本发明公开了一种二极管自动清洗系统，包括清洗区以及连接所述清洗区的过渡区、集料区，所述清洗区包括相对平行设置且结构相同的第一清洗区、第二清洗区，所述第一清洗区、第二清洗区与所述过渡区围成U型状，所述过渡区的一侧沿进料方向竖直设有一号电液推杆，所述过渡区的另一侧沿进料方向水平设有二号电液推杆，所述第二清洗区的末端沿出料方向垂直设有三号电液推杆，所述集料区的一侧沿出料方向水平设有四号电液推杆，所述一号电液推杆、二号电液推杆、三号电液推杆、四号电液推杆分别与设置在过渡区外侧的控制器连接，本发明实现了对二极管的浸泡清洗以及对清洗板倾斜冲洗，清洗更加全面、充分。
1.一种二极管自动清洗系统，包括清洗区以及连接所述清洗区的过渡区(12)、集料区(10)，其特征在于：所述清洗区包括相对平行设置且结构相同的第一清洗区(11)、第二清洗区(13)，所述第一清洗区(11)、第二清洗区(13)与所述过渡区(12)围成U型状，所述过渡区(12)的一侧沿进料方向竖直设有一号电液推杆(6)，所述过渡区(12)的另一侧沿进料方向水平设有二号电液推杆(7)，所述第二清洗区(13)的末端沿出料方向垂直设有三号电液推杆(8)，所述集料区(10)的一侧沿出料方向水平设有四号电液推杆(9)，所述一号电液推杆(6)、二号电液推杆(7)、三号电液推杆(8)、四号电液推杆(9)分别与设置在过渡区外侧的控制器(14)连接；
所述第一清洗区(11)包括浸泡池(2)以及设置在浸泡池(2)一端的推料装置(1)、设置在浸泡池(2)内的滑轨(4)、设置在所述浸泡池(2)中部的清洗装置(5)，所述浸泡池(2)通过支架(507)固定在所述推料装置(1)的出料端，所述滑轨(4)相对设置且滑轨(4)上滑动连接清洗板(3)，所述清洗装置(5)包括水箱(501)、连接水箱(501)的水管(503)、侧板(502)，所述侧板(502)设置在所述浸泡池(2)的上部，所述水箱(501)设置在所述侧板(502)的顶部，所述侧板(502)的内壁对应所述滑轨(4)的上端设有侧滑轨(508)，所述水管(503)平行设置在所述滑轨(4)的上方，所述水管(503)的末端均匀设有喷头(505)，所述侧滑轨(508)的两端分别倾斜设置导向轨(509)，所述导向轨(509)分别对接所述滑轨(4)，所述滑轨(4)的顶端对应所述侧滑轨(508)的一侧设有限位槽(401)。
2.根据权利要求1所述的一种二极管自动清洗系统，其特征在于：所述推料装置(1)包括推杆(106)、机座(101)以及设置在机座(101)一侧的集料箱(110)，所述机座(101)内固定设有电机(114)，所述电机(114)的输出轴与设置在所述机座(101)上表面的凸轮(102)转动连接，所述机座(101)的上表面对应所述凸轮(102)的右侧设置有固定板(105)，所述推杆(106)贯穿所述固定板(105)且与所述固定板(105)活动连接，所述推杆(106)通过移动板(103)与所述凸轮(102)接触连接，所述推杆(106)的另一端延伸至所述集料箱(110)内且推杆(106)的末端设有推板(111)，所述推杆(106)的表面对应所述移动板(103)与所述固定板(105)之间套设有弹簧(104)。
3.根据权利要求2所述的一种二极管自动清洗系统，其特征在于：所述集料箱(110)的底部通过弹性件(113)设有升降板(112)，所述集料箱(110)内的顶部通过连接板(107)设置有压板(108)。
4.根据权利要求3所述的一种二极管自动清洗系统，其特征在于：所述压板(108)的下表面设有橡胶垫片(109)。
5.根据权利要求1所述的一种二极管自动清洗系统，其特征在于：所述浸泡池(2)的底部设有循环水箱(510)，所述循环水箱(510)的底部设有循环泵(511)，所述循环泵(511)通过管道与所述水箱(501)连通。
6.根据权利要求1所述的一种二极管自动清洗系统，其特征在于：所述水管(503)靠近水箱的一段设有阀门(504)。
