一种半导体生产用等离子刻蚀机转让专利

申请号 : CN201810569471.2

文献号 : CN108597979B

文献日 :

基本信息:

PDF:

法律信息:

相似专利:

发明人 : 梁亚

申请人 : 江苏锡沂高新区科技发展有限公司

摘要 :

本发明公开了一种半导体生产用等离子刻蚀机,包括等离子刻蚀机本体、第一弹性元件和第二弹性元件,所述等离子刻蚀机本体的底部设置有第一固定块,且第一固定块的内部安装有第一销轴,所述第一弹性元件的一端固定于等离子刻蚀机本体的底面,且第一弹性元件的另一端连接有第二固定块,所述第二固定块的内部设置有第二销轴,所述第二固定块的边侧设置有挡板,所述第二弹性元件的一端固定于支撑杆的内侧,所述支撑杆的外壁连接有钢丝,所述等离子刻蚀机本体底部的中心处设置有第三固定块。该半导体生产用等离子刻蚀机,具有减震的效果,从而保证了运输过程中,该装置内部设备的安全,且具有防止该装置发生相对运动的功能。

权利要求 :

1.一种半导体生产用等离子刻蚀机,包括等离子刻蚀机本体(1)、第一弹性元件(5)和第二弹性元件(12),其特征在于:所述等离子刻蚀机本体(1)的底部设置有第一固定块(2),且第一固定块(2)的内部安装有第一销轴(3),并且第一销轴(3)的中部设置有第一滑轮(4),所述第一弹性元件(5)的一端固定于等离子刻蚀机本体(1)的底面,且第一弹性元件(5)的另一端连接有第二固定块(6),所述第二固定块(6)的内部设置有第二销轴(7),且第二销轴(7)的中部安装有第二滑轮(8),所述第二固定块(6)的边侧设置有挡板(9),且挡板(9)的内部安装有第三销轴(11),并且第三销轴(11)的中部设置有支撑杆(10),所述第二弹性元件(12)的一端固定于支撑杆(10)的内侧,且第二弹性元件(12)的另一端设置于第二固定块(6)的外侧,所述支撑杆(10)的外壁连接有钢丝(13),且钢丝(13)设置于第一滑轮(4)上,并且钢丝(13)的一端固定于第一滑轮(4)的边端,所述等离子刻蚀机本体(1)底部的中心处设置有第三固定块(15),且第三固定块(15)的内部安装有转轴(14);

所述支撑杆(10)与第二弹性元件(12)为弹性连接,且支撑杆(10)的一端设计为弧形结构;

所述转轴(14)与第三固定块(15)为螺纹连接,且第三固定块(15)设置有2个。

2.根据权利要求1所述的一种半导体生产用等离子刻蚀机,其特征在于:所述第一弹性元件(5)设置有4个,且第一弹性元件(5)关于等离子刻蚀机本体(1)的中心轴线对称。

3.根据权利要求1所述的一种半导体生产用等离子刻蚀机,其特征在于:所述挡板(9)关于第二固定块(6)的中心轴线对称,且挡板(9)上的第三销轴(11)与支撑杆(10)构成转动结构。

4.根据权利要求1所述的一种半导体生产用等离子刻蚀机,其特征在于:所述支撑杆(10)通过钢丝(13)和第一滑轮(4)与转轴(14)构成升降机构,且第一滑轮(4)设置有8个。

说明书 :

一种半导体生产用等离子刻蚀机

技术领域

[0001] 本发明涉及等离子刻蚀机技术领域,具体为一种半导体生产用等离子刻蚀机。

背景技术

[0002] 等离子刻蚀机,又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪和等离子清洗系统等;等离子刻蚀,是干法刻蚀中最常见的一种形式,其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体,由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体,从而形成了等离子或离子,电离气体原子通过电场加速时,会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。
[0003] 然而现有的等离子刻蚀机,减震的效果不佳,从而不便于运输,且不便于其转轮的固定,从而导致不便使用该装置。针对上述问题,急需在原有等离子刻蚀机的基础上进行创新设计。

