显示装置及其制造方法

摘要

公开了一种使柔性基板的激励和侧向渗透性最小化以防止显示面板发生缺陷的显示装置及其制造方法。该显示装置包括第一基板；布置在第一基板上的缓冲层；布置在缓冲层上的像素阵列层；以及覆盖像素阵列层的封装层，其中，缓冲层围绕第一基板的前表面和侧面。用于制造显示装置的方法包括以下步骤：(A)准备支承基板；(b)在支承基板上形成彼此间隔开的多个第一基板；(C)形成覆盖多个第一基板的缓冲层；(D)在缓冲层的与多个第一基板中的每一个交叠的区域上形成像素阵列层；(E)形成覆盖像素阵列层的封装层；以及(F)通过基于在多个第一基板之间限定的切割线切割支承基板和缓冲层来形成多个显示面板。

权利要求

1.一种显示装置，包括：

第一基板；

布置在所述第一基板上的缓冲层；

布置在所述缓冲层上的像素阵列层；

覆盖所述像素阵列层的封装层；以及

钝化膜，形成在所述第一基板的侧面，并且与所述第一基板间隔开，其中，所述缓冲层围绕所述钝化膜的侧面，其中，所述缓冲层围绕所述第一基板的前表面和侧面。

2.根据权利要求1所述的显示装置，还包括附接在所述封装层上的第二基板。

3.根据权利要求1或2所述的显示装置，还包括附接至所述第一基板的后表面的透光膜。

4.根据权利要求1或2所述的显示装置，还包括形成在所述第一基板的后表面上的无机层。

5.根据权利要求4所述的显示装置，还包括附接在所述无机层的后表面上的透光膜。

6.根据权利要求1或2所述的显示装置，还包括附接至所述第一基板的后表面的阻挡膜。

7.根据权利要求2所述的显示装置，其中，所述第二基板被形成为具有比所述像素阵列层的面积大的面积。

8.根据权利要求6所述的显示装置，其中，一个或更多个无机膜布置在所述阻挡膜的上表面上。

9.一种用于制造显示装置的方法，所述方法包括以下步骤：(A)准备支承基板；

(B)在所述支承基板上形成彼此间隔开的多个第一基板；

(C)在所述支承基板上形成钝化膜，其中，所述钝化膜与所述多个第一基板中的每一个间隔开；

(D)形成覆盖所述多个第一基板的缓冲层，其中，所述缓冲层围绕所述钝化膜的侧面；

(E)在所述缓冲层的与所述多个第一基板中的每一个交叠的区域上形成像素阵列层；

(F)形成覆盖所述像素阵列层的封装层；以及(G)通过基于在所述多个第一基板之间限定的切割线切割所述支承基板和所述缓冲层来形成多个显示面板。

10.根据权利要求9所述的方法，还包括以下步骤：使用粘合剂材料将第二基板附接在所述封装层的与所述多个第一基板中的每一个交叠的区域上。

11.根据权利要求9所述的方法，其中，所述缓冲层围绕所述多个第一基板的前表面和侧面。

12.根据权利要求9所述的方法，还包括将所述支承基板与所述多个显示面板分离的步骤。

13.根据权利要求12所述的方法，还包括使用透明粘合剂材料将透光膜附接至所述显示面板的后表面的步骤。

14.根据权利要求9至13中任一项所述的方法，还包括在所述支承基板上形成无机层的步骤，其中，所述多个第一基板形成在所述无机层上，并且所述步骤(G)包括切割所述支承基板、所述无机层和所述缓冲层。

15.根据权利要求12所述的方法，还包括使用透明粘合剂材料将阻挡膜附接至所述显示面板的后表面的步骤。

说明书

显示装置及其制造方法

[0001] 相关申请的交叉引用

[0002] 本申请要求于2017年7月31日提交的韩国专利申请第10‑2017‑0097344号的权益，其通过引用并入本文以用于所有目的，如同在本文中完全阐述一样。