7.根据权利要求1所述的一种二极管自动清洗系统，其特征在于：所述侧板(502)内壁对应所述侧滑轨(508)的上方水平设有限位挡板(506)。
一种二极管自动清洗系统
技术领域：
[0001] 本发明涉及清洗设备领域，具体涉及一种二极管自动清洗系统。背景技术：
[0002] 二极管(英语：Diode)，电子元件当中，一种具有两个电极的装置，只允许电流由单一方向流过，许多的使用是应用其整流的功能。目前发光二极管广泛应用于各种电子产品的指示灯、光纤通信用光源、各种仪表的指示器以及照明。在生产二极管的过程中，清洗工序是在制作部件时必须要经过制作工序，特别是像二极管这样的电子部件，在前面部分的制作工序中，难免会使得二极管沾上许多灰尘，如果不将二极管清洗干净，在使用过程中，由灰尘产生的静电将会损坏二极管或者其他更加紧密的部件。然而，目前对二极管的清洗工作，主要使用的清洗设备非常简单，采用类似车间吊车这样的设备将整框的二极管放入清洗槽中清洗，这种清洗装置，需要人工操作车间吊车将二极管放入多个清洗槽中依次清洗，费时费力，无法实现流水线形式的快速清洗。
[0003] 在公开号为CN205701637U的专利中，公开了一种具有喷头调节的二极管清洗装置，包括清洗槽、清洗系统和驱动机构，清洗系统包括供水管和设置于供水管一端的喷头，喷头设置于清洗槽内，所述驱动机构包括设置于清洗槽内的固定部和驱动固定部沿横向做往复式直线运动的驱动部，所述喷头均固定设置于固定部上，解决了现有二极管清洗方式清洗效率低，劳动强度高的问题。
[0004] 上述专利中，通过往复运动使二极管的清洗充分，无法对二极管进行各方位的清洗，并且没有浸泡工序，依靠冲洗无法清洗一些顽固残渣。发明内容：
[0005] 本发明所要解决的技术问题在于提供结构简单，清洗效率高，能够对二极管充分清洗的一种二极管自动清洗系统。
[0006] 本发明所要解决的技术问题采用以下的技术方案来实现：一种二极管自动清洗系统，包括清洗区以及连接所述清洗区的过渡区、集料区，所述清洗区包括相对平行设置且结构相同的第一清洗区、第二清洗区，所述第一清洗区、第二清洗区与所述过渡区围成U型状，所述过渡区的一侧沿进料方向竖直设有一号电液推杆，所述过渡区的另一侧沿进料方向水平设有二号电液推杆，所述第二清洗区的末端沿出料方向垂直设有三号电液推杆，所述集料区的一侧沿出料方向水平设有四号电液推杆，所述一号电液推杆、二号电液推杆、三号电液推杆、四号电液推杆分别与设置在过渡区外侧的控制器连接。
[0007] 进一步地，所述第一清洗区包括浸泡池以及设置在浸泡池一端的推料装置、设置在浸泡池内的滑轨、设置在所述浸泡池中部的清洗装置，所述浸泡池通过支架固定在所述推料装置的出料端，所述滑轨相对设置且滑轨上滑动连接清洗板，所述清洗装置包括水箱、连接水箱的水管、侧板，所述侧板设置在所述浸泡池的上部，所述水箱设置在所述侧板的顶部，所述侧板的内壁对应所述滑轨的上端设有侧滑轨，所述水管平行设置在所述滑轨的上方,所述水管的末端均匀设有喷头，所述侧滑轨的两端分别倾斜设置导向轨，所述导向轨分别对接所述滑轨，所述滑轨的顶端对应所述侧滑轨的一侧设有限位槽。
[0008] 进一步地，所述推料装置包括推杆、机座以及设置在机座一侧的集料箱，所述机座内固定设有电机，所述电机的输出轴与设置在所述机座上表面的凸轮转动连接，所述机座的上表面对应所述凸轮的右侧设置有固定板，所述推杆贯穿所述固定板且与所述固定板活动连接，所述推杆通过移动板与所述凸轮接触连接，所述推杆的另一端延伸至所述集料箱内且推杆的末端设有推板，所述推杆的表面对应所述移动板与所述固定板之间套设有弹簧。
[0009] 进一步地，所述集料箱的底部通过弹性件设有升降板，所述集料箱内的顶部通过连接板设置有压板。
[0010] 进一步地，所述压板的下表面设有橡胶垫片。
[0011] 进一步地，所述浸泡池的底部设有循环水箱，所述循环水箱的底部设有循环泵，所述循环泵通过管道与所述水箱连通。
[0012] 进一步地，所述水管靠近水箱的一段设有阀门。
[0013] 进一步地，所述侧板内壁对应所述侧滑轨的上方水平设有限位挡板。
