一种高温设备的净化台转让专利

申请号 : CN201910019668.3

文献号 : CN109659401B

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发明人 : 张弥涛李明李晔纯谭瞻张春成

申请人 : 湖南红太阳光电科技有限公司

摘要 :

本发明公开了一种高温设备的净化台,包括主框架、碳化硅桨、碳化硅桨运动模组和插片机对接机构,碳化硅桨运动模块组包括Z轴移动模块、Y轴移动模块和X轴伸缩模块,Z轴移动模块安装在主框架上,Y轴移动模块可移动的安装在Z轴移动模块上,X轴伸缩模块可移动的安装在Y轴移动模块上,碳化硅桨安装于X轴伸缩模块的伸出端,插片机对接机构包括对接导轨和可与碳化硅桨对接的支撑架,支撑架可移动的设于对接导轨上,对接导轨设于主框架的底部,支撑架与对接导轨之间设有用于避让碳化硅桨的对接避让区。本发明具有空间紧凑、互换性高、产能高、成本低的优点。

权利要求 :

1.一种高温设备的净化台,其特征在于:包括主框架(100)、碳化硅桨(200)、碳化硅桨运动模组和插片机对接机构(300),所述碳化硅桨运动模组包括Z轴移动模块(400)、Y轴移动模块(500)和X轴伸缩模块(600),所述Z轴移动模块(400)安装在主框架(100)上,Y轴移动模块(500)可移动的安装在Z轴移动模块(400)上, X轴伸缩模块(600)可移动的安装在Y轴移动模块(500)上,所述碳化硅桨(200)安装于X轴伸缩模块(600)的伸出端,所述插片机对接机构(300)包括对接导轨(310)和可与碳化硅桨(200)对接的支撑架(320),所述支撑架(320)可移动的设于对接导轨(310)上,所述对接导轨(310)设于主框架(100)的底部,所述支撑架(320)与对接导轨(310)之间设有用于避让碳化硅桨(200)的对接避让区。

2.根据权利要求1所述的高温设备的净化台,其特征在于:所述碳化硅桨(200)通过调平机构(210)安装于X轴伸缩模块(600)上,所述调平机构(210)包括底板(211)、活动板(212)和用于夹持碳化硅桨(200)的夹持座(213),所述底板(211)固定于X轴伸缩模块(600)的伸出端,所述活动板(212)安装于底板(211)上,所述夹持座(213)安装于活动板(212)上,所述底板(211)上端面设有半圆柱(201),所述活动板(212)设有可与半圆柱(201)配合的半圆槽(202)。

3.根据权利要求2所述的高温设备的净化台,其特征在于:所述活动板(212)通过多对紧固螺栓(214)固定,各对紧固螺栓(214)的两个紧固螺栓(214)分别位于半圆柱(201)的两侧,其中位于中间的一对紧固螺栓(214)为左右调平螺栓(215);所述夹持座(213)设置两个,各夹持座(213)通过一对夹持螺栓(216)和一对前后调平螺栓(217)固定。

4.根据权利要求1至3任意一项所述的高温设备的净化台,其特征在于:所述主框架(100)内设有缓存架(700),所述缓存架(700)包括立架(710)和设于立架(710)上的多层支撑平台,所述碳化硅桨(200)可与每层支撑平台对接。

5.根据权利要求4所述的高温设备的净化台,其特征在于:所述支撑平台包括一对固定座组件(720),所述固定座组件(720)包括底座(721)和支撑座(722),所述底座(721)固定于立架(710)上,所述支撑座(722)通过销轴(723)与底座(721)连接,所述底座(721)与支撑座(722)之间设有复位弹簧(724),所述底座(721)还设有可与支撑座(722)接触的行程触发开关(725),所述支撑座(722)设有支撑槽(726),两个支撑座(722)的支撑槽(726)相对设置。

