一种基于原子层沉积法进行镀膜改善银饰品稳定性的方法

摘要

本发明属于银饰品表面处理技术领域，具体涉及一种基于原子层沉积法进行镀膜改善银饰品稳定性的方法。本发明所述改善银饰品稳定性的方法，是基于原子层沉积法，以三甲基铝和水为反应源，对银饰表面进行Al2O3薄膜的沉积镀膜，以赋予银饰高硬度和强化学惰性，改善银饰品的稳定性；并通过对镀膜银饰的色差、耐划擦、和抗变色性能之间的交互关系的研究，获得了镀膜的最佳厚度值，以获得最佳的薄膜透明度和耐划擦、抗变色性能，解决了现有技术中镀膜方法无法同时满足银饰品的光泽质感和耐划擦、抗变色性能的问题。

权利要求

1.一种基于原子层沉积法进行镀膜改善银饰品稳定性的方法，其特征在于，包括基于原子层沉积法在银饰品沉积合成超薄Al2O3薄膜的步骤，控制所述Al2O3薄膜的厚度d为24.8nm；

所述原子层沉积法以三甲基铝和水为反应源进行Al2O3薄膜的沉积合成；

所述原子层沉积法的反应温度为200℃；

所述原子层沉积法具体包括如下步骤：

(1)在超声波条件下，采用乙醇和丙酮对银饰品表面进行清洗，然后采用高纯氮气吹干；

(2)打开反应室，将待沉积的银饰样品放置在样品架上，关闭反应室，并进行抽真空处理；

(3)开启加热模式，加热至设定温度；

(4)设定如下执行参数：TMA脉冲时间1s，TMA浸泡时间3s，TMA净化时间70s，H2O脉冲时间

1s，H2O净化时间70s，设定载气流量70sccm，生长温度200℃；并执行程序进行原子层沉积；

(5)上述沉积程序结束后，排气并取出样品，即得。

说明书

一种基于原子层沉积法进行镀膜改善银饰品稳定性的方法

技术领域

[0001] 本发明属于银饰品表面处理技术领域，具体涉及一种基于原子层沉积法进行镀膜改善银饰品稳定性的方法。

背景技术

[0002] 银饰品是一种以金属银打造的饰品，具有质地光滑、富有光泽、易造型的特点，受到市场的广泛青睐，据统计，925银饰全球年用银量超过五千吨。但是，银在大气中特别是硫存在情况下极易发生自然失泽导致外观劣化，并且遭受不耐划擦和易变色问题的困扰。

[0003] 925镀膜银饰的市场化应用具体的要求主要包括：为保持925银饰原有的金属质感，要求银饰镀膜前后的色差≤2.5；且要求镀膜银饰在浓度为0.05mol/L的硫化钠溶液中，静态腐蚀30min，无明显变色现象。现有技术中，用于防止银饰品失泽的方法包括给银产品上清漆的方式，但是由于干涉或其它光学变化，银产品上的涂层厚度变化会导致银饰品的颜色变化，会破坏饰品的视觉效果。

[0004] 由于具有层层自组装的特点，利用原子层沉积（ALD）在925银饰表面沉积超薄Al2O3薄膜可赋予银饰高硬度和强化学惰性。然而，现有利用原子层沉积法对银饰品进行镀膜的方法中，鉴于需要平衡考虑镀膜银饰的色差、耐划擦和抗变色性能之间的交互影响，尚未找到适合的镀膜方式，在保留银饰品光泽质感的同时，有效保证银饰品的耐划擦和抗变色性能。

发明内容

[0005] 为此，本发明所要解决的技术问题在于提供一种基于原子层沉积法进行镀膜改善银饰品稳定性的方法，以解决现有技术中镀膜方法无法同时满足银饰品的光泽质感和耐划擦、抗变色性能的问题。

[0006] 为解决上述技术问题，本发明所述的一种基于原子层沉积法进行镀膜改善银饰品稳定性的方法，包括基于原子层沉积法在银饰品沉积合成超薄Al2O3薄膜的步骤，控制所述Al2O3薄膜的厚度d为>0-40nm。

