本发明涉及一种用于烹调至少一个食品(1)的系统(100)，所述系统具有：烹调腔(10)，在其内规定至少一个烹调位置(5)，其中，在烹调位置(5)能够定位和烹调食品(1)；至少一个天线布置(30)，其用于将电磁能量(80)的能量输入烹调腔(10)，由此能够加热食品(1)；发射装置(40)，其用于运行天线布置(30)；其中，天线布置(30)的至少一个天线(31)取决于烹调位置(5)调整取向并且能够通过发射装置(40)根据至少一种运行方式来运行，从而能够产生功率优化的、用于加热食品(1)的温区分布。
1.一种用于烹调至少一个食品（1）的装置（100），所述装置具有：
‑烹调腔（10），在其内规定至少一个烹调位置（5），其中，在所述至少一个烹调位置（5）能够烹调至少一个食品（1），‑至少一个天线布置（30），其用于将电磁能量（80）的能量输入到所述烹调腔（10），由此能够加热所述至少一个食品（1）以便进行烹调，‑至少一个发射装置（40），其用于运行所述天线布置（30），
其中，所述天线布置（30）的至少一个天线（31）取决于所述至少一个烹调位置（5）来调整取向并且能够通过所述发射装置（40）根据至少一种运行方式来运行，从而能够产生功率优化的、用于加热所述食品（1）的温区分布，其中，所述天线布置（30）的至少两个天线（31）的运行是利用不同的运行方式实施的，这些运行方式关于利用以之运行所述天线布置（30）相应天线（31）的功率和/或周期性通断而有所区别，从而产生预定温区分布。
2.根据权利要求1所述的装置（100），其特征在于，通过所述天线布置（30）能够作为动态的温区分布来产生所述温区分布，从而所述温区分布‑是可变的，和/或
‑能够匹配于在所述烹调位置（5）的所述至少一个食品（1），和/或
3.根据权利要求1或2所述的装置（100），其特征在于，所述天线布置（30）包括至少两个天线（31），它们彼此保持间隔地布置，并且它们能够通过唯一的发射装置（40）或分别通过分离的若干发射装置（40）来运行，其中，这些天线（31）彼此不同。
4.根据权利要求1或2所述的装置（100），其特征在于，所述天线布置（30）具有至少一个第一天线（31a）和第二天线（31b），它们彼此保持间隔地布置，其中，相应的所述天线（31）作为以下所述天线结构形式的至少其中一个来实施：‑双极天线（31b），
5.根据权利要求1或2所述的装置（100），其特征在于，所述天线布置（30）的所述至少一个天线（31）被实施为铜天线。
6.根据权利要求1或2所述的装置（100），其特征在于，在所述烹调腔（10）内设置至少两个不同的烹调位置（5），所述天线布置（30）的各种天线（31）如此取向和/或能够如此运行，即，能够向各烹调位置（5）输送不同程度的能量，从而能够受控加热在相应烹调位置（5）的食品（1）。
7.根据权利要求1或2所述的装置（100），其特征在于，所述天线布置（30）具有多个天线（31），从而通过所述天线（31）能够产生细粒度温度分布。
8.根据权利要求1或2所述的装置（100），其特征在于，所述装置（100）包括盖元件（13）和底部元件（11），其中，所述底部元件（11）与所述盖元件（13）对置，并且其中，所述天线布置（30）被设置在所述底部元件（11）的区域内，其中，所述底部元件（11）布置在所述天线布置（30）和所述烹调腔（10）之间。
9.根据权利要求1或2所述的装置（100），其特征在于，与所述装置（100）的盖元件（13）相比，所述天线布置（30）相对于所述烹调位置（5）的间距更小。
10.根据权利要求1或2所述的装置（100），其特征在于，所述装置（100）的底部元件（11）至少部分以非金属方式构造和/或对于所述电磁能量（80）而言是可穿透的，从而使所述电磁能量（80）能够从所述天线布置（30）出发经过所述底部元件（11）进入所述烹调腔（10）。
11.根据权利要求1或2所述的装置（100），其特征在于，除了所述天线布置（30）之外还设置另一加热装置（20），其中，所述另一加热装置（20）包括至少一个加热线圈（96）和/或电加热件（96）。
12.根据权利要求1或2所述的装置（100），其特征在于，所述装置（100）被实施为炉子。
13.根据权利要求2所述的装置（100），其特征在于，所述温区分布用于功率优化地加热相应食品（1）。
14.根据权利要求13所述的装置（100），其特征在于，所述相应食品（1）被均匀地加热。