技术领域

[0003] 本发明涉及显示装置及其制造方法。

背景技术

[0004] 近来，随着信息时代的进步，处理和显示大量信息的显示领域已经得到了快速发展。响应于这种趋势，已经开发和使用了各种显示装置。在这样的显示装置中，存在如下趋势：具有薄型、轻量和低功耗的优异性质的液晶显示器(LCD)装置和有机发光显示器(OLED)装置已经被广泛使用。

[0005] 这样的显示装置包括具有基板的显示面板。在这种情况下，由于通常使用玻璃基板来承受在制造过程期间产生的高热量，因此在产生薄型、轻量和柔韧性的性质方面存在限制。因此，近年来，作为新一代显示装置，已经出现了使用诸如塑料的柔性材料代替非柔性的玻璃基板进行制造以即使在像纸一样弯折时也保持相同的显示性质的柔性显示装置，并且其研究开发在积极进行中。

[0006] 为了制造柔性显示装置，在执行用于基于单位面积在柔性基板的大面积上形成诸如薄膜晶体管的显示元件的显示元件形成过程之后，需要用于基于单元单位切割基板的切割过程。在柔性基板由于柔性基板的良好柔性性质而形成在由玻璃或石英材料制成的支承基板上并且基于单元单位切割之后，将柔性基板与基底基板分离，由此完成柔性显示装置。

[0007] 然而，在基于单元单位切割柔性基板和基底基板的过程中，可能由于在切割柔性基板的过程和切割基底基板的过程之间的余量的差异而引起显示面板的缺陷，诸如柔性基板的激励(excitation)和柔性基板的侧向渗透性。

发明内容

[0008] 因此，本发明涉及基本上消除了由于相关技术的限制和缺点而引起的一个或更多个问题的显示装置及其制造方法。

[0009] 本发明的优点是提供一种使柔性基板的激励和侧向渗透性最小化以防止显示面板发生缺陷的显示装置及其制造方法。

[0010] 本发明的另外的优点和特征将在下面的描述中部分地阐述，并且对于本领域术普通人员而言在查看下面的内容时，这些优点和特征将部分地变得明显，或者这些优点和特征可以从本发明的实践获知。本发明的目的和其他优点可以通过在书面描述和权利要求书以及附图中特别指出的结构来实现和获得。

[0011] 为了实现这些目的和其他优点并根据本发明的目的，如在本文中具体化和广泛描述的，根据本发明的显示装置包括第一基板；布置在第一基板上的缓冲层；布置在缓冲层上的像素阵列层；以及覆盖像素阵列层的封装层，其中，缓冲层围绕第一基板的前表面和侧面。

[0012] 在本发明的另一方面中，用于制造显示装置的方法包括以下步骤：(A)准备支承基板；(b)在支承基板上形成彼此间隔开的多个第一基板；(C)形成覆盖多个第一基板的缓冲层；(D)在缓冲层的与多个第一基板中的每一个交叠的区域上形成像素阵列层；(E)形成覆盖像素阵列层的封装层；以及(F)通过基于在多个第一基板之间限定的切割线切割支承基板和缓冲层来形成多个显示面板。

[0013] 应理解的是，本发明的前面的一般性描述和下面的详细描述两者均是示例性和说明性的，并且意在提供对请求保护的本发明的进一步说明。

附图说明

[0014] 附图被包括以提供对本发明的进一步理解并且被并入本申请中且构成本申请的一部分，其示出了本发明的(一个或更多个)实施方式，并且连同描述一起用于说明本发明的原理。在附图中：

[0015] 图1是示出根据本发明的一个实施方式的显示装置的视图。

[0016] 图2是示出根据本发明的一个实施方式的显示装置的横截面图；

[0017] 图3是示出根据本发明的另一实施方式的显示装置的横截面图，其中，根据本发明的本实施方式的显示装置与图2所示的显示装置的不同之处在于根据本发明的本实施方式的显示装置另外包括无机层；

[0018] 图4是示出根据本发明的又一实施方式的显示装置的横截面图，其中，根据本发明的本实施方式的显示装置与图2所示的显示装置的不同之处在于根据本发明的本实施方式的显示装置包括阻挡膜而不是透光膜；

