面板，使所述Gamma值保持在所述预设范围内，以使所述液晶面板中的液晶层的单体形成于所述调整参数对应的配向层/配向构件上。

[0012] 根据本发明一优选实施例，在所述步骤S1之前，所述方法还包括以下步骤：

[0013] 步骤S101、获取液晶面板光配向的各工艺站点中影响Gamma值的影响因子；

[0014] 步骤S102、检定所述影响因子与所述Gamma值的关联性；

[0015] 步骤S103、获取与所述Gamma值为强相关的主影响因子，拟合出所述Gamma值与所述主影响因子之间的关系式；

[0016] 步骤S104、根据所述关系式建立Gamma模型。

[0017] 根据本发明一优选实施例，所述影响因子包括透明电极临界尺寸、聚酰亚胺薄膜厚度、聚酰亚胺薄膜固烤温度、胶框固化炉温度、液晶材料以及UV照射积算光量。

[0018] 根据本发明一优选实施例，所述主影响因子包括所述透明电极临界尺寸与所述UV照射积算光量。

[0019] 根据本发明一优选实施例，拟合出的所述Gamma值与所述主影响因子之间的关系式为：

[0020] Gamma＝a*透明电极临界尺寸+b*UV照射积算光量+c

[0021] 其中，a为所述透明电极临界尺寸的相关系数，b为所述UV照射积算光量的相关系数，c为常数。

[0022] 根据本发明一优选实施例，所述步骤S3包括：所述Gamma模型根据检测到的所述透明电极临界尺寸的变动参数，计算所述UV照射积算光量的相应调整参数，并将所述调整参数输出至所述UV照射机台。

[0023] 根据本发明一优选实施例，所述步骤S4包括：所述UV照射机台根据所述调整参数调整对所述液晶面板的照射强度或照射时间，以使所述Gamma值保持在所述预设范围内。

[0024] 根据本发明一优选实施例，验证所述UV照射机台的所述UV照射积算光量的最大冗余量，且对应所述调整参数的所述UV照射积算光量小于等于所述最大冗余量。

[0025] 本发明还提供一种Gamma自动调整的系统，包括：

[0026] 检测单元，在液晶面板的光配向过程中，用以检测各工艺站点中影响Gamma值的主影响因子的参数；

[0027] Gamma模型单元，当所述检测单元检测到至少一所述主影响因子的参数发生变动时，用以计算所述Gamma值在预设范围内的对应所述主影响因子的调整参数，并用以将所述调整参数输出至UV照射机台；

[0028] 调整单元，根据所述Gamma模型单元的所述调整参数，用以调整所述UV照射机台的参数照射所述液晶面板，以使所述Gamma值保持在所述预设范围内，以使所述液晶面板中的液晶层的单体形成于所述调整参数对应的配向层/配向构件上。

[0029] 根据本发明一优选实施例，所述Gamma值与所述主影响因子之间的关系是强相关，所述主影响因子包括透明电极临界尺寸与UV照射积算光量；

[0030] 当所述检测单元检测到所述透明电极临界尺寸的参数发生变动时，所述Gamma模型单元用以计算所述UV照射积算光量的调整参数；

[0031] 所述调整单元根据所述调整参数，用以调整所述UV照射机台对所述液晶面板的照射强度或照射时间。

[0032] 本发明的有益效果为：相较于现有光配向技术中存在的Gamma值不佳，本发明提供的一种Gamma自动调整的方法和系统，通过找出液晶面板光配向过程中影响Gamma值的关键参数，以此建立Gamma模型，当相关参数发生变异时，将变异后的数据传送到UV照射机台，UV照射机台自动进行参数选择，以匹配前制程变异后的参数，使Gamma达到最佳值。避免了液晶面板光配向过程中不同站点因制程参数变异(制程变异)，导致穿透液晶面板的亮度受到影响，从而导致Gamma值不佳的问题。本发明能够使Gamma值保持最佳，从而提升液晶面板的光学特性，同时避免在模组工艺段因为调整Gamma值导致模组产能的损失。