15.根据权利要求3所述的装置（100），其特征在于，所述天线（31）具有相应不同的取向和/或能够根据不同运行方式运行和/或根据不同天线结构形式构造，由此所述温区分布能够取决于所述天线（31）的不同实施方式来产生。
16.根据权利要求4所述的装置（100），其特征在于，在所述双极天线（31b）中，指向性取决于沿所述双极天线（31b）的电导体长度的电流分布。
17.根据权利要求4所述的装置（100），其特征在于，所述单极天线（31a）是棒状天线。
18.根据权利要求4所述的装置（100），其特征在于，所述单极天线（31a）在其中实施围绕所述单极天线（31a）的竖向轴线旋转对称的场分布。
19.根据权利要求4所述的装置（100），其特征在于，所述圆极化天线（31c）被实施为交叉双极和/或具有包括两个天线部分的布置，这两个天线部分错开90°和/或能够以90°相移的方式被馈电和/或能够线极化运行。
20.根据权利要求6所述的装置（100），其特征在于，所述食品（1）能够相应均匀或以预定方式加热。
21.根据权利要求7所述的装置（100），其特征在于，所述天线布置（30）设置有至少3个或至少5个或至少10个或至少20个天线（31）。
22.根据权利要求8所述的装置（100），其特征在于，所述烹调腔（10）至少部分由所述底部元件（11）和所述盖元件（13）限定。
23.根据权利要求8所述的装置（100），其特征在于，所述天线布置（30）被设置在所述底部元件（11）下方。
24.根据权利要求9所述的装置（100），其特征在于，所述天线布置（30）和所述烹调位置（5）之间的间距最大是1cm或最大4cm或最大6cm或最大10cm。
25.根据权利要求9所述的装置（100），其特征在于，与所述装置（100）的其它加热装置（20）相比，所述天线布置（30）作为第一加热装置（20a）相对于所述烹调位置（5）的间距更小，从而因为在抵达所述食品（1）之前的更小距离，能够降低电磁能量（80）的反射和/或散射。
26.根据权利要求10所述的装置（100），其特征在于，所述电磁能量（80）是电磁辐射。
27.根据权利要求10所述的装置（100），其特征在于，所述底部元件（11）主要具有陶瓷和/或玻璃和/或是由其制成的。
28.根据权利要求11所述的装置（100），其特征在于，所述另一加热装置（20）设置在所述装置（100）的盖元件（13）区域内。
29.根据权利要求28所述的装置（100），其特征在于，所述另一加热装置（20）固定在所述盖元件（13）上。
30.根据权利要求1或2所述的装置（100），其特征在于，所述装置（100）被实施为烤箱或微波炉。
31.一种烹调至少一个食品（1）的方法，其中，在烹调腔（10）内在至少一个烹调位置（5）烹调所述至少一个食品（1），其特征在于，
a）根据所述至少一个烹调位置（5）来调整天线布置（30）的至少一个天线（31）的取向，b）根据至少一种运行方式通过至少一个发射装置（40）运行所述天线（31），从而将电磁能量（80）输入所述烹调腔（10），由此产生用于加热所述食品（1）的功率优化的温区分布，其中，所述天线布置（30）的至少两个天线（31）的运行是利用不同的运行方式实施的，这些运行方式关于利用以之运行所述天线布置（30）相应天线（31）的功率和/或周期性通断而有所区别，从而产生预定温区分布。
32.根据权利要求31所述的方法，其特征在于，所述电磁能量（80）是在适于加热所述食品（1）的频率范围和/或微波范围的高频电磁辐射（80）。
33.根据权利要求31或32所述的方法，其特征在于，设置至少两个不同烹调位置（5），所述天线布置（30）的不同天线（31）如此取向和/或运行，即，向不同烹调位置（5）供应相应不同大小的能量，其中，所述能量的相应不同大小是根据相应烹调位置（5）的食品（1）之特定条件如此调节的，即，所述食品（1）能够按预先规定得以加热。
34.根据权利要求31或32所述的方法，其特征在于，所述天线布置（30）的所述至少两个天线（31）的运行是利用不同的运行方式实施的，这些运行方式关于利用以之运行所述天线布置（30）相应天线（31）的所述功率和/或频率和/或所述周期性通断而有所区别，从而产生具有均匀或不均匀的温度分布的预定温区分布。
35.根据权利要求31或32所述的方法，其特征在于，所述天线布置（30）的运行通过控制单元（60）来调整，从而根据由所述控制单元（60）分析的条件来产生预定温区分布。