[0019] 图5A至图5H是示出根据本发明的一个实施方式的用于制造显示装置的方法的横截面图；

[0020] 图6A至图6H是示出根据本发明的另一实施方式的用于制造显示装置的方法的横截面图；以及

[0021] 图7A至图7H是示出根据本发明的另一实施方式的用于制造显示装置的方法的横截面图。

具体实施方式

[0022] 本发明的优点和特征及其实现方法将通过下面参照附图描述的实施方式来阐明。然而，可以以不同的形式实施本发明并且本发明不应当被理解为限于本文所阐述的实施方式。相反，提供这些实施方式使得本公开将是全面的和完整的，并且将本发明的范围充分地传达给本领域技术人员。此外，本发明仅由权利要求的范围限定。

[0023] 在用于描述本发明的实施方式的附图中公开的形状、尺寸、比例、角度和数量仅是示例，并且因此，本发明不限于所示出的细节。相似的附图标记贯穿全文指代相似的元素。在下面的描述中，当确定相关已知功能或配置的详细描述不必要地模糊本发明的重点时，将省略该详细描述。

[0024] 在使用本说明书中描述的“包括”、“具有”和“包含”的情况下，除非使用“仅”，否则可以添加另外的部分。单数形式的术语可以包括复数形式，除非被相反地引用。

[0025] 在对元素进行解释时，尽管没有明确描述，但是元素被解释为包括误差范围。

[0026] 在描述位置关系时，例如，当位置关系被描述为“在……上”、“在……上方”、“在……下方”和“在……旁边”时，除非使用“正好”或“直接”，否则可以在两个其他部分之间布置一个或更多个部分。

[0027] 在描述时间关系时，例如，当时间顺序被描述为“在……之后”、“随后”、“接下来”以及“在……之前”时，可以包括不连续的情况，除非使用了“正好”或“直接”。

[0028] 应当理解，尽管在本文中可以使用术语“第一”、“第二”等描述各种元件，但这些元件不应受这些术语的限制。这些术语仅用于将一个元件与另一个元件区分开。因此，在不脱离本发明的范围的情况下，下文中提及的第一元件可以被称为第二元件。

[0029] “第一横轴方向”、“第二横轴方向”和“纵轴方向”不应该仅由相互垂直关系的几何关系来解释，而是在本发明可以在功能上起作用的范围内可以具有更宽的方向性。

[0030] 应该理解，术语“至少一个”包括与一个或多个项相关的所有组合。例如，“第一项、第二项和第三项中的至少一个”可以包括选自第一项、第二项和第三项的两个或更多个项的所有组合以及第一项、第二项和第三项中的每个项。

[0031] 如本领域技术人员可以充分理解的那样，本发明的各种实施方式的特征可以部分地或全部地彼此结合或组合，并且彼此可以以各种方式进行交互操作并在技术上驱动。本发明的实施方式可以彼此独立地执行或者可以以彼此相关的关系一起执行。

[0032] 在下文中，将参照附图详细描述本发明的优选实施方式。在对各个附图的元件添加附图标记时，应该理解的是，即使相同的参考元件被示出在不同的附图上，如果有可能，相同的参考元件可以具有相同的附图标记。

[0033] 图1是示出根据本发明的一个实施方式的显示装置的配置的视图。

[0034] 参照图1，根据该实施方式的发光二极管显示装置包括第一基板110和第二基板200。

[0035] 第一基板110是薄膜晶体管阵列基板，并且可以由玻璃或塑料材料制成。

[0036] 根据一个示例的第一基板110包括多个像素SP。

[0037] 多个像素SP中的每个像素SP是实际发光的最小单位区域，并且可以被定义为子像素。至少三个相邻像素SP可以构成用于彩色显示的一个单位像素。例如，一个单位像素可以包括彼此相邻的红色像素、绿色像素和蓝色像素，并且还可以包括用于提高亮度的白色像素。