6.根据权利要求4所述的高温设备的净化台,其特征在于:所述主框架(100)的顶部设有高效过滤净化系统(800)。

7.根据权利要求1至3任意一项所述的高温设备的净化台,其特征在于:所述X轴伸缩模块(600)包括一级运动副组件(610)和二级运动副组件(620),所述一级运动副组件(610)包括一级底座(611)、一级线性导轨(612)、一级丝杆副(613)、一级驱动电机(614),所述二级运动副组件(620)包括二级底座(621)、二级线性导轨(622)、二级丝杆副(623)、二级驱动电机(624),所述一级底座(611)固定于Y轴移动模块(500)上,所述一级线性导轨(612)和一级丝杆副(613)设于一级底座(611)上,所述二级底座(621)滑设于一级线性导轨(612)上并与一级丝杆副(613)连接,所述一级驱动电机(614)通过皮带(601)和带轮(602)与一级丝杆副(613)连接,所述二级线性导轨(622)和二级丝杆副(623)设于二级底座(621)上,所述二级线性导轨(622)上滑设有安装板(625),所述安装板(625)与二级丝杆副(623)连接,所述二级驱动电机(624)通过皮带(601)和带轮(602)与二级丝杆副(623)连接,所述碳化硅桨(200)安装于安装板(625)上。

说明书 :

一种高温设备的净化台

技术领域

[0001] 本发明涉及太阳能电池片的加工设备,尤其涉及一种高温设备的净化台。

背景技术

[0002] 现阶段管式PECVD、管式扩散炉、管式退火炉等管式高温设备的净化台,最主要的特点是N个高温炉体反应室需要N个水平运动模组与之配合,辅以一个龙门机械手系统尾气提供垂直方向运动,导致其具有结构复杂、所需成本高、互换性差,故障率高等缺点,且受生产车间厂房高度和空间大小影响程度大,单台设备的产能有限,且安装调试非常繁琐。此外,现有净化台大多数为机械手集成缓存架,同时水平运动机构与垂直运动机构分离的方式,此方案使净化台所需空间增大,同时缓存架上的石英/石墨舟冷却速度慢,需要增加风冷或水冷系统,且机械手加工成本高,安装调试难度大等缺点,在工作和维护中会给操作人员带来诸多不便,且受生产车间厂房高度和空间大小影响程度大,单台设备的产能有限。