[0007] 优选的，所述的基于原子层沉积法进行镀膜改善银饰品稳定性的方法，控制所述Al2O3薄膜的厚度d为10-30.5nm。

[0008] 更优的，所述的基于原子层沉积法进行镀膜改善银饰品稳定性的方法，控制所述Al2O3薄膜的厚度d为24.8nm。

[0009] 具体的，所述原子层沉积法以三甲基铝和水为反应源进行Al2O3薄膜的沉积合成。

[0010] 具体的，所述原子层沉积法的反应温度为200℃。

[0011] 具体的，所述原子层沉积法具体包括如下步骤：

[0012] （1）打开反应室，将待沉积的银饰样品放置在样品架上，关闭反应室，并进行抽真空处理；

[0013] （2）开启加热模式，加热至设定温度；

[0014] （3）设定如下执行参数：TMA脉冲时间1s，TMA浸泡时间3s，TMA净化时间70s，H2O脉冲时间1s，H2O净化时间70s，设定载气流量70sccm，生长温度200℃；并执行程序进行原子层沉积；

[0015] （4）上述沉积程序结束后，排气并取出样品，即得。

[0016] 优选的，所述方法还包括采用乙醇和丙酮对所述银饰品表面进行清洗的步骤。

[0017] 更优的，所述清洗步骤在超声波条件下进行。

[0018] 更优的，还包括将清洗后的银饰品以高纯氮气吹干的步骤。

[0019] 本发明还公开了由所述基于原子层沉积法进行镀膜改善银饰品稳定性的方法制得的银饰品。

[0020] 本发明所述改善银饰品稳定性的方法，是基于原子层沉积法，以三甲基铝和水为反应源，对银饰表面进行Al2O3薄膜的沉积镀膜，以赋予银饰高硬度和强化学惰性，改善银饰品的稳定性；并通过对镀膜银饰的色差、耐划擦、和抗变色性能之间的交互关系的研究，获得了镀膜的最佳厚度值，以获得最佳的薄膜透明度和耐划擦、抗变色性能，解决了现有技术中镀膜方法无法同时满足银饰品的光泽质感和耐划擦、抗变色性能的问题。

附图说明

[0021] 为了使本发明的内容更容易被清楚的理解，下面根据本发明的具体实施例并结合附图，对本发明作进一步详细的说明，其中，

[0022] 图1为实验例1中厚度30nm薄膜的元素组成和物相结构，其中，（a）为X射线光电子能谱，（b）为X射线衍射谱图；

[0023] 图2为本发明实验例2中不同厚度薄膜的光透射率和镀膜样品色差的比较，其中，（a）为不同厚度五种薄膜在可见光区的透射光谱，（b）为镀膜银片的色差；

[0024] 图3为本发明实施例3中银片样品静态腐蚀30min后的光学显微镜照片，其中，（a）为未镀膜银片，（b）为镀膜厚度为10nm的银片，（c）为镀膜厚度为15 nm的银片；

[0025] 图4为本发明厚度为100nm的薄膜和925银的力学性能，其中，（a）为纳米硬度，（b）为弹性模量；

[0026] 图5为本发明Al2O3薄膜厚度对镀膜925银片综合性能的作用机理；

[0027] 图6为本发明ALD设备的结构示意图；

[0028] 图中附图标记表示为：1-外室，2-内室，3-加热器，4-托盘架，5-内腔盖。

具体实施方式

[0029] 如图6所示的ALD设备结构图，本发明下述实施例中进行原子层沉积法操作的ALD设备包括外室1、内室2，以及设置于所述外室1和内室2之间的加热器3，所述内室2内部设置有放置待沉积样品的托盘架4，并通过内腔盖5与所述内室2的扣合实现密封。所述加热器3用于将所述内室2加热至设定温度。

[0030] 实施例1

[0031] 本实施例所述基于原子层沉积法进行镀膜改善银饰品稳定性的方法，包括如下步骤：

[0032] （1）取925银片材（10mm*10mm*2mm）为基底，按照常规方法，采用乙醇和丙酮进行超声波清洗基底表面，随后用高纯氮气吹干，备用；

[0033] （2）采用如图6所示的ALD设备，以三甲基铝（TMA）和水为反应源，控制反应温度为200℃进行沉积合成超薄Al2O3薄膜：

[0034] 打开反应室，将待沉积的银饰样品放置在样品架上，关闭反应室，并进行抽真空处理；

[0035] 开启加热模式，加热至设定温度200℃；

[0036] 设定如下执行参数：TMA脉冲时间1s，TMA浸泡时间3s，TMA净化时间70s，H2O脉冲时间1s，H2O净化时间70s，设定载气流量70sccm，生长温度200℃；并执行程序进行原子层沉积；

