传输系统与方法

摘要

一种传输系统与方法。传输系统包含负载端口、多个第一轨道、水平移动装置、升降机、至少一第二轨道与第一缓冲载台。负载端口是设置于与半导体制程有关的机台。至少部分的第一轨道之间的空间是位于负载端口的正上方。水平移动装置是可移动性地耦合第一轨道。升降机是设置于水平移动装置。第二轨道具有连续的第一区段与第二区段，第一区段是位于第一轨道之间的空间的正下方，且第二区段是不位于第一轨道之间的空间的正下方。第一缓冲载台是可移动性地耦合第二轨道。

权利要求

1.一种传输系统，其特征在于，包含：

一负载端口，设置于一与半导体制程有关的机台；

多个第一轨道，至少部分的所述第一轨道之间的空间位于该负载端口的正上方；

一水平移动装置，可移动性地耦合所述多个第一轨道；

一升降机，设置于该水平移动装置；

至少一第二轨道，具有连续的一第一区段以及一第二区段，该第一区段位于所述多个第一轨道之间的该空间的正下方，且位于所述负载端口的正上方，该第二区段不位于所述多个第一轨道之间的该空间的正下方，且不位于所述负载端口的正上方；以及一第一缓冲载台，可移动性地耦合该第二轨道，该第一缓冲载台还包含一物件侦测装置，用以侦测该第一缓冲载台是否被占据。

2.根据权利要求1所述的传输系统，其特征在于，所述多个第一轨道的长度方向与该第二轨道的长度方向相交。

3.根据权利要求1所述的传输系统，其特征在于，所述多个第一轨道的长度方向与该第二轨道的长度方向垂直。

4.根据权利要求1所述的传输系统，其特征在于，该第二轨道的该第二区段的长度不小于该第一缓冲载台的长度。

5.根据权利要求1所述的传输系统，其特征在于，该第二轨道的该第一区段的长度不小于该第一缓冲载台的长度。

6.根据权利要求1所述的传输系统，其特征在于，所述多个第一轨道的每一者具有一延伸区段，所述延伸区段之间的空间不位于该负载端口的正上方，且该传输系统还包含：一第二缓冲载台，位于所述延伸区段之间的该空间的正下方。

7.一种传输系统，其特征在于，包含：

一负载端口，设置于一与半导体制程有关的机台；

多个轨道，所述多个轨道的每一者具有连续的一第一区段以及一第二区段，所述第一区段之间的空间位于该负载端口的正上方，所述第二区段之间的空间不位于该负载端口的正上方；

一水平移动装置，可移动性地耦合所述多个轨道；

一升降机，设置于该水平移动装置；

多个可移动缓冲载台，位于该些轨道与该负载端口之间，该些可移动缓冲载台配置以远离或接近该机台，每一该些可移动缓冲载台最远离该机台的位置，比该些第一区段之间的该空间的正下方更远离该机台，每一该些可移动缓冲载台还包含一物件侦测装置，用以侦测该些可移动缓冲载台是否被占据；以及一固定缓冲载台，位于所述第二区段之间的该空间的正下方。

8.根据权利要求第7项所述的传输系统，其特征在于，所述第一区段的长度方向与所述第二区段的长度方向平行。

9.一种传输方法，其特征在于，包含：

判断一负载端口是否被占据；

侦测一缓冲载台是否被占据；

当该负载端口被判断被占据以及该缓冲载台被侦测不被占据时，移动该缓冲载台至一第一位置，且该第一位置是位于该负载端口的正上方；

传送一物件从一第二位置至位于该第一位置的该缓冲载台上，其中该第二位置位于该第一位置的正上方；以及在传送该物件从该第二位置至位于该第一位置的该缓冲载台上后，传送该物件从该缓冲载台至该负载端口。

10.根据权利要求9所述的传输方法，其特征在于，还包含：当该负载端口被判断为不被占据时，移动该缓冲载台至一第三位置，且该第三位置是相对该第一位置远离该负载端口；以及传送该物件至该负载端口上。

说明书

传输系统与方法

技术领域

[0001] 本揭露的部分实施方式是关于一种传输系统与方法，特别是关于一种用于半导体厂的传输系统与方法。

背景技术

[0002] 随着科技日趋成长，集成电路广泛地应用在各个领域中，例如：记忆体、中央处理器(CPU)、液晶显示装置(LCD)、发光二极管(LED)、雷射二极管或晶片组，连带促进半导体产业的蓬勃发展。在半导体产业的高度竞争下，半导体元件须在最有效率的条件下进行设计与制造。传统上，半导体元件的搬运是采用人工搬运，但随着半导体元件的晶圆尺寸的增加及制程的复杂度提升，人工搬运逐渐无法符合需求，且人为操作容易产生错误、污染、以及速度不易提升的状况。因此，自动化物料配送系统(Automated Material Handling System,AMHS)已大量地应用在半导体制造厂中。