36.根据权利要求31或32所述的方法，其特征在于，为了产生预定温区分布，按照不同方式执行所述烹调腔（10）的不同烹调位置（5）的能量供应，从而‑在所述烹调腔（10）内针对不同烹调位置（5）产生具有不同温度的至少两个不同的温区，从而根据不均匀的第一温区分布不均匀地加热不同烹调位置（5）的食品（1），或‑在所述烹调腔（10）内为均匀的温度分布而产生唯一的温区，从而根据均匀的第二温区分布，利用大致均匀的温度来加热不同烹调位置（5）的食品（1）。
37.根据权利要求31或32所述的方法，其特征在于，为了产生预定温度分布，针对第一烹调位置（5a）的第一温区规定第一目标温度值，并且针对第二烹调位置（5b）的第二温区规定第二目标温度值，其中，所述天线布置（30）通过至少一个发射装置（40）和/或控制单元（60）如此控制，即，能够关于相应目标温度值来单独调节相应温区。
38.根据权利要求31或32所述的方法，其特征在于，至少一个温区的目标温度值是食品（1）的预定温度值，为了调节所述至少一个温区而将所述预定温度值与该食品（1）的测得和/或估算的对比温度值进行对比，从而在烹调时，所述对比温度值最大具有与所述目标温度值的预定偏差。
39.根据权利要求31或32所述的方法，其特征在于，针对第一食品（1）的第一温区的第一目标温度值与针对第二食品（1a、1b）的第二温区的第二目标温度值取决于预设置和/或操作人员输入是有偏差的或相同的。
40.根据权利要求31所述的方法，其特征在于，运行根据权利要求1至30中任一项所述的装置（100）。
41.根据权利要求32所述的方法，其特征在于，运行根据权利要求1至30中任一项所述的装置（100）。
42.根据权利要求33所述的方法，其特征在于，所述食品（1）能够均匀地得以加热。
烹调至少一个食品的系统
技术领域
[0001] 本发明涉及一种根据独立装置权利要求的用于烹调至少一个食品的系统。此外，本发明还涉及一种根据独立方法权利要求的用于烹调至少一个食品的方法。
背景技术
[0002] 根据现有技术已知用于烹调食品的不同系统。例如加热烹制食物的烤箱通常具有金属加热线圈，它们是通电的，因而可以发热。而微波炉应用磁控管来生成高频电磁辐射，其穿透烹制食物并使得烹制食物内所含的原子偶极子旋转。通过该旋转可以提高烹制食物中的水的动能，因而提高烹制食物的温度。
[0003] 在此缺点是，往往只能产生静态能量分布或温度分布。例如磁控管采用传统微波发射电磁能量。这种电磁能量尤其是至少一个电磁波具有静态频率和静态相位，由此在烹调腔内出现明显不同的温区。然而为了尽量均匀加热烹制食物，在此往往应用转盘以使得在烹制食物内分配所产生的静态能量分布。基于腔室(即烹调腔)的反射特性以及电磁波从磁控管去往烹制食物所必须经过的相对较远的距离，因此出现相对较大的功率损耗，尤其是在传播过程中因为波的散射和/或反射和/或吸收。此外，烹调腔内电磁波的场分布仅可不充分地得以调整，从而在烹调腔和/或烹制食物内出现不均匀的温度分布，进而出现能量损失而且烹调效果不足。
[0004] 尤其是在烤箱中，金属加热元件安装在烹调腔的盖元件下方，而烹制食物通常位于底部元件上方。因而到达烹制食物前，热辐射必须克服相对较大的间隔。未被烹制食物占用的较大体积相应地得到加热，从而在此也出现能量损耗以及烹调不足。
[0005] 另一缺点是，快慢不一地加热烹调腔内的不同食品，从而在此也无法完成令人满意的烹调，这是因为烹制食物可能部分过热，而部分加热不足。
发明内容
[0006] 因而本发明任务尤其在于，至少部分克服前述缺点。本发明任务尤其在于，可以均匀和/或以较低功率损耗加热食品(即，尤其是烹制食物)。优选任务是，期望时，可以按不同强度或单独地加热烹调腔(即，空腔)内的特定区域，因而可以在烹调腔内产生热点。
[0007] 前述任务通过具有独立权利要求特征的系统以及通过具有权利要求13的特征的方法来解决。本发明其它特征和细节由相应从属权利要求、说明书和附图得到。不言而喻，结合本发明系统所述的特征和细节在此也适用于与本发明方法组合，反之亦然，从而关于各个发明方面的公开内容始终可以相互参引。
[0008] 该任务尤其通过一种用于烹调至少一个食品(意味着烹制食物/待加热的物品)的系统来解决，所述系统尤其用于加热至少一个食品。
[0009] 本发明系统优选至少包括：
[0010] ‑烹调腔，在其内规定至少一个烹调位置，其中，在至少一个烹调位置能够定位和/或烹调尤其是加热和/或烧烤食物，和/或