[0037] 上述沉积程序结束后，排气并取出样品，，通过椭偏仪控制所述超薄Al2O3薄膜的厚度为11.6nm，即得。

[0038] 实施例2

[0039] 本实施例所述基于原子层沉积法进行镀膜改善银饰品稳定性的方法，包括如下步骤：

[0040] （1）取925银片材（10mm*10mm*2mm）为基底，按照常规方法，采用乙醇和丙酮进行超声波清洗基底表面，随后用高纯氮气吹干，备用；

[0041] （2）采用如图6所示的ALD设备，以三甲基铝（TMA）和水为反应源，控制反应温度为200℃进行沉积合成超薄Al2O3薄膜：

[0042] 打开反应室，将待沉积的银饰样品放置在样品架上，关闭反应室，并进行抽真空处理；

[0043] 开启加热模式，加热至设定温度200℃；

[0044] 设定如下执行参数：TMA脉冲时间1s，TMA浸泡时间3s，TMA净化时间70s，H2O脉冲时间1s，H2O净化时间70s，设定载气流量70sccm，生长温度200℃；并执行程序进行原子层沉积；

[0045] 上述沉积程序结束后，排气并取出样品，，通过椭偏仪控制所述超薄Al2O3薄膜的厚度为15.5nm，即得。

[0046] 实施例3

[0047] 本实施例所述基于原子层沉积法进行镀膜改善银饰品稳定性的方法，包括如下步骤：

[0048] （1）取925银片材（10mm*10mm*2mm）为基底，按照常规方法，采用乙醇和丙酮进行超声波清洗基底表面，随后用高纯氮气吹干，备用；

[0049] （2）采用如图6所示的ALD设备，以三甲基铝（TMA）和水为反应源，控制反应温度为200℃进行沉积合成超薄Al2O3薄膜：

[0050] 打开反应室，将待沉积的银饰样品放置在样品架上，关闭反应室，并进行抽真空处理；

[0051] 开启加热模式，加热至设定温度200℃；

[0052] 设定如下执行参数：TMA脉冲时间1s，TMA浸泡时间3s，TMA净化时间70s，H2O脉冲时间1s，H2O净化时间70s，设定载气流量70sccm，生长温度200℃；并执行程序进行原子层沉积；

[0053] 上述沉积程序结束后，排气并取出样品，，通过椭偏仪控制所述超薄Al2O3薄膜的厚度为21.1nm，即得。

[0054] 实施例4

[0055] 本实施例所述基于原子层沉积法进行镀膜改善银饰品稳定性的方法，包括如下步骤：

[0056] （1）取925银片材（10mm*10mm*2mm）为基底，按照常规方法，采用乙醇和丙酮进行超声波清洗基底表面，随后用高纯氮气吹干，备用；

[0057] （2）采用如图6所示的ALD设备，以三甲基铝（TMA）和水为反应源，控制反应温度为200℃进行沉积合成超薄Al2O3薄膜：

[0058] 打开反应室，将待沉积的银饰样品放置在样品架上，关闭反应室，并进行抽真空处理；

[0059] 开启加热模式，加热至设定温度200℃；

[0060] 设定如下执行参数：TMA脉冲时间1s，TMA浸泡时间3s，TMA净化时间70s，H2O脉冲时间1s，H2O净化时间70s，设定载气流量70sccm，生长温度200℃；并执行程序进行原子层沉积；

[0061] 上述沉积程序结束后，排气并取出样品，，通过椭偏仪控制所述超薄Al2O3薄膜的厚度为25.0nm，即得。

[0062] 实施例5

[0063] 本实施例所述基于原子层沉积法进行镀膜改善银饰品稳定性的方法，包括如下步骤：

[0064] （1）取925银片材（10mm*10mm*2mm）为基底，按照常规方法，采用乙醇和丙酮进行超声波清洗基底表面，随后用高纯氮气吹干，备用；

[0065] （2）采用如图6所示的ALD设备，以三甲基铝（TMA）和水为反应源，控制反应温度为200℃进行沉积合成超薄Al2O3薄膜：

[0066] 打开反应室，将待沉积的银饰样品放置在样品架上，关闭反应室，并进行抽真空处理；

[0067] 开启加热模式，加热至设定温度200℃；

[0068] 设定如下执行参数：TMA脉冲时间1s，TMA浸泡时间3s，TMA净化时间70s，H2O脉冲时间1s，H2O净化时间70s，设定载气流量70sccm，生长温度200℃；并执行程序进行原子层沉积；