附图说明

[0033] 为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

[0034] 图1为本发明提供的Gamma自动调整的方法流程图；

[0035] 图2为本发明提供的建立Gamma模型的方法流程图；

[0036] 图3为本发明提供的Gamma自动调整的系统示意图。

具体实施方式

[0037] 下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

[0038] 本发明针对现有光配向技术中，不同站点的制程参数常常发生变异(制程变异)，导致穿透面板的亮度受到影响，从而导致Gamma值不佳，进而影响面板的观影效果的技术问题，本实施例能够解决该缺陷。

[0039] 本发明通过六西格玛管理方式找出影响Gamma值的关键参数，建立模型，当相关参数发生变异时，将变异后的数据传送到UV(紫外线)照射机台，UV照射机台自动进行参数选择，以匹配前制程变异后的参数，使Gamma达到最佳值。

[0040] 参照图1所示，为本发明提供的Gamma自动调整的方法流程图，所示方法包括以下步骤：

[0041] 步骤S1、在液晶面板光配向过程中，获取各工艺站点中影响Gamma值的主影响因子的参数，其中，所述Gamma值在预设范围内；

[0042] 步骤S2、当检测到至少一所述主影响因子的参数发生变动时，调用Gamma模型；

[0043] 步骤S3、所述Gamma模型根据检测到的所述主影响因子的变动参数计算所述主影响因子的调整参数，并将所述调整参数输出至UV照射机台；

[0044] 步骤S4、所述UV照射机台根据所述调整参数照射所述液晶面板，使所述Gamma值保持在所述预设范围内，以使所述液晶面板中的液晶层的单体形成于所述调整参数对应的配向层/配向构件上。

[0045] 其中，在所述步骤S1之前，还包括建立所述Gamma模型的准备工作，参照图2所示，所述方法还包括以下步骤：

[0046] 步骤S101、获取液晶面板光配向的各工艺站点中影响Gamma值的影响因子；

[0047] 步骤S102、检定所述影响因子与所述Gamma值的关联性；

[0048] 步骤S103、获取与所述Gamma值为强相关的主影响因子，拟合出所述Gamma值与所述主影响因子之间的关系式；

[0049] 步骤S104、根据所述关系式建立Gamma模型。

[0050] 具体地，首先根据历史数据及专家经验，找到所述液晶面板在光配向过程中各工艺站点中影响所述Gamma值的所述影响因子，比如有透明电极临界尺寸(ITO CD)，聚酰亚胺薄膜(PI膜)厚度，聚酰亚胺薄膜固烤温度，框胶固化炉温度，液晶材料，UV照射积算光量等。然后使用MINITAB软件(是质量管理和六西格玛实施的软件工具)检定找到的所述影响因子与所述Gamma值的关联性，发现与所述Gamma值为强相关的所述主影响因子是所述透明电极临界尺寸和所述UV照射积算光量。其他所述影响因子对所述Gamma值具有影响，但需要做大幅度调整，才会对所述Gamma值有显著影响，如所述聚酰亚胺薄膜固烤温度要变更10℃，所述Gamma值才会有>0.1的变化，实际生产中所述聚酰亚胺薄膜固烤温度的变化幅度<3℃，对所述Gamma值影响不大。

[0051] 根据实验数据拟合出所述Gamma值与所述透明电极临界尺寸和所述UV照射积算光量的关系式，该关系式如下所示：

[0052] Gamma＝a*透明电极临界尺寸+b*UV照射积算光量+c

[0053] 其中，a为所述透明电极临界尺寸的相关系数，b为所述UV照射积算光量的相关系数，c为常数。对该关系式进行可信度验证，根据拟合的检定，该关系式R方>90％，表示该关系式可信度较高。当所述Gamma值确定为2.2(当Gamma值为2.2时，面板对人眼呈现最佳观影效果)，所述透明电极临界尺寸根据生产线量测结果已知，就可以根据上述关系式计算出所需要的所述UV照射积算光量。

[0054] 根据上述关系式建立所述Gamma模型，在所述液晶面板光配向过程中，检测各工艺站点中影响所述Gamma值的所述主影响因子的参数，当检测到至少一所述主影响因子的参数发生变动时，调用所述Gamma模型进行对所述Gamma值自动调节。