[0003] 一般而言，自动化物料配送系统具有高架式输送系统(Overhead Hoist Transport System；OHTS)与多个储藏区(Stocker)、或工作站(Tool Station)，以自动地接收、传送、与放置半导体元件相关的承载装置。因此，自动化物料配送系统具有节省人力、降低污染、增加传送速度等优点。

发明内容

[0004] 依据本揭露的部分实施方式，传输系统包含负载端口、多个第一轨道、水平移动装置、升降机、至少一第二轨道与缓冲载台。负载端口是设置于与半导体制程有关的机台。至少部分的第一轨道之间的空间是位于负载端口的正上方。水平移动装置是可移动性地耦合第一轨道。升降机是设置于水平移动装置。第二轨道具有连续的第一区段与第二区段，第一区段是位于第一轨道之间的空间的正下方，且第二区段是不位于第一轨道之间的空间的正下方。第一缓冲载台是可移动性地耦合第二轨道。

[0005] 依据本揭露的部分实施方式，传输系统包含负载端口、多个轨道、水平移动装置、升降机与缓冲载台。负载端口是设置于一与半导体制程有关的机台。轨道的每一者具有连续的第一区段与第二区段，第一区段之间的空间是位于负载端口的正上方，第二区段之间的空间是不位于负载端口的正上方。水平移动装置是可移动性地耦合轨道。升降机是设置于水平移动装置。缓冲载台是位于第二区段之间的空间的正下方。

[0006] 依据本揭露的部分实施方式，传输方法包含以下步骤。判断负载端口是否被占据。当负载端口被判断被占据时，移动一缓冲载台至一第一位置，且第一位置是位于负载端口正上方。传送一物件至位于第一位置的缓冲载台上。

附图说明

[0007] 阅读以下详细叙述并搭配对应的附图，可了解本揭露的多个样态。需留意的是，附图中的多个特征并未根据该业界领域的标准作法绘制实际比例。事实上，所述的特征的尺寸可以任意的增加或减少以利于讨论的清晰性。

[0008] 图1为依据本揭露的部分实施方式的传输系统的立体示意图；

[0009] 图2为依据本揭露的部分实施方式的传输系统的侧视图；

[0010] 图3为依据本揭露的部分实施方式的传输系统的俯视图；

[0011] 图4为依据本揭露的部分实施方式的传输方法的流程图。

具体实施方式

[0012] 以下将以附图及详细说明清楚说明本揭露的精神，任何所属技术领域中具有通常知识者在了解本揭露的实施例后，当可由本揭露所教示的技术，加以改变及修饰，其并不脱离本揭露的精神与范围。举例而言，叙述“第一特征形成于第二特征上方或上”，于实施例中将包含第一特征及第二特征具有直接接触；且也将包含第一特征和第二特征为非直接接触，具有额外的特征形成于第一特征和第二特征之间。此外，本揭露在多个范例中将重复使用元件标号以及/或文字。重复的目的在于简化与厘清，而其本身并不会决定多个实施例以及/或所讨论的配置之间的关系。

[0013] 在本文中所使用的术语，仅是用以描述特定实施例，不应以此叙述限制本揭露。在本文中，除非上下文中另外明确指明，否则单数形式“一”以及“所述”亦欲包含复数形式。进一步理解，术语“包括”、“包含”以及“具有”，在本说明书使用时，用以表示所述特征、区域、整体、步骤、操作、元件和/或成分的存在，但不排除存在或添加一个或多个特征、区域、整体、步骤、操作、元件、成分，和/或以上组合。

[0014] 此外，方位相对词汇，如“在……之下”、“下面”、“下”、“上方”或“上”或类似词汇，在本文中为用来便于描述绘示于附图中的一个元件或特征至另外的元件或特征的关系。方位相对词汇除了用来描述装置在附图中的方位外，其包含装置于使用或操作下的不同的方位。当装置被另外设置(旋转90度或者其他面向的方位)，本文所用的方位相对词汇同样可相应地进行解释。

[0015] 在半导体元件的制造过程中，半导体晶圆(wafer)往往需要历经数十道或数百道制程以形成最终的半导体元件。大体而言，半导体晶圆可储存于晶圆承载单元中，晶圆承载单元可容纳多个半导体晶圆，再通过自动化物料配送系统(Automated Material Handling System,AMHS)的传输装置，例如：例如自动导引车(Automatic guided vehicle；AGV)、轨道导引车(Rail guided vehicle；RGV)、高架式输送装置(Overhead Hoist Shuttle；OHS)以及高架式起吊输送装置(Overhead Hoist Transport；OHT)、或其他适当装置，自动地传送晶圆承载单元于不同的制程机台(设备)之间，使得制程机台可批量地处理半导体晶圆。