[0011] ‑至少一个天线布置，其用于尤其是通过辐射将电磁能量的能量输入烹调腔，尤其是到至少一个烹调位置，由此能够加热和/或烧熟和/或烹制食品，和/或
[0012] ‑至少一个发射装置，其用于运行该天线布置。
[0013] 在此尤其规定，天线布置的至少一个天线取决于至少一个烹调位置来调整取向并且能够通过至少一个发射装置并根据至少一种运行方式来被运行，从而优选能够产生尤其是功率优化的、尤其在烹调腔和/或烹制食物和/或烹调位置的温区分布，用以加热和/或烹制至少一个食品，从而优选可降低功率损耗。优点是，可以节约能量，尤其可以简单地调整和优化食品的烹制。取决于烹调位置的天线取向调整尤其是如此实施，即，天线是如下固定和/或取向的，即，通过该天线的电磁能量的辐射在确定的方向上实施，尤其是在烹调位置的方向上实施和/或集中于其上。
[0014] 尤其可行的是，通过
[0015] ‑改变至少一个天线的取向；和/或
[0016] ‑改变天线布置或至少一个天线的运行方式，
[0017] 尤其可以在烹调腔和/或烹制食物(即待加热的食品)中产生至少一个(尤其是预定的和/或匹配的)能量分布尤其是温度(区)分布。所述取向例如可以如此改变，即，至少一个天线(尤其各个天线相应单独)运动和/或调整取向(例如朝向热点)。替代或附加地，这些天线或者至少其中一个天线和/或每个天线也可以实施为非运动的，从而无法改变取向。此外可行的是，例如如下实现运行方式的改变，即，功率和/或频率和/或相位针对至少一个天线的运行或者说针对每个天线单独得以调整。由此可以调整温度分布，从而可以产生不同的温度分布。
[0018] 尤其是在烹调腔和/或烹制食物和/或烹调位置通过应用天线布置产生的可能的能量分布或温度分布(即，尤其是温区分布)，例如是：
[0019] ‑均匀的能量分布或温度(区)分布，从而可以大致均匀加热相邻区域，[0020] ‑不均匀的能量或温度(区)分布，从而可以不同强度加热相邻区域，尤其可以形成热点。
[0021] 在本发明系统运行期间，能量分布或温度(区)分布尤其可以动态地并且可以不同于静态能量分布或温度分布地变化。在此，温度分布尤其与通过天线布置输入尤其是发出的能量尤其是辐射的(能量)分布相关联，从而通过该能量分布的调整可以产生期望的温度分布，优选取决于或者考虑到烹调腔内的至少一个待加热食品。为此例如可以参考其它信息，例如通过操作人员输入和/或测量(例如温度测量)的尤其是关于食品和/或烹调腔温度和/或烹制食物温度。
[0022] 在此，功率优化的温区分布尤其理解为，产生匹配于至少一个食品和/或烹调位置的温区分布和/或能量区分布。在此优选地，功率优化的温区分布尤其是在本发明系统运行期间和/或基于天线布置的匹配于烹调位置的布置方式是可变的和/或可调整的和/或功率优化的，以便优选如此加热至少一个食品，即，可以(例如通过不均匀的温度分布或不均匀的能量供应，尤其是在无烹制食物的区域内)降低功率损耗。为此例如也可以想到天线布置尤其布置在烹调位置附近。
[0023] 尤其可以想到，优选根据至少一种运行方式的所述运行包括控制，尤其也包括调节天线布置的运行参数。这些运行参数例如是如电压信号的功率和/或频率和/或相位，借此来驱动天线布置尤其是各天线。为此，发射装置尤其包括至少一个高频信号发生器和/或至少一个磁控管，尤其用于将电压信号输出给至少一个天线。
[0024] 此外可以规定，温区分布可通过天线布置作为动态温区分布来产生，从而温区分布，尤其是在烹调腔内，尤其通过天线布置的运行是可变的和/或可匹配于烹调位置的食品或可匹配于相应烹调位置的另一食品和/或可匹配于预定温区分布，尤其用于功率优化地、优选均匀地尤其是内部加热相应食品。不言而喻也可以想到，产生相应食品的非均匀加热，以便例如与该食品的其它区域相比更强烈地加热各个食品的某区域。在这里，加热和/或温度(区)分布例如可以涉及各食品，从而理解为食品的内部加热或温度分布，和/或也涉及加热烹调腔内的更多食品。因而例如温区分布也可以匹配于确定的菜肴和/或确定的烹调方式，尤其是操作人员特定的。
[0025] 可选可行的是，该天线布置包括至少两个天线，它们彼此保持间隔地布置，并且它们能够通过发射装置或分别通过分离的发射装置来运行，其中，这些天线彼此不同，尤其具有相应不同的取向和/或能够根据不同运行方式运行和/或根据不同天线结构形式构造，由此，温区分布能够取决于天线的不同实施方式产生。在此，相应天线的取向和/或运行方式尤其是可变的和/或可控的和/或可调节的。在这里尤其通过至少一个发射装置如此实施相应天线的运行、尤其是控制，即，第一天线的运行取决于第二天线的运行来实施，从而可以利用天线彼此的协同效果。例如可以利用干涉效应等，以便通过天线的匹配控制来产生匹配的温区分布和/或热点。