发明内容

[0004] 本发明的目的在于提供一种半导体生产用等离子刻蚀机,以解决上述背景技术提出现有的等离子刻蚀机,减震的效果不佳,且不便于其转轮的固定的问题。
[0005] 为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种半导体生产用等离子刻蚀机,包括等离子刻蚀机本体、第一弹性元件和第二弹性元件,所述等离子刻蚀机本体的底部设置有第一固定块,且第一固定块的内部安装有第一销轴,并且第一销轴的中部设置有第一滑轮,所述第一弹性元件的一端固定于等离子刻蚀机本体的底面,且第一弹性元件的另一端连接有第二固定块,所述第二固定块的内部设置有第二销轴,且第二销轴的中部安装有第二滑轮,所述第二固定块的边侧设置有挡板,且挡板的内部安装有第三销轴,并且第三销轴的中部设置有支撑杆,所述第二弹性元件的一端固定于支撑杆的内侧,且第二弹性元件的另一端设置于第二固定块的外侧,所述支撑杆的外壁连接有钢丝,且钢丝设置于第一滑轮上,并且钢丝的一端固定于第一滑轮的边端,所述等离子刻蚀机本体底部的中心处设置有第三固定块,且第三固定块的内部安装有转轴。
[0006] 优选的,所述第一弹性元件设置有4个,且第一弹性元件关于等离子刻蚀机本体的中心轴线对称。
[0007] 优选的,所述挡板关于第二固定块的中心轴线对称,且挡板上的第三销轴与支撑杆构成转动结构。
[0008] 优选的,所述支撑杆与第二弹性元件为弹性连接,且支撑杆的一端设计为弧形结构。
[0009] 优选的,所述支撑杆通过钢丝和第一滑轮与转轴构成升降机构,且第一滑轮设置有8个。
[0010] 优选的,所述转轴与第三固定块为螺纹连接,且第三固定块设置有2个。
[0011] 与现有技术相比,本发明的有益效果是:该半导体生产用等离子刻蚀机,设置有第一弹性元件,保证了该装置在运输过程中不会因剧烈的运动,而导致内部零件的损坏,从而降低了运输过程中该装置损坏的几率,且设置有第一滑轮,保证了在拉动钢丝时,第一滑轮能够带动钢丝运动,同时能够带动支撑杆进行上下运动,进而保证了在使用等离子刻蚀机本体时,其不会出现移动的现象,从而保证了刻蚀机在工作时不会因外力的作用发生运动,保证了成品的质量,并且设置有第二弹性元件,保证了支撑杆向上运动后,能够在第二弹性元件的弹力作用下,恢复到原状态,从而保证该装置的稳固性,除此之外,还设置有转轴和第三固定块,保证了拧动转轴后,转轴不会受到拉力回到原位置,从而无需用手时刻控制转轴的位置。

附图说明

[0012] 图1为本发明正视结构示意图;
[0013] 图2为本发明侧视结构示意图;
[0014] 图3为本发明图1中A处局部放大结构示意图;
[0015] 图4为本发明图1中B处局部放大结构示意图。
[0016] 图中:1、等离子刻蚀机本体;2、第一固定块;3、第一销轴;4、第一滑轮;5、第一弹性元件;6、第二固定块;7、第二销轴;8、第二滑轮;9、挡板;10、支撑杆;11、第三销轴;12、第二弹性元件;13、钢丝;14、转轴;15、第三固定块。

具体实施方式

[0017] 下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
[0018] 请参阅图1-4,本发明提供一种技术方案:一种半导体生产用等离子刻蚀机,包括等离子刻蚀机本体1、第一固定块2、第一销轴3、第一滑轮4、第一弹性元件5、第二固定块6、第二销轴7、第二滑轮8、挡板9、支撑杆10、第三销轴11、第二弹性元件12、钢丝13、转轴14和第三固定块15,等离子刻蚀机本体1的底部设置有第一固定块2,且第一固定块2的内部安装有第一销轴3,并且第一销轴3的中部设置有第一滑轮4,第一弹性元件5的一端固定于等离子刻蚀机本体1的底面,且第一弹性元件5的另一端连接有第二固定块6,第二固定块6的内部设置有第二销轴7,且第二销轴7的中部安装有第二滑轮8,第二固定块6的边侧设置有挡板9,且挡板9的内部安装有第三销轴11,并且第三销轴11的中部设置有支撑杆10,第二弹性元件12的一端固定于支撑杆10的内侧,且第二弹性元件12的另一端设置于第二固定块6的外侧,支撑杆10的外壁连接有钢丝13,且钢丝13设置于第一滑轮4上,并且钢丝13的一端固定于第一滑轮4的边端,等离子刻蚀机本体1底部的中心处设置有第三固定块15,且第三固定块15的内部安装有转轴14,
[0019] 第一弹性元件5设置有4个,且第一弹性元件5关于等离子刻蚀机本体1的中心轴线对称,防止了该装置在运输过程中,由于剧烈运动,导致内部设备损坏,从而避免了不必要的损失,
[0020] 挡板9关于第二固定块6的中心轴线对称,且挡板9上的第三销轴11与支撑杆10构成转动结构,防止了等离子刻蚀机本体1随着第二滑轮8运动,同时保证了支撑杆10能够上下运动,
[0021] 支撑杆10与第二弹性元件12为弹性连接,且支撑杆10的一端设计为弧形结构,保证了支撑杆10向上运动后,能够在第二弹性元件12产生的弹力的作用下恢复到原状态,[0022] 支撑杆10通过钢丝13和第一滑轮4与转轴14构成升降机构,且第一滑轮4设置有8个,保证了用很小的力拉动钢丝13,支撑杆10便能进行上下运动,
[0023] 转轴14与第三固定块15为螺纹连接,且第三固定块15设置有2个,保证了拧动转轴14后,转轴14不会受到拉力回到原位置,从而无需用手时刻控制转轴14的位置。
[0024] 工作原理:在使用该半导体生产用等离子刻蚀机时,首先用手顺时针拧动转轴14的一端,此时转轴14带动其两端的钢丝13向该装置的中心处运动,接着钢丝13通过第一滑轮4带动支撑杆10向上运动,同时支撑杆10的一端绕着第三销轴11转动,与此同时,第二固定块6与支撑杆10之间的第二弹性元件12被拉伸,此时即可推动等离子刻蚀机本体1,接着等离子刻蚀机本体1底部的第二滑轮8带动该装置运动,同时设置的第一弹性元件5保证了等离子刻蚀机本体1在运动时,内部的设备不会损坏,固定该装置时,即可逆时针拧动转轴14的一端,此时第二弹性元件12收缩,将支撑杆10向下拉动,直至第二弹性元件12恢复到原来的状态,此时该装置即可被固定,从而防止了该装置滑动。
[0025] 尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。