[0016] 也就是说，晶圆承载单元可通过自动化物料配送系统的传输装置传送至不同的制程机台之间。制程机台可具有对应的工作站(tool station)，工作站包含至少一个负载端口(load port)，负载端口是连接制程机台且可用以放置、或储存晶圆承载单元。然而，工作站的负载端口的数量是固定的、且有限制的，无法依据当下制程的产能、或状况而进行调整或变动。因此，当晶圆承载单元所欲制程的制程机台的对应的负载端口皆被占据时，晶圆承载单元便无法被传送至所欲制程的制程机台而停留在传输装置上，导致晶圆承载单元产生“塞车”的现象，因而增加晶圆承载单元于不同制程机台之间的停留时间，且延迟晶圆承载单元中的半导体晶圆的制程时间。在此，停留时间是表示半导体晶圆在制造过程中由一制程机台所对应的工作站传输至另一制程机台所对应的工作站所花费的时间。

[0017] 此外，晶圆承载单元于制程机台之间的停留时间亦会影响半导体晶圆厂的生产效率与产能，且当晶圆承载单元于制程机台之间的停留时间过长时，亦即，太过延迟晶圆承载单元中的半导体晶圆的制程时间时，位于半导体晶圆厂内的气体杂质、或粒子可能会污染晶圆承载单元中的半导体晶圆，特别是在半导体晶圆刚结束某些制程时会变得特别容易遭受污染。

[0018] 有鉴于此，本揭露的部分实施方式提供一种传输系统及其方法，其可改善物件(例如：晶圆承载单元、或光罩载具)传送于不同制程机台之间的塞车现象，且减少物件传送于不同制程机台之间的停留时间。

[0019] 参照图1。图1为依据本揭露的部分实施方式的传输系统的立体示意图。于部分实施方式中，传输系统10包含负载端口100、缓冲载台200、传送装置300、多个第一轨道600与至少一第二轨道900。负载端口100是设置于与半导体制程有关的机台400。更详细地说，负载端口100是用以容纳物件(例如：晶圆承载单元、或光罩载具)，且负载端口100是连接机台400的一连接端410(可参阅图2)，使得物件中的内容物可经由负载端口100与连接端410而被传送至机台400中。第一轨道600是邻设于机台400的一侧，且至少部分第一轨道600之间的空间是位于负载端口100的正上方。换句话说，第一轨道600的每一者具有连续的第一区段602与第二区段604(又称延伸区段604)。举例而言，第一区段602是连接第二区段604，且两者是一体成形的。第一轨道600的第一区段602之间的空间是位于负载端口100的正上方，且第一轨道600的第二区段604之间的空间是不位于负载端口100的正上方。第二轨道900具有连续的第一区段902与第二区段904，第二轨道900的第一区段902是位于两第一轨道600的第一区段602之间的空间的正下方，且第二区段904是不位于两第一轨道600的第一区段
602之间的空间的正下方。缓冲载台200是用以暂时地存放物件，且缓冲载台200可分类为可移动缓冲载台210与固定缓冲载台220。可移动缓冲载台210是可移动性地耦合第二轨道
900。亦即，可移动缓冲载台210是可沿着第二轨道900移动至两第二轨道900的第一区段902之间的空间，或移动至两第二轨道900的第二区段904之间的空间。换句话说，可移动缓冲载台210是可移动至位于负载端口100的正上方的位置或移动至不位于负载端口100的正上方的位置。固定缓冲载台220是位于第一轨道600的第二区段604之间的空间的正下方，亦即，固定缓冲载台220是不位于负载端口100的正上方。传送装置300是用以将物件传送于负载端口100所在的位置与缓冲载台200所在的位置之间。进一步来说，于部分实施方式中，负载端口100与缓冲载台200可被统称为工作站，工作站可存放物件。亦即，物件可选择性地被放置于负载端口100或缓冲载台200(可移动缓冲载台210、固定缓冲载台220、或以上两者)上，从而增加物件的放置空间的选择性。因此，传输系统10可帮助减少物件传送于不同机台400之间的塞车现象，且减少物件传送于不同机台400之间的停留时间。

[0020] 于部分实施方式中，如图1所示，传送装置300可用以在负载端口100与缓冲载台200之间传送物件。举例而言，于部分实施方式中，传送装置300可依据不同的状况，例如：机台400的制程状况、负载端口100被占据的状况、缓冲载台200被占据的状况、或机台400的其他相关状态等，将物件从缓冲载台200移动至负载端口100；或者，将物件从负载端口100移动至缓冲载台200，但本揭露不以此为限。也就是说，物件可经由传送装置300而被放置于负载端口100、或缓冲载台200上。

