柔性电磁波屏蔽材料及其制造方法

摘要

提供一种柔性电磁波屏蔽材料，包括：导电性纳米纤维网，其在气孔的至少一部分具备金属颗粒，具备纳米纤维网及金属层，纳米纤维网以纳米纤维形成，包括多个气孔，金属层覆盖在纳米纤维网的表面部配置的纳米纤维的至少一部分；及伸缩性构件，其接合于导电性纳米纤维网的一面。由于伸缩性卓越，能使形状按需要自由变形，即使是电磁波屏蔽材料配置的应用处表面为凹凸或错层等曲折形状，也能完全贴紧地附着，表现优秀的电磁波屏蔽性能。即使形状多样变化也能防止电磁波屏蔽性能低下。即使在狭小的面积内按高密度配备有部件时，也可克服部件间稠密的隔开间隔及错层，与贴装的部件完全贴紧配备，因而轻薄短小化的或柔性的电子设备可容易地采用。

权利要求

1.一种柔性电磁波屏蔽材料，其中，包括：导电性纳米纤维网，其在气孔的至少一部分具备金属颗粒，具备纳米纤维网及金属层，所述纳米纤维网以纳米纤维形成，包括多个气孔，所述金属层覆盖在所述纳米纤维网的表面部配置的纳米纤维的至少一部分；及伸缩性构件，其接合于所述导电性纳米纤维网的一面，所述导电性纳米纤维网通过包括树脂、溶剂及金属颗粒的纺纱溶液而形成，所述纺纱溶液相对于所述树脂100重量份，具备屏蔽效率维持的30重量份以上及不引起降低弹性的70重量份以下的所述金属颗粒，所述金属颗粒包括选自由镍、铜、银、金、铬、铂、钛合金及不锈钢构成的组的一种以上的金属。

2.根据权利要求1所述的柔性电磁波屏蔽材料，其中，所述纳米纤维由纤维形成成分形成，所述纤维形成成分包括在由PVDF类树脂及聚氨酯类树脂构成的组中选择的一种以上。

3.根据权利要求2所述的柔性电磁波屏蔽材料，其中，所述纤维形成成分按1:0.43～2.35的重量比配备PVDF类树脂及聚氨酯类树脂。

4.根据权利要求1所述的柔性电磁波屏蔽材料，其中，所述纳米纤维的平均直径为150nm～5μm。

5.根据权利要求1所述的柔性电磁波屏蔽材料，其中，所述纳米纤维网的厚度为4～30μm，定量为3.00～20.00g/㎡。

6.根据权利要求1所述的柔性电磁波屏蔽材料，其中，所述导电性纳米纤维网的孔隙度为30～80％。

7.根据权利要求1所述的柔性电磁波屏蔽材料，其中，所述伸缩性构件是通过包括聚氨酯类树脂而形成的。

8.根据权利要求1所述的柔性电磁波屏蔽材料，其中，所述伸缩性构件的平均厚度为10～150μm。

9.根据权利要求1所述的柔性电磁波屏蔽材料，其中，所述金属层包括选自由镍(Ni)及铜(Cu)构成的组的一种以上的金属。

10.根据权利要求1所述的柔性电磁波屏蔽材料，其中，所述金属层由镍(Ni)、铜(Cu)及镍(Ni)依次层叠形成。

11.根据权利要求1所述的柔性电磁波屏蔽材料，其中，所述金属层的平均厚度为1～5μm。

12.一种柔性电磁波屏蔽材料制造方法，其中，包括：(1)形成在气孔的至少一部分具备金属颗粒的纳米纤维网的步骤；

(2)在所述纳米纤维网的下部面形成伸缩性构件的步骤；及(3)以覆盖在所述纳米纤维网的表面部配置的纳米纤维的至少一部分的方式形成金属层而制造导电性纳米纤维网的步骤，其中，所述导电性纳米纤维网通过包括树脂、溶剂及金属颗粒的纺纱溶液而形成，所述纺纱溶液相对于所述树脂100重量份，具备屏蔽效率维持的30重量份以上及不引起降低弹性的70重量份以下的所述金属颗粒，所述金属颗粒包括选自由镍、铜、银、金、铬、铂、钛合金及不锈钢构成的组的一种以上的金属。