发明内容

[0003] 本发明要解决的技术问题是克服现有技术的不足,提供一种结构简单、空间紧凑、互换性高、产能高的高温设备的净化台。
[0004] 为解决上述技术问题,本发明采用以下技术方案:
[0005] 一种高温设备的净化台,包括主框架、碳化硅桨、碳化硅桨运动模组和插片机对接机构,所述碳化硅桨运动模组包括Z轴移动模块、Y轴移动模块和X轴伸缩模块,所述Z轴移动模块安装在主框架上,Y轴移动模块可移动的安装在Z轴移动模块上, X轴伸缩模块可移动的安装在Y轴移动模块上,所述碳化硅桨安装于X轴伸缩模块的伸出端,所述插片机对接机构包括对接导轨和可与碳化硅桨对接的支撑架,所述支撑架可移动的设于对接导轨上,所述对接导轨设于主框架的底部,所述支撑架与对接导轨之间设有用于避让碳化硅桨的对接避让区。
[0006] 作为上述技术方案的进一步改进,优选的,所述碳化硅桨通过调平机构安装于X轴伸缩模块上,所述调平机构包括底板、活动板和用于夹持碳化硅桨的夹持座,所述底板固定于X轴伸缩模块的伸出端,所述活动板安装于底板上,所述夹持座安装于活动板上,所述底板上端面设有半圆柱,所述活动板设有可与半圆柱配合的半圆槽。
[0007] 作为上述技术方案的进一步改进,优选的,所述活动板通过多对紧固螺栓固定,各对紧固螺栓的两个紧固螺栓分别位于半圆柱的两侧,其中位于中间的一对紧固螺栓为左右调平螺栓;所述夹持座设置两个,各夹持座通过一对夹持螺栓和一对前后调平螺栓固定。
[0008] 作为上述技术方案的进一步改进,优选的,所述主框架内设有缓存架,所述缓存架包括立架和设于立架上的多层支撑平台,所述碳化硅桨可与每层支撑平台对接。
[0009] 作为上述技术方案的进一步改进,优选的,所述支撑平台包括一对固定座组件,所述固定座组件包括底座和支撑座,所述底座固定于立架上,所述支撑座通过销轴与底座连接,所述底座与支撑座之间设有复位弹簧,所述底座还设有可与支撑座接触的行程触发开关,所述支撑座设有支撑槽,两个支撑座的支撑槽相对设置。
[0010] 作为上述技术方案的进一步改进,优选的,所述主框架的顶部设有高效过滤净化系统。
[0011] 作为上述技术方案的进一步改进,优选的,所述X轴伸缩模块包括一级运动副组件和二级运动副组件,所述一级运动副组件包括一级底座、一级线性导轨、一级丝杆副、一级驱动电机,所述二级运动副组件包括二级底座、二级线性导轨、二级丝杆副、二级驱动电机,所述一级底座固定于Y轴移动模块上,所述一级线性导轨和一级丝杆副设于一级底座上,所述二级底座滑设于一级线性导轨上并与一级丝杆副连接,所述一级驱动电机通过皮带和带轮与一级丝杆副连接,所述二级线性导轨和二级丝杆副设于二级底座上,所述二级线性导轨上滑设有安装板,所述安装板与二级丝杆副连接,所述二级驱动电机通过皮带和带轮与二级丝杆副连接,所述碳化硅桨安装于安装板上。
[0012] 与现有技术相比,本发明的优点在于:
[0013] 本发明的高温设备的净化台,用一个水平运动模组(插片机对接机构)与外部插片机完成对接,以实现工艺电池片的自动化传送;净化台内部运动主体部分(碳化硅桨运动模组)则由一个垂直方向运动模组(即Z轴),一个水平方向运动模组(即Y轴),前后方向运动模组(即X轴)构成,且X轴采用伸缩的模式,有效降低了主框架内部空间,基于该结构,采用一个碳化硅桨可以为N个高温炉体反应室传送石英/石墨舟,有效的降低设备生产制造成本,且互换性较高;另一方面,采用本发明的设备还可以将多个高温炉体反应室并列放置,从而在有限的设备安装空间内实现更高产能。

附图说明

[0014] 图1是本发明的立体结构示意图。
[0015] 图2是本发明的主视结构示意图。
[0016] 图3是本发明的侧视结构示意图。
[0017] 图4是本发明中碳化硅桨运动模组的主视结构示意图。
[0018] 图5是本发明中碳化硅桨运动模组的俯视结构示意图。
[0019] 图6是本发明中碳化硅桨运动模组的侧视结构示意图。
[0020] 图7是本发明中调平机构的主视结构示意图。
[0021] 图8是本发明中调平机构的俯视结构示意图。
[0022] 图9是本发明中调平机构的侧视结构示意图。
[0023] 图10是本发明中缓存架的主视结构示意图。
[0024] 图11是本发明中缓存架的俯视结构示意图。
[0025] 图12是本发明中缓存架的侧视结构示意图。
[0026] 图13是本发明中固定座组件的立体结构示意图。
[0027] 图14是本发明中固定座组件的主视结构示意图。
[0028] 图15是本发明中固定座组件的侧视结构示意图。
[0029] 图16是本发明中X轴伸缩模块的主视结构示意图。
[0030] 图17是图16中A-A视图。
[0031] 图18是本发明中插片机对接机构的立体结构示意图。
[0032] 图中各标号表示:
[0033] 100、主框架;200、碳化硅桨;201、半圆柱;202、半圆槽;210、调平机构;211、底板;212、活动板;213、夹持座;214、紧固螺栓;215、左右调平螺栓;216、夹持螺栓;217、前后调平螺栓;300、插片机对接机构;310、对接导轨;320、支撑架;321、托盘;322、焊接托架;;400、Z轴移动模块;500、Y轴移动模块;600、X轴伸缩模块;601、皮带;602、带轮;610、一级运动副组件;611、一级底座;612、一级线性导轨;613、一级丝杆副;614、一级驱动电机;620、二级运动副组件;621、二级底座;622、二级线性导轨;623、二级丝杆副;624、二级驱动电机;625、安装板;700、缓存架;710、立架;720、固定座组件;721、底座;722、支撑座;723、销轴;724、复位弹簧;725、行程触发开关;726、支撑槽;800、高效过滤净化系统。