[0038] 第二基板200被布置成覆盖第一基板110，并且可以被定义为相对基板、滤色器阵列基板或封装基板。第二基板200可以通过密封剂接合到第一基板110。

[0039] 另外，根据本发明的一个示例的发光二极管显示装置还包括栅极驱动电路300和面板驱动器400。

[0040] 栅极驱动电路300根据从面板驱动器400输入的栅极信号生成栅极脉冲，并将生成的栅极脉冲提供至栅极线。根据一个示例的栅极驱动电路300通过与每个像素SP中设置的薄膜晶体管的工艺相同的工艺内置在第一基板110的第三非显示区域中。例如，栅极驱动电路300可以但不限于设置在显示区域的左侧和/或右侧的非显示区域中。栅极驱动电路300可以设置在可以向栅极线提供栅极脉冲的随机非显示区域中。

[0041] 选择性地，栅极驱动电路300可以以驱动集成电路的形式制造。在这种情况下，根据一个示例的栅极驱动电路300可以封装在第一基板110的第三非显示区域和/或第四非显示区域中以与多条栅极线一对一地连接。根据另一示例的栅极驱动电路300可以封装在栅极柔性电路膜中。在这种情况下，栅极柔性电路膜可以附接至设置在第一基板110的第三非显示区域和/或第四非显示区域中的栅极焊盘部分，由此栅极驱动电路300可以通过栅极柔性电路膜和栅极焊盘部分一对一地连接至多条栅极线。

[0042] 面板驱动器400连接至设置在第一基板110的第一非显示区域中的焊盘部分，并在显示区域上显示与从显示驱动系统提供的图像数据相对应的图像。根据一个示例的面板驱动器400包括多个数据柔性电路膜410、多个数据驱动集成电路430、印刷电路板450、定时控制器470和电源电路490。

[0043] 多个数据柔性电路膜410中的每个数据柔性电路膜410通过膜附接工艺附接到第一基板110的焊盘部分。

[0044] 多个数据驱动集成电路430中的每个数据驱动集成电路430被单独封装在多个数据柔性电路膜410中的每个数据柔性电路膜410中。数据驱动集成电路430接收从定时控制器470提供的像素数据和数据控制信号、根据数据控制信号按像素将像素数据转换为模拟型数据电压、并将转换后的数据电压提供至相应的数据线。

[0045] 印刷电路板450与多个数据柔性电路膜410连接。印刷电路板450支持定时控制器470和电源电路490，并用于在面板驱动器400的元件之间递送信号和电力。

[0046] 定时控制器470封装在印刷电路板450中，并通过设置在印刷电路板450中的用户连接器接收从显示驱动系统提供的图像数据和定时同步信号。定时控制器470通过基于定时同步信号将图像数据对准以适合于显示区域的像素布置结构来生成像素数据，并将所生成的像素数据提供至数据驱动集成电路430。此外，定时控制器470通过基于定时同步信号生成数据控制信号和栅极控制信号中的每个来控制多个数据驱动集成电路430和栅极驱动电路300的每个驱动定时。

[0047] 电源电路490封装在印刷电路板450中，通过使用外部输入电源生成在显示区域上显示图像所需的各种电压，并将生成的电压提供至相应的元件。

[0048] 另外，面板驱动器400还可以包括连接到印刷电路板450的控制板。在这种情况下，定时控制器470和电源电路490被封装在控制板中而不被封装在印刷电路板中。因此，印刷电路板450用于在多个数据柔性电路膜410和控制板之间递送信号和电力。

[0049] 图2是示出根据本发明的一个实施方式的显示装置的横截面图。

[0050] 参照图2，根据本发明的一个实施方式的显示装置显示与从驱动电路提供的数据信号相对应的图像，并且包括第一基板110、缓冲层120、钝化膜125、像素阵列层130、封装层140、第二基板160和透光膜180。

[0051] 第一基板110是基底基板，并且可以包括塑料材料。在这种情况下，如果第一基板110包括塑料材料，则第一基板110可以包括不透明或着色的聚酰亚胺材料。例如，由聚酰亚胺材料制成的第一基板110可以是以恒定厚度涂覆在布置在相对厚的支承基板上的剥离层(delamination layer)的前表面上的硬化聚酰亚胺树脂。在这种情况下，通过使用激光剥离过程对剥离层进行剥离(delamination)将支承基板与第一基板110分离。