[0069] 上述沉积程序结束后，排气并取出样品，，通过椭偏仪控制所述超薄Al2O3薄膜的厚度为30.5nm，即得。

[0070] 实施例6

[0071] 本实施例所述基于原子层沉积法进行镀膜改善银饰品稳定性的方法，包括如下步骤：

[0072] （1）取925银片材（10mm*10mm*2mm）为基底，按照常规方法，采用乙醇和丙酮进行超声波清洗基底表面，随后用高纯氮气吹干，备用；

[0073] （2）采用如图6所示的ALD设备，以三甲基铝（TMA）和水为反应源，控制反应温度为200℃进行沉积合成超薄Al2O3薄膜（同实施例1），通过椭偏仪控制所述超薄Al2O3薄膜的厚度为24.8nm，即得。

[0074] 实施例7

[0075] 本实施例所述基于原子层沉积法进行镀膜改善银饰品稳定性的方法，包括如下步骤：

[0076] （1）取925银片材（10mm*10mm*2mm）为基底，按照常规方法，采用乙醇和丙酮进行超声波清洗基底表面，随后用高纯氮气吹干，备用；

[0077] （2）采用如图6所示的ALD设备，以三甲基铝（TMA）和水为反应源，控制反应温度为200℃进行沉积合成超薄Al2O3薄膜（同实施例1），通过椭偏仪控制所述超薄Al2O3薄膜的厚度为10nm，即得。

[0078] 实施例8

[0079] 本实施例所述基于原子层沉积法进行镀膜改善银饰品稳定性的方法，包括如下步骤：

[0080] （1）取925银片材（10mm*10mm*2mm）为基底，按照常规方法，采用乙醇和丙酮进行超声波清洗基底表面，随后用高纯氮气吹干，备用；

[0081] （2）采用如图6所示的ALD设备，以三甲基铝（TMA）和水为反应源，控制反应温度为200℃进行沉积合成超薄Al2O3薄膜（同实施例1），通过椭偏仪控制所述超薄Al2O3薄膜的厚度为15nm，即得。

[0082] 实施例9

[0083] 本实施例所述基于原子层沉积法进行镀膜改善银饰品稳定性的方法，包括如下步骤：

[0084] （1）取925银片材（10mm*10mm*2mm）为基底，按照常规方法，采用乙醇和丙酮进行超声波清洗基底表面，随后用高纯氮气吹干，备用；

[0085] （2）采用如图6所示的ALD设备，以三甲基铝（TMA）和水为反应源，控制反应温度为200℃进行沉积合成超薄Al2O3薄膜（同实施例1），通过椭偏仪控制所述超薄Al2O3薄膜的厚度为30nm，即得。

[0086] 实验例

[0087] 本发明下述实验例中：

[0088] 利用925银片测量镀膜对银片色差和抗变色性能的影响；

[0089] 利用<100>面单晶硅片和高透光玻璃片分别测量薄膜的力学性能和光透射率；

[0090] 利用椭偏仪测量薄膜的厚度；

[0091] 利用X射线衍射仪表征薄膜的物相结构；

[0092] 利用分光光度计测量薄膜在可见光区的光透射率（误差5%）；

[0093] 利用X射线光电子能谱表征薄膜的组成成分；

[0094] 利用纳米压痕仪测量薄膜和925银的硬度和弹性模量；

[0095] 利用光学显微镜观察腐蚀后银片的变色情况；

[0096] 利用色差仪测量镀膜前后银片的Lab值，光源为D65，标准观察者角度为CIE10 o，以未镀膜样品为参照，计算镀膜银片的色差值；

[0097] 利用腐蚀实验检查银片的抗变色性能，把银片放在0.05mol/L的Na2S腐蚀溶液中，腐蚀时间为0.5h，腐蚀前后对样品进行烘干和称重。

[0098] 1、薄膜的元素组成和物相结构

[0099] 通过椭偏仪测得实施例9中沉积30nm厚度薄膜银饰样品的元素组成和物相结构，测试结果如图1所示。

[0100] 由图1中（a）可知，Al 2p和O 1s的XPS谱为对称的高斯分布，具有稳定的峰位，分别为74.3eV和531.3eV；O 1s和Al2p的结合能之差为457.0eV，接近蓝宝石（纯Al2O3）的456.7eV，表明薄膜主要由Al-O键组成。