具体实施方式

[0034] 以下结合说明书附图和具体实施例对本发明作进一步详细说明。
[0035] 如图1至图6所示,本实施例的高温设备的净化台,包括主框架100、碳化硅桨200、碳化硅桨运动模组和插片机对接机构300,碳化硅桨运动模组包括Z轴移动模块400、Y轴移动模块500和X轴伸缩模块600,Z轴移动模块400安装在主框架100上,Y轴移动模块500可移动的安装在Z轴移动模块400上, X轴伸缩模块600可移动的安装在Y轴移动模块500上,碳化硅桨200安装于X轴伸缩模块600的伸出端,插片机对接机构300包括对接导轨310和可与碳化硅桨200对接的支撑架320,支撑架320可移动的设于对接导轨310上,对接导轨310设于主框架100的底部,支撑架320与对接导轨310之间设有用于避让碳化硅桨200的对接避让区。
[0036] 支撑架320用来放石英/石墨舟900。对接导轨310与碳化硅桨200分设于主框架100的两侧。工作时,支撑架320在对接导轨310向外移动,与插片机(图中未示出)对接,插片机将电池片插入石英/石墨舟900内,插片结束后,支撑架320回移至主框架100内,X轴伸缩模块600处于伸缩状态,并带着碳化硅桨200沿着Y轴移动模块500向主框架100内移动(图4中向右侧移动),然后, Y轴移动模块500带着碳化硅桨200沿着Z轴移动模块400下降至最低位置,以使碳化硅桨200能进入对接避让区,之后Y轴移动模块500上升,碳化硅桨200上升提起石英/石墨舟900,再接着调节碳化硅桨200的位置,X轴伸缩模块600伸出端伸出,并带着碳化硅桨200沿着Y轴移动模块500伸出主框架100,将石英/石墨舟900送入左侧的高温炉体反应室(图中未示出)内,重复上述步骤直至高温炉体反应室内石英/石墨舟900数量达到要求。
[0037] 本发明的高温设备的净化台,用一个水平运动模组(插片机对接机构300)与外部插片机完成对接,以实现工艺电池片的自动化传送;净化台内部运动主体部分(碳化硅桨运动模组)则由一个垂直方向运动模组(即Z轴),一个水平方向运动模组(即Y轴),前后方向运动模组(即X轴)构成,且X轴采用伸缩的模式,有效降低了主框架100内部空间,基于该结构,采用一个碳化硅桨可以为N个高温炉体反应室传送石英/石墨舟900,有效的降低设备生产制造成本,且互换性较高;另一方面,采用本发明的设备还可以将多个高温炉体反应室并列放置,从而在有限的设备安装空间内实现更高产能。
[0038] 如图7至图9所示,本实施例中,碳化硅桨200通过调平机构210安装于X轴伸缩模块600上,调平机构210包括底板211、活动板212和用于夹持碳化硅桨200的夹持座213,底板
211固定于X轴伸缩模块600的伸出端,活动板212安装于底板211上,夹持座213安装于活动板212上,底板211上端面设有半圆柱201,活动板212设有可与半圆柱201配合的半圆槽202。
活动板212通过多对紧固螺栓214固定,各对紧固螺栓214的两个紧固螺栓214分别位于半圆柱201的两侧,其中位于中间的一对紧固螺栓214为左右调平螺栓215;夹持座213设置两个,各夹持座213通过一对夹持螺栓216和一对前后调平螺栓217固定。调节左右调平螺栓215,活动板212可以绕半圆柱201摆动,以此来调节活动板212水平度。调节前后调平螺栓217,调节前后两个夹持座213的水平度。