[0021] 同时参照图1与图2。图2为依据本揭露的部分实施方式的传输系统的侧视图。于部分实施方式中，传送装置300是位于第一轨道600中，且可沿着第一轨道600移动。传送装置300包含水平移动装置310与升降机320，水平移动装置310是可移动性地耦合第一轨道600，且升降机320是设置于水平移动装置310。水平移动装置310是沿着第一方向D1移动，且升降机320是沿着第二方向D2移动，第一方向D1与第二方向D2相交。第一方向D1是第一轨道600的长度方向，亦即，多个负载端口100的排列方向。在一些实施方式中，第一方向D1可为水平方向，而第二方向D2可为垂直方向，亦即，第一方向D1与第二方向D2实质上垂直。

[0022] 于部分实施方式中，如图1与图2所示，缓冲载台200所在的水平高度是不同于负载端口100所在的水平高度，且第一轨道600所在的水平高度是不同于缓冲载台200所在的水平高度。更详细地说，缓冲载台200所在的水平高度是高于负载端口100所在的水平高度，且第一轨道600所在的水平高度是高于缓冲载台200所在的水平高度。如此一来，在安装缓冲载台200与第一轨道600时，由于缓冲载台200与第一轨道600是设置于负载端口100的上方，因此，缓冲载台200与第一轨道600的安装并不会干扰负载端口100运作，且不会干扰负载端口100所对应的机台400的运作。

[0023] 举例而言，于部分实施方式中，传送装置300可为自动导引车(Automaticguided vehicle；AGV)、轨道导引车(Rail guided vehicle；RGV)、高架式输送装置(Overhead Hoist Shuttle；OHS)、高架式起吊输送装置(Overhead Hoist Transport；OHT)、或其他适当装置，以自动地移动物件，但本揭露不以此为限。

[0024] 于部分实施方式中，机台400可具有蚀刻制程的功能、沉积制程的功能、黄光制程的功能、扩散制程的功能、或其他半导体制程的功能，但本揭露不以此为限。于其他实施方式中，机台400可具有量测、或检测工具，以进行与半导体制程相关的侦测，但本揭露不以此为限。

[0025] 于部分实施方式中，物件可为晶圆承载单元，用以容纳300mm(12inch)或450mm(18inch)等尺寸的晶圆片，举例来说，物件可为前开式晶圆盒(Front Open Unified Pods；FOUPs)中、晶圆盒(PODs)、晶圆载具(wafer carriers)、晶圆载具(wafer carriers)、或晶圆匣(cassette)，但本揭露不以此为限。于其他实施方式中，物件可为光罩载具，例如：光罩载具(reticle carriers)、或光罩传送盒(Reticle SMIF Pod；RSP)，但本揭露不以此为限。

[0026] 于部分实施方式中，如图2所示，负载端口100具有相邻的承载部110与连接部120。承载部110可用以承载物件C。连接部120突出于承载部110并连通机台400，而可用以将储存于物件C中的内容物传递至机台400，或从机台400中接收处理完毕的内容物。进一步来说，负载端口100的连接部120是连接机台400的一连接端410。连接端410包含一存取开口(access port)412，存取开口412是被负载端口100的连接部120的开口门(port door)122覆盖着。连接部120的开口门122包含相对的外表面与内表面，外表面是暴露于半导体工厂的环境中，内表面是连接机台400的连接端410的存取开口412，且内表面是位于机台400的密封环境中。如此一来，当负载端口100所承载的物件C中的内容物欲进入机台400时，连接部120的开口门122可被开启，使得物件C中的内容物可经由机台400的存取开口412而进入机台400中。

[0027] 举例来说，于部分实施方式中，如图2所示，当物件C为一前开式晶圆盒时，物件C可包含一可移动夹门(poddoor)510，夹门510与负载端口100的开口门122是可连动的。举例而言，于部分实施方式中，物件C的夹门510上方具有多个孔洞，且负载端口100的开口门122的上方具有对应孔洞的对准栓具(alignmentpin)。负载端口100的对准栓具可紧密地卡合夹门510的孔洞，使得物件C与负载端口100之间可紧密地连接。当负载端口100所承载的物件C中的内容物欲进入机台400时，物件C的夹门510可被开启，且负载端口100的开口门122亦是被开启的，使得物件C中的内容物可依序经由夹门510、开口门122与存取开口412进入机台400中。举例而言，于部分实施方式中，物件C中的内容物可为半导体晶圆、或光罩，但本揭露不以此为限。