[0101] 由图1中（b）可知，银片镀膜前后的XRD谱图衍射峰位置无明显变化；均为Ag的（111）、（200）、（220）和（311）晶面特征峰，表明薄膜为无定型结构。由此可知，实施例9中沉积的薄膜为无定型结构的Al2O3。

[0102] 2、膜厚对镀膜银饰颜色的影响

[0103] 为了考察薄膜光学特性对镀膜银片质感的影响，分别检测了实施例1-5中沉积厚度的薄膜的光透射率和镀膜银片的Lab值，薄膜的光透射率和镀膜样品的色差测试结果如图2所示。

[0104] 由图2中（a）可以看出，膜厚和波长对透射率的影响，随膜厚增加，透射率呈下降趋势。实施例1-5中制得厚度薄膜平均透射率分别为100%、99.9%、99.3%、98.6%、和98.1%。而且透射率曲线线型基本相同，说明膜厚对薄膜的光透射特性影响不大，且随波长增加，透射率呈上升趋势。如图2中（a）所示，薄膜的透射率曲线用虚线分为4个阶段：在380nm处，薄膜的透射率最低；第一阶段为380nm至400nm波段，透射率直线上升，曲线斜率最大；第二阶段为400nm至470nm波段，透射率呈直线上升，曲线斜率次之；第三阶段为470nm至550nm波段，透射率上升趋势逐渐减缓，曲线斜率逐渐减小至0。透射率在550nm处出现最大值；第四阶段为
550nm至760nm波段，透射率曲线呈平直线，透射率无明显变化。由此可知，薄膜在可见光波段的透射是不均匀的，550nm至760nm波段的透射率明显高于380nm至550nm波段。

[0105] 由图2中（b）可以看出，实施例1-5中制得厚度镀膜银片的色差，其中括号内的值分别是∆L*、∆a*、∆b*。色差值由公式（1）算得：

[0106] （1）

[0107] 是指在L*a*b*色空间下的标准偏差，其大小可以直接表征人眼对于物体色的感觉差距。∆L*，∆a*，∆b*分别为参考样品和被测样品之间明度L*和色度指数a*和b*的差值。

[0108] 由图2中（b）可以看出，色差随膜厚增加呈增大的趋势。以未镀膜银片为参照，镀膜厚度为11.6nm、15.5nm、21.1nm、25.0nm、30.5nm的银片的色差分别为0.46、1.1、1.78、2.61、3.67。二次拟合曲线后，得到满足色差≤2.5的临界膜厚为24.8nm。

[0109] 由图2中（b）所示附图括号内的L、a、b变化可以看出，随膜厚增加，L值减小，a值基本不变，b值增加。L值降低，镀膜银片的亮度下降，原因在于薄膜透射率随膜厚增加而下降。a值基本不变，b值增加，表明镀膜银片颜色偏黄色，可能是薄膜对可见光的不均匀透射。

[0110] 综上，薄膜的不均匀透射，会导致镀膜银饰产生颜色，颜色随膜厚增加而加深；薄膜的平均光透射率随膜厚增加而下降，导致镀膜银片亮度下降。颜色变化和亮度下降导致镀膜银片的色差增大，满足色差≤2.5要求的膜厚范围是0-24.8 nm。

[0111] 3、膜厚对镀膜银饰抗变色能力的影响

[0112] 对实施例7-8制得的银片进行镀膜银饰抗变色能力的测试，银片腐蚀后的光学显微镜照片如附图3所示。

[0113] 如图3的光镜和腐蚀增重的结果显示，银片的抗变色性能随膜厚增加而变强。图3中（a）的未镀膜银片表面有大面积颜色加深的腐蚀现象，局部呈黑褐色，腐蚀增重0.0004g，表明硫化腐蚀会导致925银严重变色；图3中（b）的银片有线型腐蚀，其余部分无明显变色现象，腐蚀增重0.0002g，表明镀膜可明显改善925银的抗变色性能；图3中（c）的银片没有出现变色现象，腐蚀前后的重量无变化，表明膜厚≥15nm时，镀膜银片完全抵挡住了Na2S腐蚀溶液的侵蚀。