[0039] 如图10至图15所示,本实施例中,主框架100内设有缓存架700,缓存架700包括立架710和设于立架710上的多层支撑平台,碳化硅桨200可与每层支撑平台对接。支撑平台包括一对固定座组件720,固定座组件720包括底座721和支撑座722,底座721固定于立架710上,支撑座722通过销轴723与底座721连接,底座721与支撑座722之间设有复位弹簧724,底座721还设有可与支撑座722接触的行程触发开关725,支撑座722设有支撑槽726,两个支撑座722的支撑槽726相对设置。当碳化硅桨200将石英/石墨舟900放置在两个支撑槽726内时,由于石英/石墨舟和电池片自身重力作用会使支撑座722绕销轴723旋转并触发行程触发开关725,由行程触发开关725向系统提供该缓存区有舟信号;当碳化硅桨200将石英/石墨舟900从该支撑槽726取走时,复位弹簧724使得支撑座722回位,此时行程触发开关725触电松开并向系统提供该缓存区无舟信号。
[0040] 缓存架700的作用为用于冷却石英/石墨舟900。当高温炉体反应室石英/石墨舟900反应结束后,碳化硅桨200将石英/石墨舟900取出逐个防止在缓存架700的每层支撑平台上,主框架100的顶部设有高效过滤净化系统800,经过高效过滤器净化系统800后进入净化台内的新风面覆盖缓存架支撑平台所在区域,用于对支撑平台上的石英/石墨舟900进行降温。采用新的净化方案和缓存工位处理方案,使设备净化台内部结构更加紧凑,在达到较好的净化效果的同时有效减小了设备的安装空间。
[0041] 如图16和图17所示,本实施例中,X轴伸缩模块600包括一级运动副组件610和二级运动副组件620,一级运动副组件610包括一级底座611、一级线性导轨612、一级丝杆副613、一级驱动电机614,二级运动副组件620包括二级底座621、二级线性导轨622、二级丝杆副623、二级驱动电机624,一级底座611固定于Y轴移动模块500上,一级线性导轨612和一级丝杆副613设于一级底座611上,二级底座621滑设于一级线性导轨612上并与一级丝杆副613连接,一级驱动电机614通过皮带601和带轮602与一级丝杆副613连接,二级线性导轨622和二级丝杆副623设于二级底座621上,二级线性导轨622上滑设有安装板625,安装板625与二级丝杆副623连接,二级驱动电机624通过皮带601和带轮602与二级丝杆副623连接,碳化硅桨200安装于安装板625上。一级丝杆副613带动二级底座621伸出,二级丝杆副623带动安装板625伸出,从而带动安装板625上的碳化硅桨200移动至合适距离,采用二级伸缩结构,可减小占用空间。
[0042] 如图18所示,本实施例中,对接导轨310和可与碳化硅桨200对接的支撑架320,支撑架320包括托盘321和焊接托架322,托盘321设于对接导轨310上,通过一电机带动托盘322在对接导轨310上移动,焊接托架322固定在托盘321上,用于托住石英/石墨舟900,焊接托架322为单边的,对接避让区位于石英/石墨舟900与托盘321之间。
[0043] 除本实施例外,X轴伸缩模块600也可以为伸缩管的结构,也可以为三级或三级以上的伸缩结构。
[0044] 虽然本发明已以较佳实施例揭露如上,然而并非用以限定本发明。任何熟悉本领域的技术人员,在不脱离本发明技术方案范围的情况下,都可利用上述揭示的技术内容对本发明技术方案做出许多可能的变动和修饰,或修改为等同变化的等效实施例。因此,凡是未脱离本发明技术方案的内容,依据本发明技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同变化及修饰,均应落在本发明技术方案保护的范围内。