[0028] 同时参照图1～图3。图3为依据本揭露的部分实施方式的传输系统的俯视图。于部分实施方式中，可移动缓冲载台210可包含移动组件，例如：滑轮、引导炼、马达、或其他适当的驱动装置，但本揭露不以此为限。于部分实施方式中，第二轨道900可包含一滑动件920，滑动件920是连接可移动缓冲载台210，且滑动件920是可移动性地耦接第二轨道900，使得可移动缓冲载台210是沿着第二轨道900的长度方向移动。于部分实施方式中，第一轨道600的长度方向与第二轨道900的长度方向相交。举例而言，于部分实施方式中，第一轨道600的长度方向与第二轨道900的长度方向是实质上垂直。选择性地，于部分实施方式中，第一轨道600的长度方向与第二轨道900的长度方向可相夹一钝角、或锐角，但本揭露不以此为限。

[0029] 于部分实施方式中，第一轨道600是邻设于机台400的连接端410，且第一轨道600是沿着第一方向D1(亦即，多个负载端口100的排列方向)延伸。换句话说，第一轨道600的第一区段602与第二区段604是沿着第一方向D1排列，且第一轨道600的第一区段602的长度方向与第一轨道600的第二区段604的长度方向是实质上平行。第二轨道900是连接机台400的连接端410，且第二轨道900沿着一第三方向D3(亦即，负载端口100与机台400的排列方向)延伸。换句话说，第二轨道900的第一区段902与第二区段904是沿着第三方向D3排列，且第一方向D1与第三方向D3相交。如此一来，由于第一轨道600的长度方向(第一方向D1)与第二轨道900的长度方向(第三方向D3)相交，可移动缓冲载台210可沿着第三方向D3在第二轨道900上移动，传送装置300可沿着第一方向D1在第一轨道600上移动，故传送装置300与可移动缓冲载台210可同时位于负载端口100所在位置的正上方，使得传送装置300能够在可移动缓冲载台210上进行物件的取放作业。

[0030] 于部分实施方式中，如图3所示，第二轨道900的第一区段902的长度不小于可移动缓冲载台210的长度。举例而言，第一区段902的长度可大于或等于可移动缓冲载台210于第三方向D3的长度。因此，可移动缓冲载台210可完全地位于第二轨道900的第一区段902之间的空间中，而完全地位于负载端口100的正上方。于部分实施方式中，第二轨道900的第二区段904的长度不小于可移动缓冲载台210的长度。举例而言，第二区段904的长度可大于或等于可移动缓冲载台210于第三方向D3的长度。因此，可移动缓冲载台210可完全地位于第二轨道900的第二区段904之间的空间中，而完全地离开负载端口100的正上方。

[0031] 于部分实施方式中，传输系统10还包含一缓冲载台致动器700，缓冲载台致动器700是电性连接或信号连接至可移动缓冲载台210。缓冲载台致动器700是用以控制可移动缓冲载台210于第一位置P1与第二位置P2之间移动。第一位置P1是位于负载端口100的正上方，且第二位置P2是相对第一位置P1远离机台400。更详细地说，于部分实施方式中，缓冲载台致动器700包含第一致动单元710，第一致动单元710是用以致动可移动缓冲载台210移动，使得可移动缓冲载台210从第一位置P1移动至第二位置P2。或者，缓冲载台致动器700包含第二致动单元720，第二致动单元720是用以致动可移动缓冲载台210移动，使得可移动缓冲载台210从第二位置P2移动至第一位置P1，但本揭露不以此为限。在一些实施方式中，第一致动单元710与第二致动单元720可为安装于同一致动器中的软件或固件，在其他实施方式中，第一致动单元710与第二致动单元720亦可为两独立的硬件装置。

[0032] 于部分实施方式中，如第1及3图所示，传输系统10还包含一第一致动模块810，电性耦接传送装置300，第一致动模块810是用以当缓冲载台200移动至一位置时，控制传送装置300前往此位置且停止于此位置上，且此位置是位于负载端口100的正上方。换句话说，第一致动模块810是经配置以致动传送装置300移动且传送物件。当可移动缓冲载台210欲从一第二位置P2移动至第一位置P1时，第一致动模块810可指派传送装置300一传送路径，并控制传送装置300沿着此传送路径前往第一位置P1。第一位置P1是位于负载端口100的正上方，且第二位置P2是相对第一位置P1远离机台400。举例而言，于部分实施方式中，当可移动缓冲载台210移动至第一位置P1时，第一致动模块810可控制传送装置300的水平移动装置310(可参阅图2)沿着第一方向D1移动至第一位置P1，且停止于第一位置P1。随后，第一致动模块810可控制传送装置300的升降机320(可参阅图2)沿着第二方向D2移动，并夹取与移动位于可移动缓冲载台210上的物件，但本揭露不以此为限。