[0055] 例如，当测量所述透明电极临界尺寸的量测仪将量测到的所述透明电极临界尺寸的参数上传到所述Gamma模型，所述Gamma模型根据上述关系式计算出，若要使所述Gamma值在所述预设范围内时，所述UV照射积算光量的相应调整参数是多少，并将所述调整参数输出至所述UV照射机台，反馈给HVA制程，所述UV照射机台根据所述调整参数调整对所述液晶面板的照射强度或照射时间，以使所述Gamma值保持在所述预设范围内，以使所述液晶面板中的液晶层的单体形成于所述调整参数对应的配向层/配向构件上。其中，所述Gamma值的所述预设范围为2.0至2.4；优选地，该预设范围为2.1至2.3；优选地，所述Gamma值为2.2。但为了保持所述液晶面板上的所述照射强度的稳定性，通常可以只通过调整所述照射时间。同时我们需要验证所述UV照射机台的所述UV照射积算光量可调整的的最大冗余量，避免由于所述UV照射积算光量的调整造成所述液晶面板发生配向不良或其他衍生问题。而且，对应所述调整参数的所述UV照射积算光量应小于等于所述最大冗余量。

[0056] 通过上述步骤，建立了所述透明电极临界尺寸、所述UV照射积算光量与所述Gamma值的关联性，这样产线可以动态调整参数，以避免由于所述透明电极临界尺寸的变异造成所述液晶面板的所述Gamma值超出规格。

[0057] 同时上述方法不局限于所述透明电极临界尺寸对所述Gamma值的影响的调节，例如若验证结果显示所述PI膜厚的波动对所述Gamma值有显著影响，只需重新计算上述关系式，将所述PI膜厚的影响加入拟合出的关系式中。同时上述Gamma模型实时采集所述PI膜厚值，并经过计算，反馈给所述UV照射机台进行参数调整即可。此处不再赘述。

[0058] 本发明还提供一种Gamma自动调整的系统，参照图3所示，所述系统包括：检测单元301、Gamma模型单元302、调整单元303。在液晶面板的光配向制程之前，可先在所述Gamma模型单元302中建立Gamma模型，所述Gamma模型的建立与上述方法中的一致，此处不再赘述。

[0059] 所述检测单元301，用以检测所述液晶面板在光配向制程的各工艺站点中影响Gamma值的主影响因子的参数。

[0060] 其中，影响所述Gamma值的影响因子有透明电极临界尺寸，PI膜厚度，PI膜固烤温度，框胶固化炉温度，液晶材料，UV照射积算光量等。根据试验检定，所述主影响因子包括所述透明电极临界尺寸与所述UV照射积算光量；所述Gamma值与所述主影响因子之间的关系是强相关。

[0061] 所述Gamma模型单元302，当所述检测单元301检测到至少一所述主影响因子的参数发生变动时，用以计算所述Gamma值在预设范围内的对应所述主影响因子的调整参数，并用以将所述调整参数输出至UV照射机台。

[0062] 其中，当所述检测单元301检测到所述透明电极临界尺寸的参数发生变动时，所述Gamma模型单元302用以计算所述UV照射积算光量的调整参数；所述Gamma值的所述预设范围为2.0至2.4；优选地，该预设范围为2.1至2.3；优选地，所述Gamma值为2.2。

[0063] 所述调整单元303，根据所述Gamma模型单元302的所述调整参数，用以调整所述UV照射机台的参数照射所述液晶面板，以使所述Gamma值保持在所述预设范围内。

[0064] 其中，所述调整单元303根据所述调整参数，用以调整所述UV照射机台对所述液晶面板的照射强度或照射时间，优选的，只需要调整照射时间即可。以使所述液晶面板中的液晶层的单体形成于所述调整参数对应的配向层/配向构件上。

[0065] 相较于现有光配向技术中存在的Gamma值不佳，本发明提供的一种Gamma自动调整的方法和系统，通过找出液晶面板光配向过程中影响Gamma值的关键参数，以此建立Gamma模型，当相关参数发生变异时，将变异后的数据传送到UV照射机台，UV照射机台自动进行参数选择，以匹配前制程变异后的参数，使Gamma达到最佳值。避免了液晶面板光配向过程中不同站点因制程参数变异(制程变异)，导致穿透液晶面板的亮度受到影响，从而导致Gamma值不佳的问题。本发明能够使Gamma值保持最佳，从而提升液晶面板的光学特性，同时避免在模组工艺段因为调整Gamma值导致模组产能的损失。

[0066] 综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。