[0114] 值得一提的是，图3中（b）的黄色箭头示出的一深色和一浅色两条划痕。浅色划痕应是在镀膜之前银表面与硬物划擦产生的，未变色的原因可能是10nm薄膜的覆盖效应，ALD具有在复杂形状镀件上亦均匀沉积薄膜的优点；深色划痕可能是在镀膜后银表面与硬物划擦产生的，变色的原因可能是划擦破坏了薄膜的完整性，划痕处裸露出来的银被腐蚀，但变色现象并未在划痕周围蔓延，说明薄膜的附着力良好。

[0115] 由此可知，薄膜具有附着力良好和覆盖均匀的特点，随镀膜厚度增加，银片的抗变色能力增强。当膜厚≥15nm时，镀膜银片可以抵挡Na2S腐蚀溶液的侵蚀。

[0116] 4、膜厚对镀膜银饰力学性能的影响

[0117] 本实验例采用纳米压痕测试来研究薄膜和基底的纳米硬度和弹性模量。受测量手段限制，薄膜厚度小于30nm时，不能准确测出薄膜真实的力学性能，所以选择100nm厚的Al2O3薄膜上进行纳米压痕测试，测试薄膜和925银的硬度和弹性模量结果如图4所示。

[0118] 由于质地软，925银表面易被划伤，划痕表面造成光的漫反射会影响其观赏性。由图4中结果可知，ALD Al2O3和925 银的硬度分别为11.45±1.9GPa和1.78±0.26GPa，相差6.4倍，说明ALD Al2O3薄膜抵抗硬物压入的能力远高于925银的；ALD Al2O3和925银的弹性模量分别为184.48±15.46GPa和91.81±8.53GPa，仅相差2倍，说明ALD Al2O3薄膜抵抗变形的能力高于925银，这是由于薄膜主要由高健能的Al-O键组成，可见，在925银表面沉积ALD Al2O3薄膜可提高其耐划擦性能。

[0119] 5、Al2O3薄膜厚度对镀膜925银综合性能的作用机理

[0120] 根据实验例1-4中测得的结果，鉴于ALD Al2O3解决了925银饰不耐划擦和易变色的问题，本发明利用原子层沉积技术在925银表面沉积不同厚度的Al2O3薄膜，以系统考察了镀膜银片的色差、耐划擦、和抗变色性能与膜厚的关系。籍此，提出膜厚对镀膜银片的色差、耐划擦和抗变色性能的作用机理。

[0121] 图5示出了膜厚对镀膜925银的影响示意图，其中，如图5中（a）显示色差影响，图5中（b）为抗变色影响和图5中（c）为硬度影响。在图例中，可以看到氧化铝，负二价硫离子，925银）; 金刚石压头（黄色倒三角形），可见光（绿色五边形，宽度表示强度）。

[0122] 影响机理涉及厚度和性能的动态平衡，而平衡包含两个相互冲突的方面：

[0123] （1）厚度增加可能引起色差增加。在图5中（a）所示，穿过薄膜的可见光随膜厚增加逐层减少，导致镀膜银的亮度降低。薄膜在可见光区的透射率不均匀，并且在550-760nm中比在380-550nm中的透射率高得多，导致氧化铝薄膜的颜色倾向于浅金色，样品的颜色随着厚度的增加会变暗。这与我们的实验结果一致（如图2中（a）和（b））。颜色的加深和亮度的降低不可避免地导致镀膜银的色差增加；

[0124] （2）厚度增加可以提升抗变色和耐划擦性能。在图5中（b）中，从亮到暗的垂直轴的颜色表示膜厚度的增加方向。氧化铝膜沉积在银片上，由于10nm膜的完整性差，未完全被膜覆盖的银表面被腐蚀。随着薄膜厚度的增加，薄膜的覆盖率大大提高，可以隔离腐蚀介质的接触。这与图3中的光学显微照片和腐蚀增重的结果一致。在图5中（c）所示，在相同的加载参数下，金刚石压头分别压入氧化铝膜和925银，前者压痕深度远小于后者。这与图4中的结果一致；镀膜925银的耐划擦性与是否镀膜密切相关，在合理的薄膜厚度范围内，镀膜925银的耐划擦性能随薄膜增加而增强。

[0125] 可见，最薄的膜厚为15nm，在硫化钠腐蚀溶液中显示出完全的抗变色性能。相反，发现最大膜厚度为24.8nm，因为较厚的膜具有不可接受的色差。平衡镀膜银的所需光学性质和耐腐蚀性以及耐划擦性能，可以得出结论，24.8nm的膜厚度是最佳的。

[0126] 显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本发明创造的保护范围之中。