[0052] 缓冲层120布置在第一基板110上。根据一个实施方式的缓冲层120用于防止水渗透到第一基板110和像素阵列层130中。缓冲层120可以由无机绝缘材料制成，例如但不限于二氧化硅(SiO2)、硅氮化物(SiNx)或SiO2和SiNx的多层。

[0053] 根据一个实施方式的缓冲层被形成为围绕第一基板110的前表面和侧面。在这种情况下，前表面是面向上表面的表面并且是从第一基板110看第二基板160的表面。如果缓冲层120被形成为仅覆盖第一基板110的前表面，则会发生到第一基板110的侧面的渗透，这导致显示面板的缺陷。然而，由于根据一个实施方式的缓冲层120被形成为甚至围绕第一基板110的侧面，所以可以避免第一基板110的侧面渗透性，由此可以防止显示面板发生缺陷。

[0054] 如可以理解的，第一基板110是长方体的形式，也称为矩形棱柱。因此，它具有六个侧面，即前侧面和背侧面以及在前侧面和背侧面之间延伸的侧壁。缓冲层将围绕这六个侧面中的五个侧面。在优选实施方式中，缓冲层与五个侧面中的每个侧面邻接接触，这五个侧面也可以称为第一基板110的表面。

[0055] 钝化膜125形成在第一基板110的侧面。根据一个实施方式的钝化膜125可以由无机材料或金属材料制成。钝化膜125可以形成为具有与围绕第一基板110的侧面的缓冲层120的高度相同的高度。根据一个实施方式的钝化膜125可以像缓冲层120一样防止发生第一基板110的侧面渗透性，并且可以用作防止诸如灰尘的颗粒渗透到第一基板110中的堤坝(dam)。

[0056] 由于根据一个实施方式的缓冲层120可以与钝化膜125一起保护第一基板110，因此可以显着降低显示面板的缺陷率，并且因此可以提高显示装置的可靠性。

[0057] 像素阵列层130布置在缓冲层120上并且包括用于显示图像的多个像素。根据一个实施方式的多个像素可以包括各种种类的元件，诸如薄膜晶体管、发光二极管、像素电极等，以构成根据本发明的显示装置。多个像素是发光的区域的最小单元，并且每个像素包括基于从驱动电力线提供的像素驱动电力而发射光的发光二极管。根据一个实施方式的发光二极管可以是有机发光二极管OLED，并且从有机发光二极管产生的光被发射到外部以显示图像。

[0058] 封装层140被形成为覆盖像素阵列层130以防止水渗透到每个像素并且保护易受外部的水或氧的影响的发光二极管。根据一个实施方式的封装层140可以由无机材料或有机材料形成，或者可以由无机材料和有机材料交替沉积的沉积结构形成。

[0059] 第二基板160布置在封装层140上以像封装层140那样保护发光二极管。根据一个实施方式的第二基板160可以由具有高反射率的金属材料形成。第二基板160以通过粘合剂层150附接的类型布置在封装层140上，以防止水渗透到显示面板的整个表面中。根据一个实施方式的第二基板160可以形成为具有比像素阵列层130更大的面积，以有效地防止水渗透到发光二极管的整个表面中。

[0060] 形成粘合剂层150以将封装层140和第二基板160彼此粘合和固定。粘合剂层150可以使用诸如热量、紫外线和激光的高能量的硬化方法或者使用压敏粘合剂(PSA)材料利用物理压力来执行粘合。

[0061] 透光膜180通过使用透明粘合剂材料作为介质附接至第一基板110的后表面。在这种情况下，后表面对应于前表面的相对方向。根据一个实施方式的透光膜180可以由柔性膜制成，例如聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、抗反射膜、偏振膜和透射率可控膜中的至少之一。透光膜180可以附接至与支承基板分离的第一基板110的后表面。透明粘合剂材料可以是光学透明树脂(OCR)或光学透明粘合剂(OCA)。根据一个实施方式的透光膜180被形成以避免由于显示面板内的金属的反射而引起的可见度的劣化，并且具有改善可见度和减少用户的疲劳的优点。