13.根据权利要求12所述的柔性电磁波屏蔽材料制造方法，其中，所述(1)步骤使包括纤维形成成分、溶剂及金属颗粒的纺纱溶液进行静电纺丝而执行。

14.一种电磁波屏蔽型电路模块，其中，包括：电路基板，其贴装有元件；及

权利要求1至11中任意一项的电磁波屏蔽材料，其以覆盖至少所述元件的上部和侧部的方式配备于电路基板上。

15.一种包括权利要求14的电磁波屏蔽型电路模块的电子设备。

说明书

柔性电磁波屏蔽材料及其制造方法

技术领域

[0001] 本发明涉及柔性电磁波屏蔽材料，更详细而言，涉及一种柔性电磁波屏蔽材料及其制造方法。

背景技术

[0002] 所谓电磁波，是在电场与磁场相互联动的同时，能量以正弦波形式移动的现象，在诸如无线通信或雷达的电子设备中有用地利用。所述电场借助于电压而生成，容易因距离远或树木等障碍物而被屏蔽，相反，所述磁场借助于电流而生成，与距离成反比，但具有不易被屏蔽的特性。

[0003] 另一方面，最近的电子设备对因电子设备内部干扰源或外部干扰源而发生的电磁干扰(electromagnetic interference:EMI)敏感，因而存在因电磁波而诱发电子设备失灵的忧虑。另外，使用电子设备的使用者也会因电子设备发生的电磁波而受到有害影响。

[0004] 因此，最近对用于保护电子设备部件或人体不受电磁波发生源或外部辐射的电磁波影响的电磁波屏蔽材料的关注正在急剧增加。

[0005] 所述电磁波屏蔽材料通常以导电性材料制造，朝向电磁波屏蔽材料辐射的电磁波在电磁波屏蔽材料中再次反射或流到地面，从而屏蔽电磁波。另一方面，所述电磁波屏蔽材料的一个示例可以为金属罩或金属板，这种电磁波屏蔽材料难以表现伸缩性，一旦制造后，不易变形为多样的形状/复原，因而存在难以被多样的应用处轻松采用的问题。特别是诸如金属板或金属薄膜的电磁波屏蔽材料，难以无间隔地贴紧作为电磁波发生源的部件或需要保护免受发生源影响的部件，在有错层或凹凸的部分，会因曲折而发生裂隙，会难以完全表现电磁波屏蔽性能。

[0006] 为了解决这种问题，最近介绍了一种在诸如高分子膜的轻量化的支撑构件上形成导电性涂层的电磁波屏蔽材料，但由于能够在支撑构件上涂覆的面积限制，因而在电磁波屏蔽性能方面存在界限，既定厚度以上的膜由于柔软性不足，在有错层、凹凸的部件上难以完全贴紧配备，在制成特定形状后，会难以使形状自由自在地变形，即使在形状可变形的情况下，形状变形时也存在被覆的传导性涂层频繁发生裂隙、剥离等问题。

发明内容

[0007] 解决的技术问题

[0008] 本发明正是为了解决上述问题而研发的，目的在于提供一种柔性电磁波屏蔽材料，伸缩性卓越，能够使形状按需要自由自在地变形，因而即使在采用电磁波屏蔽材料的应用处附着面的凹凸或错层等多样形状/结构中，也可以完全贴紧。

[0009] 另外，本发明另一目的在于提供一种即使形状多样变化也防止电磁波屏蔽性能低下的柔性电磁波屏蔽材料。

[0010] 进而，本发明又一目的在于提供一种在狭小的面积内按高密度配备有部件的轻薄短小化的电子设备或柔性电子设备可以容易地采用的电磁波屏蔽型电路模块及具备其的电子设备。

[0011] 技术方案

[0012] 为了解决上述课题，本发明提供一种柔性电磁波屏蔽材料，包括：导电性纳米纤维网，其在气孔的至少一部分具备金属颗粒，具备纳米纤维网及金属层，所述纳米纤维网以纳米纤维形成，包括多个气孔，所述金属层覆盖在所述纳米纤维网的表面部配置的纳米纤维的至少一部分；及伸缩性构件，其接合于所述导电性纳米纤维网的一面。