[0026] 按照有利方式在本发明范围内可以规定，天线布置具有至少一个第一天线和第二天线，它们彼此保持间隔地布置，并且尤其是它们根据不同天线结构形式实施，其中，尤其是这些天线结构形式包括以下结构形式的至少一个结构形式：
[0027] ‑双极天线，优选在其中，指向性取决于沿双极天线的电导体长度的电流分布，[0028] ‑单极天线，尤其是棒状天线，优选在其中实施围绕单极天线的竖向轴线旋转对称的场分布，
[0029] ‑圆极化天线，其尤其被实施为交叉双极和/或具有包括两个天线部分的布置，它们错开90°和/或能够90°相移地被馈电和/或能够线极化运行。
[0030] 在这里，圆极化天线优选可以产生非常均匀的温度分布(温区分布)，这是因为电磁波的场分布始终变化并且可以出现强烈交替穿透烹制食物(食品)。尤其是可以由此减少干涉图案。相反，双极天线尤其可以基于其指向性有针对性地在烹制食物内产生热点。在此，天线布置优选可以如此实施和/或运行，即，有针对性地或者然而例如也在很大程度上避免产生干涉图样。由此可以明显节约能量。
[0031] 尤其可以规定，为了尤其是在烹调腔和/或烹制食物内产生尽量均匀的温度(区)分布，设置至少一个圆极化天线，和/或为了尤其是在烹调腔和/或烹制食物内产生尽量集中的温度分布(热点)，设置至少一个双极天线。圆极化天线产生非常均匀的温度分布，这是因为电磁波的场分布始终变化并且可以出现强烈交替穿透烹制食物和/或避免干涉图案。相反，双极天线可以基于其指向性而被用于有针对性地在烹调腔和/或烹制食物内产生热点。在此，烹制食物尤其是烹调腔内的待加热的食品。
[0032] 能量或温度分布尤其理解为温区分布。
[0033] 在本发明范围内可以规定，天线或天线布置的至少其中一个天线至少部分被实施为铜天线和/或至少部分具有铜等。在此优点尤其是，铜具有抗菌效果，从而可以实现经济和健康地烹调至少一个食品。
[0034] 优选可以将天线布置实施为非运动的，因而尤其是无运动部件也够用。替代或附加地可以想到，各种温度分布尤其是在烹调腔和/或烹制食物内如此产生，即，天线布置关于运行所用功率和/或频率和/或相位得到调整。因而例如也可以在不同区域内产生热点，而无需移动该天线布置。这可以实现非常节约空间和结构紧凑的天线布置。
[0035] 也可以想到，设置至少两个不同的烹调位置，天线布置的各天线如此布置，尤其是如此调整取向和/或能够如此运行，即，能够向各烹调位置输送不同程度的能量，从而能够受控加热相应烹调位置的食品，尤其是能够相应均匀或以预定方式尤其是不同方式加热。在此，均匀或以预定方式执行的加热优选涉及整个烹调腔或相应烹调位置或相应烹制食物(食品)。换而言之，均匀温区分布均匀地沿整个烹调腔或至少其中一个烹调位置或各个烹制食物延伸。不言而喻，同样情况也适用于不均匀(非均匀)温区分布和/或按照预定方式的温区分布。
[0036] 此外有利的是，天线布置具有多个天线，从而通过天线能够产生细粒度温度分布，其中，优选设置至少3个或至少5个或至少10个或至少20个天线。细粒度温度分布尤其是温区分布尤其可以在烹调腔和/或烹制食物区域内和/或在至少其中一个烹调位置区域内产生。为此，这些天线优选可以并排和/或以矩阵结构尤其是布置在底部元件内。这可以实现待简单且廉价制造的天线布置，用于产生细粒度温度分布以便能够执行均匀加热食品。
[0037] 此外可以规定，该系统包括盖元件和底部元件，尤其是底部或推入元件，其中，底部元件尤其是与盖元件对置，并且优选地，烹调腔至少部分由底部元件和盖元件限定，并且其中，天线布置被设置在底部元件的区域内，优选在底部元件下方，其中，底部元件尤其布置在天线布置和烹调腔之间。在此，天线布置、优选天线布置的至少其中一个天线集成在底部元件内。优点是，可以缩短天线布置和食品之间的间距。由此可以明显节约能量。因而替代或附加地也可以将至少一个加热元件集成在底部元件内。
[0038] 优选可行的是，底部元件被实施为用于食品的容纳装置和/或推入元件，并且尤其是在烹调腔内可送入和/或可固定和/或可导入和/或推入烹调腔的不同高度(例如与系统的盖元件和/或底部保持不同间距)。在此，烹调腔优选由盖元件和底部限定，其中，底部元件相对于盖元件和/或底部保持确定的间距，或者说与之间隔布置。这可以实现特别简单且廉价的烹调腔设计。