[0062] 图3是示出根据本发明的另一实施方式的显示装置的横截面图，其中根据本发明的本实施方式的显示装置与图2中所示的显示装置的不同之处在于根据本发明的本实施方式的显示装置另外包括无机层。

[0063] 参照图3，根据本发明的另一实施方式的显示装置包括形成在第一基板110的后表面上的无机层170。在下文中，将省略与图2的那些元件重复的元件的描述，并且将仅描述无机层170的性质。

[0064] 无机层170形成在第一基板110的后表面上，并且保护第一基板110和发光二极管免受外部颗粒、冲击、水和氧的渗透。根据一个实施方式的无机层170可以由单层或多层形成。例如，无机层170可以由诸如硅氮化物(SiNx)、硅氧化物(SiOx)和铝氧化物(AlOx)的能够进行低温沉积的无机绝缘材料制成。

[0065] 根据一个实施方式的无机层170被形成以防止因为第一基板110在形成显示面板的过程期间支承基板通过剥离与第一基板110分离的情况下暴露于外部之后被外部颗粒、水等损坏而引起的显示面板的缺陷。无机层170不是在形成显示面板之后被单独布置在第一基板110的后表面上，而是在形成显示面板的过程期间被布置。后面将更详细地描述无机层170。

[0066] 图4是示出根据本发明的又一实施方式的显示装置的横截面图，其中根据本发明的本实施方式的显示装置与图2中所示的显示装置的不同之处在于根据本发明的本实施方式的显示装置包括阻挡膜而不是透光膜。

[0067] 参照图4，根据本发明的又一实施方式的显示装置包括附接至第一基板110的后表面的阻挡膜190。在下文中，将省略与图2的那些元件重复的元件的描述，并且将仅描述阻挡膜190的性质。

[0068] 阻挡膜190通过使用透明粘合剂材料作为介质附接至第一基板110的后表面。根据一个实施方式的阻挡膜190可以是相位差膜或光学各向同性膜。如果阻挡膜具有光学各向同性性质，则进入阻挡膜190的光在没有相位延迟的情况下被传输。而且，在阻挡膜的上表面上可以布置有一个或更多个的无机膜。在这种情况下，无机膜可以包括硅氮化物(SiNx)和硅氧化物(SiOx)。形成在阻挡膜190的上表面上的无机膜用于阻挡外部水或氧的渗透。

[0069] 由于根据一个实施方式的阻挡膜190具有优异的防水和冲击缓冲的性质，所以阻挡膜190可以防止第一基板110和发光二极管被损坏。阻挡膜190包括流体吸湿材料，并且如果外部水渗透到阻挡膜190中，则水颗粒与流体吸湿材料结合并保持在阻挡膜190中的空的空间中，由此阻挡膜190可以具有防止水渗透或水渗透延迟的性质。

[0070] 图5A至图5H是示出根据本发明的一个实施方式的用于制造显示装置的方法的横截面图。因此，对相同的元件赋予相同的附图标记，并且将省略关于元件和每个元件的结构的重复部分的冗余描述。

[0071] 首先，如图5A所示，执行准备支承基板100的过程。在这种情况下，支承基板100用于牢固地支承柔性基板，使得薄柔性基板在制造显示装置的过程中不易弯折或变形并且其形状被固定。通过这样的支承基板100，可以容易地使用柔性基板，并且可以更精确和可靠地执行后续过程。支承基板100可以由具有优异耐热性的诸如板状玻璃或石英的透明无机材料制成。尽管未示出，但是支承基板100可以具有限定在多个柔性基板之间的切割线。

[0072] 接下来，如图5B所示，多个第一基板110形成为在支承基板100上彼此间隔开。在这种情况下，第一基板110可以是包括塑料材料的柔性基板。由于根据一个实施方式的第一基板110没有以单个本体形成在支承基板100上，而是形成为彼此间隔开，因此当通过切割过程形成显示面板时不需要第一基板110的切割过程。因此，与包括切割第一基板110的过程和切割支承基板100的过程的两个步骤的相关技术过程相比，该过程更简单，并且可以防止在切割过程中由于两个过程之间的余量差异而产生缺陷。