[0013] 根据本发明一个实施例，所述纳米纤维可以以纤维形成成分形成，所述纤维形成成分包括在由PVDF类树脂及聚氨酯类树脂构成的组中选择的一种以上。

[0014] 另外，所述纤维形成成分可以按1:0.43～2.35的重量比配备PVDF类树脂及聚氨酯类树脂。

[0015] 另外，所述纳米纤维的平均直径可以为150nm～5μm。

[0016] 另外，所述纳米纤维网的厚度可以为4～30μm，定量可以为3.00～20.00g/m2。

[0017] 另外，所述导电性纳米纤维网可以通过包括树脂、溶剂及金属颗粒的纺纱溶液形成，所述纺纱溶液相对于所述树脂100重量份，可以具备金属颗粒30～70重量份，所述金属颗粒包括选自由镍、铜、银、金、铬、铂、钛合金及不锈钢构成的组的一种以上。

[0018] 另外，所述导电性纳米纤维网的孔隙度可以为30～80％。

[0019] 另外，所述伸缩性构件可以包括聚氨酯类树脂形成。

[0020] 另外，所述伸缩性构件的平均厚度可以为10～150μm。

[0021] 另外，所述金属层可以包括选自由镍(Ni)及铜(Cu)构成的组的一种以上的金属。

[0022] 另外，所述金属层可以由镍(Ni)、铜(Cu)及镍(Ni)依次层叠形成。

[0023] 另外，所述金属层的平均厚度可以为1～5μm。

[0024] 另一方面，本发明提供一种柔性电磁波屏蔽材料制造方法，包括：(1)形成在气孔的至少一部分具备金属颗粒的纳米纤维网的步骤；(2)在所述纳米纤维网的下部面形成伸缩性构件的步骤；及(3)以覆盖在所述纳米纤维网的表面部配置的纳米纤维的至少一部分的方式形成金属层而制造导电性纳米纤维网的步骤。

[0025] 根据本发明一个实施例，所述(1)步骤可以使包括纤维形成成分、溶剂及金属颗粒的纺纱溶液进行静电纺丝而执行。

[0026] 另一方面，本发明提供一种电磁波屏蔽型电路模块，包括：电路基板，其贴装有元件；及上述的电磁波屏蔽材料，其以覆盖至少所述元件的上部和侧部的方式配备于电路基板上。

[0027] 另一方面，本发明提供一种包括所述电磁波屏蔽型电路模块的电子设备。

[0028] 发明效果

[0029] 本发明的电磁波屏蔽材料由于伸缩性卓越，能够使形状按需要自由自在地变形，即使是电磁波屏蔽材料配置的应用处附着面的凹凸或错层等曲折形状，也能够完全贴紧地附着。另外，即使形状多样变化也能够防止电磁波屏蔽性能低下。进而，即使在狭小的面积内按高密度配备有部件的情况下，也可以克服部件间稠密的隔开间隔及错层，与贴装的部件完全贴紧配备，可以表现优秀的电磁波屏蔽性能，因而轻薄短小化的或柔性的电子设备可以容易地采用。

附图说明

[0030] 图1是本发明一个实施例的柔性电磁波屏蔽材料的剖面图，及

[0031] 图2是本发明一个实施例的电磁波屏蔽型电路模块的剖面图。

具体实施方式

[0032] 最佳实施方式

[0033] 下面以附图为参考，对本发明的实施例进行详细说明，以便本发明所属技术领域的普通技术人员能够容易地实施。本发明可以以多种不同形态体现，并不限定于在此说明的实施例。为了在附图中明确说明本发明，省略与说明无关的部分，在通篇说明书中，对相同或类似的构成要素赋予相同的附图标记。

[0034] 如果参照图1，本发明一个实施例的柔性电磁波屏蔽材料1000包括：导电性纳米纤维网100，其在气孔的至少一部分具备金属颗粒120，具备纳米纤维网110及金属层130，所述纳米纤维网110以纳米纤维形成并包括气孔H，所述金属层130覆盖在所述纳米纤维网110的表面部配置的纳米纤维至少一部分；及伸缩性构件200，其接合于所述导电性纳米纤维网100的一面。