[0033] 于部分实施方式中，如第1及3图所示，传输系统10还包含一第二致动模块820，电性耦接传送装置300。第二致动模块820是用以当缓冲载台200离开第一位置P1时，控制传送装置300从第一位置P1前往负载端口100所在的位置。换句话说，第二致动模块820是经配置以致动传送装置300移动且传送物件。当可移动缓冲载台210从第一位置P1移动至第二位置P2时，第二致动模块820可指派传送装置300一传送路径，并控制传送装置300沿着此传送路径从第一位置P1前进至负载端口100。举例而言，于部分实施方式中，当可移动缓冲载台210欲从第一位置P1移动至第二位置P2时，第二致动模块820可控制传送装置300的升降机320抓取可移动缓冲载台210在第一位置P1时，此可移动缓冲载台210上的物件。随后，当可移动缓冲载台210移动且停留至第二位置P2时，第二致动模块820可控制传送装置300的升降机320沿着第二方向D2移动，使得升降机320从第一位置P1向下被移动至负载端口100上，从而帮助物件从可移动缓冲载台210的第一位置P1移动且放置于负载端口100上，但本揭露不以此为限。

[0034] 于部分实施方式中，如图1及图3所示，缓冲载台200是固定于一第三位置P3，且第三位置P3是不位于负载端口100的正上方。也就是说，固定缓冲载台220是位于第一轨道600所在的位置的正下方，且不位于负载端口100所在的位置的正上方。因此，在不会阻挡传送装置300传送物件至负载端口100的前提下，固定缓冲载台220可增加物件的放置空间的选择性。于部分实施方式中，传送系统10还包含第三致动模块830，第三致动模块830是用以致动传送装置300从固定缓冲载台220所在的第三位置P3移动至负载端口100、或者致动传送装置300从负载端口100移动至固定缓冲载台220所在的第三位置P3，但本揭露不以此为限。于部分实施方式中，可移动缓冲载台210与固定缓冲载台220可并存于此传输系统10中，以进一步增加物件的缓冲放置空间的选择性。

[0035] 大体而言，于部分实施方式中，第一致动模块810、第二致动模块820与第三致动模块830又可被统称为传送装置致动器800。传送装置致动器800可用以控制传送装置300移动于缓冲载台200(包含可移动缓冲载台210与固定缓冲载台220)与负载端口100之间，亦即，传送装置致动器800可用以控制水平移动装置310与升降机320的至少一者移动。于部分实施方式中，传送装置致动器800可电性连接或信号连接至传送装置300。于部分实施方式中，第一致动器710与第二致动器720又可被统称为缓冲载台致动器700，且缓冲载台致动器700可电性连接或信号连接至滑动件920，用以控制滑动件920移动，使得可移动缓冲载台210移动于第一位置P1与第二位置P2。于部分实施方式中，缓冲载台致动器700与传送装置致动器800的至少一者可被整合至计算机的一或多个处理装置中。处理装置可以是中央处理器、控制元件、微处理器、伺服器或其他可执行指令的硬件元件。在其他实施方式中，缓冲载台致动器700与传送装置致动器800的至少一者可由计算机的计算机程序所实现且储存于储存装置中。储存装置包含非暂态计算机可读取记录媒体或其他具有储存功能的装置。此计算机程序包括多个程序指令，这些程序指令可由一中央处理器来执行，从而执行各模块的功能，但本揭露不以此为限。

[0036] 于部分实施方式中，传送装置致动器800可电性连接或信号连接至一原料控制系统(material control system,MCS)。原料控制系统可连接多部主机(host computer)，而每一主机连接至一或多个机台400。主机中可内嵌机台自动化程序(Equipment Automation Program,EAP)，用以于原料控制系统与机台之间传递讯息与发布指令，从而避免传送装置300于传送物件时发生碰撞(collision)的可能性。

[0037] 参照图4。图4为依据本揭露的部分实施方式的传输方法的流程图。于部分实施方式中，传输方法包含以下步骤。于步骤S10中，判断负载端口100是否被占据。当负载端口100被判断为占据时，则执行步骤S20；当负载端口100被判断为不被占据时，则执行步骤S12(将于稍后段落做更详细的描述)。于步骤S20中，当负载端口100被判断为占据时，移动缓冲载台200至一第一位置P1，且第一位置P1是位于负载端口100的正上方。更详细地说，当负载端口100不具有存放物件的空间时，可移动缓冲载台210会移动至第一位置P1，以提供物件放置空间。于步骤S30中，传送一物件至位于第一位置P1的缓冲载台200上。如此一来，当负载端口100皆被占据时，物件可选择性地被放置于缓冲载台200上，因此，可帮助减少物件传送于不同机台400之间的塞车现象，且减少物件传送于不同制程机台之间的停留时间。