[0073] 接下来，如图5C所示，在支承基板100上形成钝化膜125。根据一个实施方式的钝化膜125可以形成为在第一基板110的每一侧上间隔开以保护第一基板110的侧面。钝化膜125可以用作防止诸如在用于形成显示面板的切割过程中产生的灰尘的颗粒渗透到第一基板110中的堤坝。

[0074] 接下来，如图5D所示，形成围绕钝化膜125和多个第一基板110的前表面和侧面的缓冲层120。根据一个实施方式的缓冲层120形成为围绕第一基板110的侧面以及前表面。因此，由于在切割支承基板100和缓冲层120的过程中第一基板110的侧面未被暴露，所以可以使第一基板110的激励和侧面渗透性最小化。缓冲层120与钝化膜125一起保护第一基板110免受外部损害。

[0075] 每个基板110具有六个侧面，即大面积前侧面、大面积背侧面以及作为从前侧面延伸到背侧面的侧壁的四个侧面。如可以理解的，在图5D中仅可以看见侧面中的四个侧面，另外两个侧面位于图5D所示的图像的后面和前面。因此，缓冲层在五个侧面上围绕基板110。在一个实施方式中，缓冲层120与基板110的六个侧面中的五个侧面接触。

[0076] 接下来，如图5E所示，在缓冲层120上顺序地形成像素阵列层130、封装层140、粘合剂层150和第二基板160。像素阵列层130、封装层140、粘合剂层150和第二基板160中的每一个可以形成在缓冲层120的与多个第一基板110中的每一个交叠的区域上。因此，像素阵列层130、封装层140、粘合剂层150和第二基板160中的每一个均不会通过切割过程切割。根据一个实施方式的第二基板160可以通过使用粘合剂材料附接至封装层140。这种粘合剂材料可以是粘合剂层150，并且由树脂制成。

[0077] 再次参照图5E，支承基板100和缓冲层120具有限定在多个第一基板110之间的切割线CL。切割线CL是布置在多个第一基板110之间以形成多个显示面板的线，并且沿着切割线CL执行显示面板单元切割过程。

[0078] 接下来，如图5E和图5F所示，通过基于切割线切割支承基板100和缓冲层120来形成基于单元的显示面板。如上所述，由于根据一个实施方式的显示面板在切割过程中不允许水和颗粒渗透到第一基板110中，所以通过根据一个实施方式的过程可以获得没有缺陷的显示面板。

[0079] 接下来，如图5G所示，通过剥离过程将形成在支承基板100上的第一基板110与支承基板100分离。这种剥离过程是指将激光束照射到设置在支承基板100上的硅膜，并且对硅膜进行热处理，并且然后对经热处理的硅膜进行脱氢。通过该过程，第一基板110可以与支承基板100分离。

[0080] 接下来，如图5H所示，将透光膜180附接至第一基板110的与支承基板100分离的后表面。透光膜180可以通过透明粘合剂材料附接至第一基板110的后表面。根据一个实施方式的透光膜180附接至第一基板的与支承基板100分离的后表面，以避免由于显示面板内的金属的反射而导致的可见度的劣化，并且具有保护第一基板110的后表面免受外部影响的优点。

[0081] 如上所述，因为根据依据本发明的一个实施方式的用于制造显示装置的方法来制造显示装置，所以可以省略第一基板110的常规切割过程，由此生产的整个过程的数目和时间可以减少，并且可以防止由于支承基板100的切割过程和第一基板110的切割过程之间的余量差异而在切割过程中发生缺陷。另外，由于可以避免在第一基板110的常规切割过程中可能发生的裂纹和损坏，所以可以形成具有低缺陷率和提高的产量的显示面板。