[0035] 所述导电性纳米纤维网100具备的纳米纤维网110为三维网络结构，包括多个气孔H，所述多个气孔H可以被形成所述纳米纤维网110的纳米纤维环绕形成。

[0036] 所述纳米纤维可以形成纳米纤维网，为了表现纳米纤维网的伸缩性，只要是本行业通常可以使用的树脂，则可以无限制地使用而形成，优选地，可以以包括在由聚氨酯(polyurethane)、聚苯乙烯(polystylene)、聚乙烯醇(polyvinylalchol)、聚甲基丙烯酸甲酯(polymethyl  methacrylate)、聚乳酸(polylactic  acid)、聚氧化乙烯(polyethyleneoxide)、聚醋酸乙烯酯(polyvinyl acetate)、聚丙烯酸(polyacrylic acid)、聚己酸内酯(polycaprolactone)、聚丙烯腈(polyacrylonitrile)、聚乙烯吡咯烷酮(polyvinylpyrrolidone)、聚氯乙烯(polyvinylchloride)、聚碳酸酯(polycarbonate)、聚醚酰亚胺(polyetherimide)、聚醚砜(polyethersulphone)、聚苯并咪唑
(polybenzimidazole)、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯及氟类化合物构成的组中选择的一种以上的树脂形成。另外，所述氟类化合物可以为选自由聚四氟乙烯(PTFE)类、四氟乙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物(PFA)类、四氟乙烯-六氟丙烯共聚物(FEP)类、四氟乙烯-六氟丙烯-全氟烷基乙烯基醚共聚物(EPE)类、乙烯-四氟乙烯共聚物(ETFE)类、聚三氟氯乙烯(PCTFE)类、三氟氯乙烯-乙烯共聚物(ECTFE)类及聚偏二氟乙烯(PVDF)类构成的组的一种以上。优选地，为了使以所述纳米纤维形成的纳米纤维网110及具备其的导电性纳米纤维网100表现进一步提高的伸缩性、耐热性、耐化学性及机械强度，所述纳米纤维可以由纤维形成成分在纺丝溶液态下混纺而成，所述纤维形成成分包括选自由作为氟类化合物的PVDF及聚氨酯类树脂构成的组的一种以上。作为一个示例，所述纤维形成成分可以按1:0.43～2.35的重量比包含PVDF类树脂及聚氨酯类树脂，优选地，可以按1:0.5～2的重量比包含，最优选地，可以按1:1的重量比包含。如果所述PVDF类树脂及聚氨酯类树脂的重量比不足1:0.43，则柔性电磁波屏蔽材料的伸缩性会低下，如果重量比超过1:2.35，则机械物性会低下。

[0037] 另外，就所述纳米纤维而言，只要是具有本行业通常可以形成网的平均直径的纳米纤维，则不受限制，优选地，平均直径可以为150nm～5μm，更优选地，平均直径可以为150～700nm，更进一步优选地，平均直径可以为200～600nm。如果所述纳米纤维的平均直径不足150nm，则制造的柔性电磁波屏蔽材料的机械强度会低下，如果平均直径超过5μm，则伸缩性会低下。

[0038] 另外，所述纳米纤维网110的厚度可以为4～30μm，更优选地，可以为4～13μm，更更优选地，厚度可以为5～12μm。如果所述纳米纤维网110的厚度不足4μm，则机械强度会低下或不容易操作，会发生层间剥离现象，如果厚度超过30μm，则伸缩性会低下。

[0039] 而且，所述纳米纤维网110的定量可以为3～20g/m2，优选地，定量可以为5～15g/m2。如果所述纳米纤维网110的定量不足3g/m2，则机械强度会低下或会不容易操作，会发生层间剥离现象，如果定量超过20g/m2，则伸缩性会低下。

[0040] 所述金属颗粒120配备于导电性纳米纤维网100的气孔的至少一部分，发挥维持柔性电磁波屏蔽材料1000的屏蔽力的功能。所述金属颗粒120可以为选自由镍、铜、银、金、铬、铂、钛合金及不锈钢构成的组的一种以上，优选地，可以为镍或银，更优选地，使用镍纳米棒或银纳米棒，可以对维持屏蔽力更有利。

[0041] 另外，所述金属颗粒120相对于所述纤维形成成分100重量份，可以按30～70重量份配备，优选地，可以按35～65重量份配备。作为一个示例，所述金属颗粒相对于所述纤维形成成分100重量份，可以按50重量份配备。如果所述金属颗粒120相对于100重量份的所述纳米纤维网110不足30重量份，则屏蔽效率的维持力会低下，如果超过70重量份，则伸缩性会低下。