[0038] 于部分实施方式中，传输方法还包含以下步骤。于步骤S12中，当负载端口100被判断为不被占据时，移动缓冲载台200至一第二位置P2，第二位置P2是相对第一位置P1远离负载端口100。于步骤S14中，传送物件至负载端口100上。如此一来，物件可依据当下负载端口100的状态，而被决定被放置于负载端口100、或缓冲载台200上，从而增加物件的放置空间的选择性。举例来说，于部分实施方式中，物件可为晶圆承载单元，例如：前开式晶圆盒(Front Open Unified Pods；FOUPs)中、晶圆盒(PODs)、晶圆载具(wafer carriers)、晶圆载具(wafer carriers)、或晶圆匣(cassette)，但本揭露不以此为限。于其他实施方式中，物件可光罩载具，例如：光罩载具(reticle carriers)、或光罩传送盒(Reticle SMIF Pod；
RSP)，但本揭露不以此为限。

[0039] 于部分实施方式中，负载端口100还包含一物件侦测装置130，用以侦测负载端口100是否被物件占据，且物件侦测装置130可回报所侦测的一负载端口状态予传输系统10。
相似地，缓冲载台200亦包含一物件侦测装置230，用以侦测缓冲载台200是否被物件占据，且物件侦测装置230可回报所侦测的一缓冲载台状态予传输系统10。举例而言，于部分实施方式中，物件侦测装置130与230可包含红外线感测装置、压力感测装置、光学侦测装置、重力感测装置，但本揭露不以此为限。

[0040] 于部分实施方式中，如图1所示，传输系统10可与一自动化物料传输系统20结合。自动化物料传输系统20可包含一机台间传输装置22，机台间传输装置22是用以将物件A从一机台移动至另一机台，且机台间传输装置22是位于传送装置300之上。

[0041] 举例而言，如图1所示，于部分实施方式中，当机台间传输装置22移动物件A从一机台至另一机台400时，若机台400的负载端口100是不被占据的，则负载端口100的物件侦测装置130会传送一负载端口空缺状态S1予传输系统10以及自动化物料传输系统20。随后，在缓冲载台200不位于负载端口100正上方的前提下，机台间传输装置22会将物件A移动至负载端口100上。

[0042] 举例而言，于其他实施方式中，如图2所示，当机台间传输装置22从一机台移动物件B至另一机台400时，若机台400的负载端口100是被物件C所占据的，则负载端口100的物件侦测装置130会传送一负载端口占据状态S2予传输系统10以及自动化物料传输系统20。随后，传输系统10与自动化物料传输系统20会询问在缓冲载台200是否被占据。若缓冲载台
200是不被占据的，则缓冲载台200的物件侦测装置230会传送一缓冲载台空缺状态S3予传输系统10以及自动化物料传输系统20，驱使缓冲载台200会沿着第三方向D3移动至第一位置P1，以使得机台间传输装置22可将物件B移动至缓冲载台200上。随后，当机台400处于闲置状态时，亦即，没有任何物件的内容物(例如：晶圆)在机台400中执行半导体制程时，机台
400会回报一卸载完成讯息予传输系统10与自动化物料传输系统20。接着，传输系统10的传送装置300可将完成制程的物件C移动至可移动缓冲载台210上、或传送装置300可将完成制程的物件C移动至固定缓冲载台220上、或自动化物料传输系统20的机台间传输装置22可将物件C从负载端口100移动至另一机台，但本揭露不以此为限。因此，物件C可从负载端口100离开。当负载端口100是不被物件所占据的，负载端口100的物件侦测装置130会传送一负载端口空缺状态S1予传输系统10以及自动化物料传输系统20。随后，传送装置300可将位于缓冲载台200的物件B移动至负载端口100上。值得注意的，此处仅是用以说明当传输系统10与自动化物料传输系统20结合时，物件的传送方法，不应以此限制本揭露。在实际应用上，传输系统10与自动化物料传输系统20可依据当下的状况，例如：机台间传输装置22的状况、机台400的制程状况、负载端口100被占据的状况、缓冲载台200被占据的状况、或机台400的其他相关状态等，逻辑性地控制传输系统10与自动化物料传输系统20的传送路径，但本揭露不以此为限。

[0043] 于部分实施方式中，传输系统10可包含一制造执行系统(Manufacturing Execution System；MES)，制造执行系统可具有规划物件的传送路径的功能、最佳化物件的传送路径的功能、或记录物件的传送路径的功能等功能。传输系统10的缓冲载台致动器700是依据制造执行系统所发出的指令，控制可移动缓冲载台210于第一位置P1与第二位置P2之间移动。传输系统10的传送装置致动器800亦是依据制造执行系统所发出的指令，控制传送装置300在负载端口100与缓冲载台200之间传送物件。