[0039] 优选规定，底部元件被实施为炉子的底部或烤盘等，其用于推入烹调腔和/或容纳食品。
[0040] 底部元件尤其布置在本发明系统的盖元件下方，其中，“下方”的方向说明涉及本发明系统的使用或运行状态。相应地，与盖元件相比，底部元件在本发明系统运行状态下被布置得更为靠近本发明系统的安放面(安放面例如涉及厨房等的地面)。
[0041] 根据另一优点可以规定，与该系统的盖元件相比，天线布置相对于烹调位置的间距更小，其中，天线布置和烹调位置之间的间距优选最大是1cm或最大4cm或最大6cm或最大10cm，并且天线布置作为第一加热装置与系统的其它加热装置相比相对于烹调位置的间距更小，尤其是从而因抵达食品之前的更小间距能够降低电磁能量的反射和/或散射。不言而喻，至少其中另一加热装置与第一加热装置相比相对于烹调位置也可以具有类似的较小间距。不言而喻，其它天线布置也可以作为其它加热装置。
[0042] 根据另一可能性可以规定，该系统的底部元件至少部分以非金属方式构造和/或对于电磁能量，尤其是电磁辐射而言是可穿透的，优选是，从而电磁能量能够从天线布置出发经过底部元件进入烹调腔，其中，底部元件优选主要具有陶瓷和/或玻璃和/或是由其制成的，和/或至少部分或主要由非金属材料制成。这样的优点是，可以明显降低烹调的能量消耗。
[0043] 此外有优点的情况是，除了天线布置之外优选在系统的盖元件区域内设置另一加热装置，其中，另一加热装置包括至少一个加热线圈和/或电加热件和/或磁控管，其尤其固定在盖元件上。尤其可以通过加热装置和/或天线布置尤其是在烹调腔和/或烹制食物内产生非常灵活和动态的温区。优选可以通过电磁辐射(其通过该天线布置射出)的场分布的调整来产生均匀的温度分布。不言而喻也可行的是，另一加热装置也布置在底部元件内，从而可以实施烹制食物的特别有效的加热。尤其是通过另一加热装置例如可实现烧烤功能，以便煎烤食品。在此，另一加热装置例如可以包括电加热器。
[0044] 尤其可行的是，电磁能量(尤其是辐射)的场分布通过天线布置如此调整，即，实现匹配于至少一个食品的温度分布。这样例如可能尤其是在烹调腔内存在不同的各类食品，例如鱼连同配菜和蔬菜等。这些食品通常关于大小和重量等有所区别，从而这些食品按照不同速度加热。通过匹配的温度分布可以实现期望的、例如匹配的和均匀的加热。为此也可以应用所谓的热点，它们实现温度分布的空间限定的集中。
[0045] 其中另一优点可以规定，所述系统被实施为炉子，尤其是烤箱或微波等。尤其是在微波炉中可以想到，微波辐射通过天线布置和/或通过磁控管发射。
[0046] 烹调至少一个食品的方法同样是本发明主题，其中，在烹调腔内在至少一个烹调位置定位和/或烹调食品。
[0047] 在这里尤其规定，针对烹调至少一个食品规定以下步骤的至少其中一个步骤，其中，这些步骤尤其可以依次或以任意顺序执行，优选各个步骤也可以重复执行：
[0048] a)天线布置的至少一个天线是取决于烹调位置来调整取向的，
[0049] b)根据至少一种运行方式通过发射装置来运行天线，从而将电磁能量输入烹调腔，由此尤其是在烹调腔内产生用于加热食品的功率优化的温区分布。
[0050] 因此，本发明方法自身带来了与结合本发明系统详细阐述内容相同的优点。此外，本发明方法可以适合运行本发明系统。
[0051] 在另一可行方案中可以规定，电磁能量是在适于加热食品的频率范围内和/或微波范围内的高频电磁辐射。尤其是，电磁能量作为电磁波发射至烹调腔内。尤其可以规定，辐射完全穿透食品，尤其是烹制食物。关于此，例如作为选择频率范围的标准可以认为：食品是水或含水。这可以实现简单可靠地运行天线布置，以便烹调食品。
[0052] 按照有利方式在本发明范围内可以规定，设置至少两个不同烹调位置，天线布置的不同天线如下布置，尤其是如下取向和/或运行，即，向不同烹调位置供应相应不同大小的能量，其中，能量的相应不同大小取决于针对相应烹调位置的食品的特定条件如此调节，即，能够根据预先规定，尤其是均匀地加热食品。这些条件例如可以是相应食品的尺寸和/或重量和/或相应食品的类型，它们例如也可以针对不同食品而彼此有所区别，从而在相同的能量供应时可以不同速度加热食品。在此，所述预先规定尤其可以是预定的温度分布和/或预定的烧制特性和/或期望的烧制过程。尤其可以如此确定预先规定，即，分析操作人员输入。