[0042] 而且，所述金属颗粒120只要是能够配备于导电性纳米纤维网100的气孔的至少一部分并提高导电性纳米纤维网100伸缩性的大小，则不受限定，作为一个示例，当所述金属颗粒120为纳米棒形状时，可以直径为0.7～1.1μm及长度为1.5～3.5μm，优选地，可以直径为0.8～1.1μm及长度为2～3μm，但不限定于此。

[0043] 所述导电性纳米纤维网100具备覆盖在所述纳米纤维网110的表面部配置的纳米纤维至少一部分的金属层130。

[0044] 另一方面，本发明中使用的术语所述“表面部”，代表与深度无关地从上部观察纳米纤维网110时，在表面露出的纳米纤维。具体如图1所示，可以将在A-B区域形成有金属层130的部分称为在纳米纤维网110的表面部配置的纳米纤维的一部分，虽然图1中未图示，但在纳米纤维网110上部方向露出的部分包括气孔的情况下，在纳米纤维网110中露出的气孔也是表面部包括的范围。

[0045] 所述金属层130如图1所示，可以横跨A-B区域配备，A代表在表面部形成的金属层130的最上部地点，B代表在表面部形成的金属层130的最下部地点。另外，作为一个示例，露出的部分包括气孔，当金属层130的最下部地点位于气孔上时，所述B地点代表在露出的气孔中形成的金属层130的最下部。

[0046] 另外，所述金属层130的平均厚度可以为1～5μm，优选地，平均厚度可以为2～4μm。如果所述金属层130的平均厚度不足1μm，则屏蔽力会低下，如果平均厚度超过5μm，则伸缩性会低下。

[0047] 另一方面，只要是本行业通常可以提高屏蔽力的物质，所述金属层130便可以无限制地使用而形成，优选地，可以包括选自由镍及铜构成的组的一种以上金属形成，更优选地，镍、铜及镍依次层叠地形成，可以有利于提高屏蔽力、伸缩性。

[0048] 如上所述，当以镍、铜及镍依次层叠地方式形成金属层130时，第一镍层可以发挥使得铜层容易形成的功能，第二铜层可以发挥调节制造的电磁波屏蔽材料的导电率的功能，第三镍层可以执行防止铜层氧化的功能。

[0049] 就所述导电性纳米纤维网100的孔隙度而言，只要是能够提高伸缩性的孔隙度，则不限制，优选地，可以为30～80％，更优选地，可以为40～70％。如果所述导电性纳米纤维网100的孔隙度不足30％，则伸缩性会低下，如果孔隙度超过80％，则机械物性低下，会发生层间剥离。

[0050] 然后，所述伸缩性构件200发挥提高柔性电磁波屏蔽材料的伸缩性的功能，只要是通常能够提高伸缩性的物质，便可以无限制地使用，优选地，使用聚氨酯类膜，可以更有利于提高柔性电磁波屏蔽材料1000的伸缩性。

[0051] 另外，就所述伸缩性构件200而言，只要是能够提高柔性电磁波屏蔽材料1000伸缩性的厚度，则不限制，优选地，平均厚度可以为10～150μm，更优选地，平均厚度可以为25～110μm，更更优选地，平均厚度可以为30～100μm。如果所述伸缩性构件200的平均厚度不足
10μm，则伸缩性会低下，如果平均厚度超过150μm，则会发生层间剥离现象。

[0052] 另一方面，本发明一个实施例的电磁波屏蔽材料包括以下步骤而制造：(1)形成在气孔的至少一部分具备金属颗粒的纳米纤维网的步骤；(2)在所述纳米纤维网的下部面形成伸缩性构件的步骤；及(3)以覆盖在所述纳米纤维网的表面部配置的纳米纤维的至少一部分的方式形成金属层而制造导电性纳米纤维网的步骤。

[0053] 首先，作为本发明的(1)步骤，执行形成在气孔的至少一部分配备金属颗粒120的纳米纤维网110的步骤。

[0054] 就在所述纳米纤维网110气孔的至少一部分配备金属颗粒120的方法而言，只要是本行业通常可以使用的方法，则可以无限制地使用，优选地，可以使包括纤维形成成分、溶剂及金属颗粒的纺纱溶液进行静电纺丝，形成在气孔的至少一部分具备金属颗粒120的纳米纤维网110。

