圆柱滚子的超精密抛光方法

摘要

圆柱滚子的超精密抛光方法，包括：采用双平面研抛设备对圆柱滚子的圆柱面进行粗抛光和精抛光；安装于双平面研抛设备的上抛光盘和下抛光盘均是半固着磨粒抛光盘；半固着磨粒抛光层中，包含：31～36wt％的α‑氧化铝颗粒，22～25wt％的氧化铈颗粒，23～27wt％的胶体二氧化硅，余量为结合剂；所述α‑氧化铝颗粒的粒径为0.02～15微米；所述氧化铈颗粒的粒径为0.01～5微米；所述结合剂由胶粘剂和添加剂组成，其中胶粘剂占60～80wt％。该方法具有抛光精度高，加工效率高，圆柱滚子表面光洁度高，且批一致性高的特点。