[0053] 在本发明范围内可以规定，天线布置的至少两个天线的运行利用不同运行方式实施，这些运行方式就“以之运行天线布置的相应天线”的(电磁波和/或电压的)功率和/或频率和/或相位和/或周期性通断而有所区别，从而优选地，尤其是在烹调腔内产生预定温区分布，优选具有均匀或不均匀的温度分布。在此，不均匀的温度分布尤其用于产生热点，从而可以进行食品的特别灵活的烹调。在此，频率尤其是天线发射频率和/或相应天线的发射辐射的频率。尤其可以例如通过天线的脉冲运行、尤其通过脉宽调制和/或相位调制来实施接通和/或断开。
[0054] 此外在本发明范围内可以规定，天线布置的运行通过控制单元来调整，从而根据由控制单元分析的条件尤其是在烹调腔和/或烹制食物内产生预定温区分布。这些条件尤其可以包括预先规定和/或操作人员输入和/或测量结果。由此实现特别节约能量的和有效的食品烹调。
[0055] 另外可以想到，为了产生预定温区分布(尤其是在烹调腔内)，按照不同方式执行烹调腔的不同烹调位置的能量供应，从而
[0056] ‑尤其是在烹调腔内针对不同烹调位置产生具有相应不同温度的至少两个不同温区，从而尤其是，根据尤其是不均匀的第一温区分布不均匀地加热不同烹调位置的食品，或[0057] ‑尤其是在烹调腔和/或烹制食物内，针对均匀的温度分布产生唯一的温区，从而尤其是根据尤其是均匀的第二温区分布，尤其是利用大致均匀的温度加热不同烹调位置的食品。
[0058] 在此，如果根据食品(食物)的类型需要考虑周全地加热，则尤其可以应用第一温区分布。此外可以想到的是，例如如果尽管食品的食物类型不同，但依然应当保证相同的完成时间点，则采用不同的温区分布。在此，尤其是如果在不同或相同食品中应当进行均匀加热，则应用第二温区分布，其中，为此这些温度尤其是最多在一确定的范围内允许有所区别。相反，不均匀的温度分布尤其适用于热点的产生。
[0059] 此外可以规定，为了产生预定温度分布，针对第一烹调位置的第一温区规定第一目标温度值，针对第二烹调位置的第二温区规定第二目标温度值，其中，天线布置通过至少一个发射装置和/或控制单元如此控制，即，能够关于相应目标温度值单独调节相应温区。为此，尤其是通过发射装置和/或控制单元如此实施调节，即，温区内的温度尤其是尽管食品不同依然对应于确定的目标温度值和/或例如取决于食品预定不同的目标温度。
[0060] 根据另一优点可以规定，至少一个温区的目标温度值是食品的预定温度值，为了调节温区将所述预定温度值与食品的测得和/或估算的对比温度值进行对比，从而在烹调时，对比温度值最大具有与目标温度值的预定偏差。为了估算对比温度值例如可以应用统计方法，从而实现简单计算对比温度值。
[0061] 根据另一可行方案可以规定，“第一食品和/或第一烹调位置的第一温区的第一目标温度值”与“第二食品和/或第二烹调位置的第二温区的第二目标温度值”取决于预设置和/或操作人员输入而有偏差(尤其相对于不均匀的温区分布)或相同(尤其相对于均匀温区分布)。因而可以简单调节温区分布。
[0062] 此外可以想到，设置至少一个驱动器用于天线布置和/或相应天线。由此这些天线可以简单方式调整取向。
[0063] 此外可能的是，发射装置具有至少一个高频信号发生器和/或至少一个功率放大器，从而电信号可以发送至天线布置的至少一个天线，以实现至少一个天线的运行。
附图说明
[0064] 本发明其它优点、特征和细节由在此结合附图详细说明本发明实施例的以下说明得到。在此，在权利要求和说明中所述的特征相应单独自身或任意组合均为本发明必不可少的部分。图中：
[0065] 图1是本发明系统的部分的一个示意图；
[0066] 图2是本发明系统的部分的另一示意图；
[0067] 图3是本发明系统的部分的另一示意图；以及
[0068] 图4是本发明系统的部分的另一示意图。
具体实施方式
[0069] 在下图中，针对不同实施例的相同技术特征应用相同的附图标记。
[0070] 图1至图4分别示意性示出本发明系统100的部分。在此，在图1中，本发明系统100的部分是微波炉的部分，而在图2至图4中，本发明系统100的部分是烤箱的部分。不言而喻，这些构造方式是纯示例性的，从而也可以想到本发明系统100的其它实施方式。