[0044] 于部分实施方式中，传输系统10可包含一即时派工系统(Real－Time Dispatching System；RTD)。当机台400闲置状态时，亦即，物件于机台400所执行半导体制程完成时，机台400会回报一卸载完成讯息予制造执行系统。制造执行系统会询问即时派工系统此物件接下来欲搬运到哪一机台上。当即时派工系统回复制造执行系统时，制造执行系统即传送一搬运指令给传送装置致动器800。接着，传送装置致动器800会控制传送装置
300将物件搬离负载端口100。相似地，当机台400回报一载入完成讯息予制造执行系统时，亦即，物件中的内容物已进入机台400。制造执行系统会询问接下来欲搬运哪一批物件到机台400，然后即时派工系统会给制造执行系统一制程清单，其中载明所欲进行机台400的半导体制程的物件清单。随后，制造执行系统会传送一搬运指令给传送装置致动器800，传送装置致动器800可控制传送装置300将另一物件传送至负载端口100上。

[0045] 于上述的一或多个实施方式中，传输系统包含负载端口、多个第一轨道、水平移动装置、升降机、至少一第二轨道与缓冲载台。负载端口是设置于与半导体制程有关的机台。至少部分的第一轨道之间的空间是位于负载端口的正上方。水平移动装置是可移动性地耦合第一轨道。升降机是设置于水平移动装置。第二轨道具有连续的第一区段与第二区段，第一区段是位于第一轨道之间的空间的正下方，且第二区段是不位于第一轨道之间的空间的正下方。第一缓冲载台是可移动性地耦合第二轨道。如此一来，缓冲载台可不位于负载端口的正上方，故物件可选择性地被放置于负载端口或缓冲载台上，从而增加物件的放置空间的选择性。因此，传输系统可帮助减少物件传送于不同机台之间的塞车现象，且减少物件传送于不同机台之间的停留时间。

[0046] 于本揭露的多个实施方式中，传输系统包含负载端口、多个第一轨道、水平移动装置、升降机、至少一第二轨道与缓冲载台。负载端口是设置于与半导体制程有关的机台。至少部分的第一轨道之间的空间是位于负载端口的正上方。水平移动装置是可移动性地耦合第一轨道。升降机是设置于水平移动装置。第二轨道具有连续的第一区段与第二区段，第一区段是位于第一轨道之间的空间的正下方，且第二区段是不位于第一轨道之间的空间的正下方。第一缓冲载台是可移动性地耦合第二轨道。

[0047] 于本揭露的多个实施方式中，其中第一轨道的长度方向与第二轨道的长度方向相交。

[0048] 于本揭露的多个实施方式中，其中第一轨道的长度方向与第二轨道的长度方向实质上垂直。

[0049] 于本揭露的多个实施方式中，其中第二轨道的第二区段的长度不小于第一缓冲载台的长度。

[0050] 于本揭露的多个实施方式中，其中第二轨道的第一区段的长度不小于第一缓冲载台的长度。

[0051] 于本揭露的多个实施方式中，其中第一轨道的每一者具有一延伸区段，延伸区段之间的空间是不位于负载端口的正上方，且传输系统还包含一第二缓冲载台。第二缓冲载台是位于延伸区段之间的空间的正下方。于本揭露的多个实施方式中，传输系统包含负载端口、多个轨道、水平移动装置、升降机与缓冲载台。负载端口是设置于一与半导体制程有关的机台。轨道的每一者具有连续的第一区段与第二区段，第一区段之间的空间是位于负载端口的正上方，第二区段之间的空间是不位于负载端口的正上方。水平移动装置是可移动性地耦合轨道。升降机是设置于水平移动装置。缓冲载台是位于第二区段之间的空间的正下方。

[0052] 于本揭露的多个实施方式中，其中第一区段的长度方向与第二区段的长度方向实质上平行。

[0053] 于本揭露的多个实施方式中，传输方法包含以下步骤。判断负载端口是否被占据。当负载端口被判断被占据时，移动一缓冲载台至一第一位置，且第一位置是位于负载端口正上方。传送一物件至位于第一位置的缓冲载台上。

[0054] 于本揭露的多个实施方式中，传输方法还包含以下步骤。当负载端口被判断为不被占据时，移动缓冲载台至一第二位置，且第二位置是相对第一位置远离负载端口。传送物件至负载端口上。

[0055] 上述已概述数个实施方式的特征，因此熟悉此技艺者可更了解本揭露的态样。熟悉此技艺者应了解到，其可轻易地利用本揭露做为基础，来设计或润饰其他制程与结构，以实现与在此所介绍的实施方式相同的目的及/或达到相同的优点。熟悉此技艺者也应了解到，这类均等架构并未脱离本揭露的精神和范围，且熟悉此技艺者可在不脱离本揭露的精神和范围下，进行各种的更动、取代与润饰。