[0014] 本发明的有益效果是：本发明通过清洗区、过渡区、推料装置、清洗装置的配合连接，解决了现有的二极管清洗装置清洗不全面，效率低，自动化程度低的问题，实现对二极管的浸泡清洗以及对清洗板倾斜冲洗，清洗更加全面、充分，清洗区与过渡区围成U形状，占地面积小。
[0015] 在对二极管进行清洗时，首先将放置有二极管的清洗板叠放在集料箱上，在电机的转动下，凸轮随之转动，进而使推杆将清洗板推入第一清洗区内的滑轨上，清洗板在浸泡池浸泡后，在推杆的推动作用下，清洗板的一端通过引导板滑入侧滑轨，由于侧滑轨与滑轨高度差，使得清洗板向外侧倾斜，同时喷头对清洗板上的二极管进行清洗，清洗完成后在六号电液推杆、七好电液推杆的作用下，清洗板进入第二清洗区中的清洗装置，清洗板向外侧倾斜，喷头对清洗板进行清洗，最后清洗板在一号、二号、三号、四号电液推杆的共同作用下滑入集料区。附图说明：
[0016] 图1为本发明的俯视图；
[0017] 图2为本发明推料装置的结构示意图；
[0018] 图3为本发明清洗装置的结构示意图；
[0019] 图4为本发明清洗装置的侧面剖视图；
[0020] 图5为本发明清洗装置在实施例中的结构示意图。
[0021] 其中：1-推料装置；101-机座；102-凸轮；103-移动板；104-弹簧；105-固定板；106-推杆；107-连接板；108-压板；109-橡胶垫片；110-集料箱；111-推板；112-升降板；113-弹性件；114-电机；2-浸泡池；3-清洗板；4-滑轨；401-限位槽；5-清洗装置；501-水箱；502-侧板；503-水管；504-阀门；505-喷头；506-限位挡板；507-支架；508-侧滑轨；509-导向轨；510-循环水箱；511-循环泵；6-一号电液推杆；7-二号电液推杆；8-三号电液推杆；9-四号电液推杆；10-集料区；11-第一清洗区；12-过渡区；13-第二清洗区；14-控制器。
具体实施方式：
[0022] 为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示，进一步阐述本发明。
[0023] 实施例1
[0024] 如图1所示，本发明提供一种二极管自动清洗系统，包括清洗区以及连接清洗区的过渡区12、集料区10，清洗区包括相对平行设置且结构相同的第一清洗区11、第二清洗区13，第一清洗区11、第二清洗区13与过渡区12围成U型状，过渡区12的一侧沿进料方向竖直设有一号电液推杆6，过渡区12的另一侧沿进料方向水平设有二号电液推杆7，第二清洗区
13的末端沿出料方向垂直设有三号电液推杆8，集料区10的一侧沿出料方向水平设有四号电液推杆9，一号电液推杆6、二号电液推杆7、三号电液推杆8、四号电液推杆9分别与设置在过渡区外侧的控制器14连接。
[0025] 如图3、图4所示，如第一清洗区11包括浸泡池2以及设置在浸泡池2一端的推料装置1、设置在浸泡池2内的滑轨4、设置在浸泡池2中部的清洗装置5，浸泡池2通过支架507固定在推料装置1的出料端，滑轨4相对设置且滑轨4上滑动连接清洗板3，清洗装置5包括水箱501、连接水箱501的水管503、侧板502，侧板502设置在浸泡池2的上部，水箱501设置在侧板
502的顶部，侧板502的内壁对应滑轨4的上端设有侧滑轨508，水管503平行设置在滑轨4的上方，水管503的末端均匀设有喷头且水管503上设有阀门504，侧滑轨508的两端分别倾斜设置导向轨509，导向轨509分别对接滑轨4，滑轨4的顶端对应侧滑轨508的一侧设有限位槽
401，侧板502内壁对应侧滑轨508的上方水平设有限位挡板506。
[0026] 如图2所示，推料装置1包括推杆106、机座101以及设置在机座101一侧的集料箱110，机座101内固定设有电机114，电机114的输出轴与设置在机座101上表面的凸轮102转动连接，机座101的上表面对应凸轮102的右侧设置有固定板105，推杆106贯穿固定板105且与固定板105活动连接，推杆106通过移动板103与凸轮102接触连接，推杆106的另一端延伸至集料箱110内且推杆106的末端设有推板111，推杆106的表面对应移动板103与固定板105之间套设有弹簧104。