[0071] 在图1中可以看到，本发明系统100具有食品托架4，从而可以为至少一个食品1提供烹调位置5。在此，食品托架4被实施为底部元件11。加热装置20可以布置在该底部元件11内，该加热装置具有至少一根天线31并因而相当于天线布置30。替代或附加地，天线布置30和/或另一天线31也可以布置在底部14内。在此，天线布置30用于将电磁能量80的能量输入烹调位置5，由此可加热食品1。为促使能量供应，加热装置20或天线布置30也包括至少一个驱动器35和/或至少一个发射装置40和/或至少一个功率放大器50和/或至少一个控制单元60。
[0072] 在此，驱动器35尤其用于天线布置30的相应天线31的运动以及取向调整。发射装置40，尤其是高频信号发生器尤其用于相应天线31的运行。
[0073] 如图1可知，天线布置30的至少一根天线31非常近地布置在食品1附近，从而可以避免能量损失。
[0074] 在图2中，天线布置30即至少一根第一天线31a和/或第二天线31b和/或第三天线31c布置在烤箱的底部元件11或底部14内。在此，第一天线31a例如可以被实施为单极天线，第二天线31b例如可以被实施为双极天线和/或第三天线31c例如可以被实施为圆极化天线。不言而喻也可以想到，仅设置一个或多个相应的第一和/或第二和/或第三天线31a、
31b、31c。换而言之，相应可选存在一个或多个第一和第二和第三天线31a、31b、31c，尤其是存在相应单个或大量的天线。也可以想到天线31的沿底部元件11和/或底部14面积分布的布置方式，例如矩阵状布置方式。此外，在此也可以设置发射装置40，以便运行相应天线31。
[0075] 另外，在图2中也可以看到，烤箱和/或本发明系统100具有至少一个侧面元件12和/或底部元件11和/或盖元件13和/或底部14，它们至少在局部限制和/或构成尤其是烹调腔10。可选地，也可以设置烤架95和/或加热线圈96和/或热源97和/或风扇98。烤架95和/或热源97和/或加热线圈96在此可以被实施为至少一个第二加热装置20b，其中，天线布置30构成第一加热装置20a。
[0076] 在图3和图4中可以看到，也可以设置与底部14分开的底部元件11，以便容纳至少一个食品1。例如在图3中示出，第一烹调位置5a的第一食品1a和第二烹调位置5b的第二食品1b以及第三烹调位置5c的第三食品1c。在此，天线布置30例如可以具有至少一个天线31，其集成在底部14内(参见3)和/或底部元件11内(参见图4)。
[0077] 在此也可以想到，在烹调腔10内如此产生温区分布，即，均匀加热各个食品1a、1b、1c，或者针对各个或其中一个食品1也产生热点。通过热点例如可以实现，尤其是强烈地加热某个食品1(例如仅第二食品1b)或者仅单个食品1(例如第二食品1b)的某个区域，即，温度分布集中在该区域内。
[0078] 温区分布的产生以及尤其是温区分布的变化例如可以如此实现，即，天线布置30能够可变化地运行和/或可变化地改变取向。可变化的取向例如可以通过至少一个驱动器35实施，该驱动器使得至少一个天线31移动，尤其是转动。可变化的运行(例如根据至少一种运行方式)例如可以如此实现，即，发射装置40利用不同的电信号和/或频率来驱动至少一个天线31。
[0079] 前述实施方式仅在示例范围内说明了本发明。不言而喻，只要技术方面是有意义的，在不脱离本发明范围情况下，实施方式的各个特征可以彼此自由组合。
[0080] 附图标记列表
[0081] 1 食品
[0082] 1a 第一食品
[0083] 1b 第二食品
[0084] 1c 第三食品
[0085] 4 食品托架
[0086] 5 烹调位置
[0087] 5a 第一烹调位置
[0088] 5b 第二烹调位置
[0089] 5c 第三烹调位置
[0090] 10 烹调腔
[0091] 11 底部元件
[0092] 12 侧面元件
[0093] 13 盖元件
[0094] 14 底部
[0095] 20 加热装置
[0096] 20a 第一加热装置
[0097] 20b 第二加热装置
[0098] 30 天线布置
[0099] 31 天线
[0100] 31a 第一天线，单极天线
[0101] 31b 第二天线，双极天线
[0102] 31c 第三天线，圆极化天线
[0103] 35 驱动器
[0104] 40 发射装置，高频信号发生器
[0105] 50 功率放大器
[0106] 60 控制单元
[0107] 80 电磁能量或辐射
[0108] 95 烤架
[0109] 96 加热线圈
[0110] 97 热源
[0111] 98 风扇
[0112] 100 系统