[0055] 另一方面，所述静电纺丝可以考虑纺纱溶液中包含的纤维形成成分的种类、溶剂的种类等，适当地选择干式静电纺丝或湿式静电纺丝，因此，本发明对此不特别限定。另外，通过纺丝的纳米纤维来制造纳米纤维网的方法，可以通过公知的制造纤维网的方法而制造。作为一个示例，可以对在收集器中收集、积累的纤维垫，经过压延成型工序而制造，但并非限定于此。

[0056] 然后，作为本发明的(2)步骤，执行在所述纳米纤维网110的下部面形成伸缩性构件200的步骤。

[0057] 就在所述纳米纤维网110的下部面形成伸缩性构件200的方法而言，可以利用本行业通常可以使用的方法形成，优选地，可以通过热熔接，将与伸缩性构件200相接的纳米纤维网110的下部面与伸缩性构件200的上部面贴合。另一方面，所述热熔接的条件可以根据形成纳米纤维的树脂种类而变更，因此，本发明对此不特别限定。

[0058] 然后，作为本发明的(3)步骤，执行以覆盖在所述纳米纤维网110的表面部配置的纳米纤维的至少一部分的方式形成金属层130，制造导电性纳米纤维网100的步骤。

[0059] 就所述金属层130而言，只要是本行业通常可以使用的金属层形成方法，则可以无限制地使用，优选地，可以通过无电式电镀、溅射、丝网印刷及浇铸等方法而形成，更优选地，可以通过无电式电镀、丝网印刷或浇铸而形成，更更优选地，可以通过无电式电镀或丝网印刷而形成，但并非限定于此。

[0060] 上述柔性电磁波屏蔽材料1100如图2所示，体现为电磁波屏蔽型电路模块2000，具体而言，在贴装有元件1310、1320的电路基板1200上部，电磁波屏蔽材料1100可以以覆盖至少所述元件1310、1320的上部及侧部的方式配备于电路基板1200上。

[0061] 所述电路基板1200可以为电子设备中配备的公知的电路基板，作为一个示例，可以为PCB(印刷电路板)、FPCB(柔性印刷电路板)。所述电路基板1200的大小、厚度可以根据要体现的电子设备的内部设计而变更，因此，本发明对此不特别限定。

[0062] 另外，所述元件1310、1320可以是诸如驱动芯片的在电子设备内电路基板上贴装的公知的元件，可以是发生电磁波和/或热，或者对电磁波敏感而容易失灵的元件。

[0063] 本发明一个实施例的电磁波屏蔽材料1100，即使在如图2所示邻接的元件1310、1320间的隔开距离窄或因元件1310、1320的厚度而发生错层的情况下，也可以贴紧元件侧部地附着，因而有利于表现进一步提高的电磁波屏蔽性能。

[0064] 本发明的电磁波屏蔽材料由于伸缩性卓越，能够使形状按需要自由自在地变形，即使是电磁波屏蔽材料配置的应用处附着面的凹凸或错层等曲折形状，也能够完全贴紧地附着。另外，即使形状多样变化也防止电磁波屏蔽性能低下。进而，即使在狭小的面积内按高密度配备有部件的情况下，也可以克服部件间稠密的隔开间隔及错层，与贴装的部件完全贴紧配备，可以表现优秀的电磁波屏蔽性能，因而轻薄短小化的或柔性的电子设备可以容易地采用。

具体实施方式

[0065] 通过下述实施例，更具体地说明本发明，但下述实施例并非限定本发明的范围，应解释为用于帮助理解本发明。

[0066] <实施例1>

[0067] 首先，为了制备纺纱溶液，作为纤维形成成分，将聚偏氟乙烯及聚氨酯按1:1的重量比混合，在二甲基乙酰胺与丙酮的重量比为70:30的85g中，在80℃温度下，在6小时期间，使用磁棒使所述纤维形成成分15g溶解，制备了混合溶液。在所述混合溶液中，相对于纤维形成成分100重量份，使用混合机，混合平均直径为1μm、平均长度为2.5μm的镍棒(rod)50重量份。将所述纺丝溶液投入静电纺丝装置的溶液箱，按15μl/min/hole的速度吐出。此时，纺丝区间的温度保持30℃、湿度保持50％，收集器与纺丝喷嘴尖端间距离为20㎝，使用高电压发生器，向纺丝喷嘴组(Spin Nozzle Pack)赋予40kV以上的电压，同时，每纺丝组喷嘴赋予0.03MPa的空气压力，制造了以PVDF/PU复合纳米纤维形成的纳米纤维网。然后，为了使所述
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纳米纤维网中存在的溶剂、水分干燥，按140℃以上的温度及1kgf/cm 施加热和压力，实施了压延成型工序。此时，制造的纳米纤维网的厚度为10μm，定量为9.2g/m2。