[0027] 如图2所示，集料箱110的底部通过弹性件113设有升降板112，集料箱110内的顶部通过连接板107设置有压板108，压板108的下表面设有橡胶垫片109。
[0028] 在对二极管进行清洗时，首先将放置有二极管的清洗板3叠放在集料箱110上，在电机114的转动下，凸轮102随之转动，进而使推杆106将清洗板3推入第一清洗区11内的滑轨4上，清洗板3在浸泡池2浸泡后，在推杆106的推动作用下，清洗板3的一端通过导向轨509滑入侧滑轨508，由于侧滑轨508与滑轨4的高度差，使得清洗板3向外侧倾斜，同时喷头505对清洗板3上的二极管进行清洗，清洗完成后在一号电液推杆6、二号电液推杆7的作用下，清洗板3进入第二清洗区13中的清洗装置5，清洗板3向外侧倾斜，喷头505对清洗板3进行清洗，最后清洗板3在一号、二号、三号、四号电液推杆的共同作用下滑入集料区10。
[0029] 本发明通过清洗区、过渡区12、推料装置1、清洗装置5的配合连接，解决了现有的二极管清洗装置5清洗不全面，效率低，自动化程度低的问题，实现对二极管的浸泡清洗以及对清洗板3倾斜冲洗，清洗更加全面、充分，清洗区与过渡区围成U形状，占地面积小。
[0030] 实施例2
[0031] 如图1所示，本发明提供一种二极管自动清洗系统，包括清洗区以及连接清洗区的过渡区12、集料区10，清洗区包括相对平行设置且结构相同的第一清洗区11、第二清洗区13，第一清洗区11、第二清洗区13与过渡区12围成U型状，过渡区12的一侧沿进料方向竖直设有一号电液推杆6，过渡区12的另一侧沿进料方向水平设有二号电液推杆7，第二清洗区
13的末端沿出料方向垂直设有三号电液推杆8，集料区10的一侧沿出料方向水平设有四号电液推杆9，一号电液推杆6、二号电液推杆7、三号电液推杆8、四号电液推杆9分别与设置在过渡区外侧的控制器14连接。
[0032] 如图3、图4所示，如第一清洗区11包括浸泡池2以及设置在浸泡池2一端的推料装置1、设置在浸泡池2内的滑轨4、设置在浸泡池2中部的清洗装置5，浸泡池2通过支架507固定在推料装置1的出料端，滑轨4相对设置且滑轨4上滑动连接清洗板3，清洗装置5包括水箱501、连接水箱501的水管503、侧板502，侧板502设置在浸泡池2的上部，水箱501设置在侧板
502的顶部，侧板502的内壁对应滑轨4的上端设有侧滑轨508，水管503平行设置在滑轨4的上方，水管503的末端均匀设有喷头且水管503上设有阀门504，侧滑轨508的两端分别倾斜设置导向轨509，导向轨509分别对接滑轨4，滑轨4的顶端对应侧滑轨508的一侧设有限位槽
401，侧板502内壁对应侧滑轨508的上方水平设有限位挡板506。
[0033] 如图2所示，推料装置1包括推杆106、机座101以及设置在机座101一侧的集料箱110，机座101内固定设有电机114，电机114的输出轴与设置在机座101上表面的凸轮102转动连接，机座101的上表面对应凸轮102的右侧设置有固定板105，推杆106贯穿固定板105且与固定板105活动连接，推杆106通过移动板103与凸轮102接触连接，推杆106的另一端延伸至集料箱110内且推杆106的末端设有推板111，推杆106的表面对应移动板103与固定板105之间套设有弹簧104。
[0034] 如图2所示，集料箱110的底部通过弹性件113设有升降板112，集料箱110内的顶部通过连接板107设置有压板108，压板108的下表面设有橡胶垫片109。
[0035] 如图5所示，浸泡池2的底部设有循环水箱510，循环水箱510的底部设有循环泵511，循环泵511通过管道与水箱501连通。
[0036] 以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