[0082] 此外，由于缓冲层覆盖形成在支承基板100上的多个第一基板110的前表面和侧面，因此在切割过程期间第一基板110的侧面不暴露于外部，由此可以使第一基板100的激励和渗透性最小化。因此，避免了显示面板的整体渗透性，从而可以提高显示面板的可靠性。

[0083] 图6A至图6H是示出根据本发明的另一实施方式的用于制造显示装置的方法的横截面图。由于在图6A至图6H中向根据图5A至图5H的用于制造显示装置的方法添加附加地形成无机层的过程，因此将省略与图5A至图5H重复的描述，并且将描述附加过程。

[0084] 参照图6A至图6E，在支承基板100上形成无机层170，并且在无机层170上形成多个第一基板110。与多个第一基板110不同，无机层170形成为单个本体。这是为了允许无机层170具有大于第一基板110的宽度，以保护第一基板110的后表面免受外部影响，即使支承基板100随后通过切割过程和剥离过程分离。

[0085] 根据一个实施方式的无机层170用于通过在形成第一基板110之前预先形成在支承基板100上来保护第一基板110，以防止第一基板110在第一基板110与支承基板100分离时被外部颗粒和水损坏。

[0086] 因此，无机层170形成在支承基板100上，多个第一基板形成在无机层170上，并且缓冲层120、像素阵列层130、封装层140、粘合剂层150和第二基板160顺序地形成在多个第一基板110上。

[0087] 再次参照图6E，基于在多个第一基板110之间限定的切割线CL切割支承基板100、无机层170和缓冲层120。由于无机层170在被形成为单个本体之后与支承基板100和缓冲层120一起被切割，所以无机层170可以具有比第一基板110更大的宽度，并且随后保护第一基板110的后表面免受外部影响，即使支承基板100分离。

[0088] 参照图6F至图6H，透光膜180附接至无机层170的与支承基板100分离的后表面。透光膜180可以通过使用透明粘合剂材料附接至无机层170的后表面。根据一个实施方式的透光膜180可以避免可见度的劣化，并且具有像无机层170那样保护第一基板110的后表面免受外界影响的优点。

[0089] 图7A至图7H是示出根据本发明的其它实施方式的用于制造显示装置的方法的横截面图。由于在图7A至图7H中在根据图5A至图5H的用于制造显示面板的方法中附接阻挡膜而不是透光膜，因此将省略与图5A至图5H重复的描述，并且将描述改变的过程。

[0090] 参照图7A至图7G，直到分离支承基板100的过程，该过程与图5A至图5G的过程相同。因此，将省略对此的重复描述。

[0091] 参照图7H，将阻挡膜190附接至第一基板110的与支承基板100分离的后表面。阻挡膜190使用透明粘合剂材料附接至第一基板110的后表面。由于根据一个实施方式的阻挡膜190具有优异的防水和冲击缓冲的性质，因此可以避免第一基板110的损坏。另外，可以将附加的无机膜布置在阻挡膜的上表面上。无机膜用于阻挡外部水或氧的渗透，并且可以使用透明粘合剂材料附接至第一基板110的后表面。如果根据一个实施方式的阻挡膜190包括无机膜，则可以改进防止水渗透到第一基板110中的效果，并且可以提高显示面板的可靠性。

[0092] 如上所述，根据本发明的显示装置具有以下优点。

[0093] 根据本发明的显示装置具有通过使第一基板的激励和侧面渗透性最小化来防止显示面板的缺陷的优点。

[0094] 另外，根据本发明的显示装置具有通过防止显示面板发生缺陷而提高可靠性和降低生产成本的优点。

[0095] 另外，根据本发明的显示装置具有通过省略切割第一基板的过程而简化模块过程和提高产量的优点。

[0096] 本领域的技术人员将会理解，通过本发明可以实现的有利效果不限于上文已经具体描述的内容，并且根据前述的详细描述将更清楚地理解本发明的其他优点。

[0097] 对于本领域技术人员而言明显的是，在不脱离本发明的精神或范围的情况下，可以在本发明中进行各种修改和变化。因此，本发明旨在涵盖本发明的修改和变化，只要这些修改和变化落入所附权利要求及其等同物的范围内即可。