[0068] 然后，在所述纳米纤维网的下部面，以温度140℃，将作为伸缩性构件的平均厚度100μm的聚氨酯膜热熔接，将伸缩性构件贴合于纳米纤维网的下部面。然后，以覆盖在贴合的纳米纤维网上部表面部配置的纳米纤维的至少一部分的方式，对镍、铜及镍依次进行无电式电镀，形成平均厚度3μm的金属层，制造了柔性电磁波屏蔽材料。制造的柔性电磁波屏蔽材料中具备的导电性纳米纤维网的孔隙度为40％。

[0069] <实施例2～22及比较例1～3>

[0070] 与实施例1相同地实施并制造，但如下表1至表4所示，变更纳米纤维网的厚度和定量、金属颗粒含量、导电性纳米纤维网的孔隙度、金属层的厚度及伸缩性构件的厚度等，制造了如表1至表4所示的柔性电磁波屏蔽材料。

[0071] <实验例1>

[0072] 针对实施例及比较例制造的柔性电磁波屏蔽材料,测量下述物性，显示于下述表1至表4。

[0073] 1.伸缩性(弹性恢复率)评价

[0074] 针对根据实施例及比较例制造的柔性电磁波屏蔽材料，通过UTM(万能试验机(Universal Testing Machine)，英斯特朗公司，3343)，使之拉伸50％后去除外力，根据下述数学式1评价伸缩性。

[0075] [数学式1]

[0076] 伸缩性(弹性恢复率)(％)＝[(因外力而变长的长度)-(外力去除后长度)]/[(因外力而变长的长度)-(初始长度)]×100(％)

[0077] 2.初始电磁波屏蔽性能

[0078] 针对根据实施例及比较例制造的柔性电磁波屏蔽材料，通过阻抗测量仪(日置3540mΩHITESTER，日置公司)测量了传导性纤维网表面的阻抗。以测量的比较例1的测量值为100，将实施例的测量阻抗值显示为相对的百分率。

[0079] 3.电磁波屏蔽性能变动率

[0080] 针对根据实施例及比较例制造的柔性电磁波屏蔽材料，使用夹具，将试片沿横向方向拉伸1.2倍后，再沿纵向方向拉伸1.2倍，以此为一组，反复三组。

[0081] 然后，利用初始电磁波屏蔽性能测量方法，求出拉伸后各试片的阻抗值B后，按下述数学式2，计算相对各试片初始阻抗值A的拉伸后各试片变动率。

[0082] 此时，变动率越大，意味着电磁波屏蔽性能越低下。

[0083] [数学式2]

[0084] 变动率(％)＝(B-A)×100÷A

[0085] 4.层间剥离评价

[0086] 针对根据实施例及比较例制造的柔性电磁波屏蔽材料分别执行伸缩性评价后，不发生层间剥离的情形标识为○，发生层间剥离的情形标识为×，评价层间剥离并显示于下表1至表4。

[0087] 【表1】

[0088]

[0089] 【表2】

[0090]

[0091]

[0092] 【表3】

[0093]

[0094] 【表4】

[0095]

[0096]

[0097] 正如所述表1至表4可知，

[0098] 本发明的全部满足纳米纤维网厚度和定量、金属颗粒含量、导电性纳米纤维网的孔隙度、金属层的厚度及伸缩性构件厚度等的实施例1、3、4、7、8、11、12、15、16、19及20，与在其中漏掉一项的实施例2、5、6、9、10、13、14、17、18、21及比较例1～3相比，可以同时全部达成伸缩性及初始电磁波屏蔽性能优秀、电磁波屏蔽性能变动率小、不发生层间剥离的效果。

[0099] 以上对本发明一个实施例进行了说明，但本发明的思想不限于本说明书提出的实施例，理解本发明思想的从业人员可以在相同的思想范围内，通过构成要素的附加、变更、删除、追加等，容易地提出其他实施例，但这也属于本发明的思想范围内。