一种显示面板及显示装置

摘要

本发明公开了一种显示面板及显示装置，显示面板包括衬底以及位于衬底上的多个辅助电极、像素定义层以及第一电极，像素定义层位于辅助电极远离衬底的一侧，第一电极位于像素定义层远离衬底的一侧；像素定义层设置有多个对应相邻子像素结构之间的区域的开口，辅助电极对应开口设置且开口暴露出对应的辅助电极，位于第一电极临近衬底一侧的第一金属层设置有至少两个辅助电极的电接触点；显示面板还包括多个导电结构，导电结构位于第一电极与对应的辅助电极之间，第一电极通过对应的导电结构与辅助电极电连接，导电结构至少覆盖对应的开口的部分侧壁。通过本发明的技术方案，提高了显示面板的显示均匀性的同时，有利于提高显示面板的开口率。

权利要求

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

衬底以及位于所述衬底上的多个辅助电极、像素定义层以及第一电极，所述像素定义层位于所述辅助电极远离所述衬底的一侧，所述第一电极位于所述像素定义层远离所述衬底的一侧；

所述像素定义层设置有多个对应相邻子像素结构之间的区域的开口，所述辅助电极对应所述开口设置且所述开口暴露出对应的所述辅助电极，位于所述第一电极临近所述衬底一侧的第一金属层设置有至少两个所述辅助电极的电接触点；

所述显示面板还包括多个导电结构，所述导电结构位于所述第一电极与对应的所述辅助电极之间，所述第一电极通过对应的所述导电结构与所述辅助电极电连接，所述导电结构至少覆盖对应的所述开口的部分侧壁。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述导电结构延伸至对应的所述开口外。

3.根据权利要求1或2所述的显示面板，其特征在于，所述子像素结构包括位于所述第一电极临近所述衬底一侧的第二电极，所述第一电极与所述第二电极之间设置有发光功能层，所述发光功能层至少暴露出所述导电结构。

4.根据权利要求1或2所述的显示面板，其特征在于，所述子像素结构包括位于所述第一电极临近所述衬底一侧的第二电极，所述第一电极与所述第二电极之间设置有发光功能层，所述辅助电极与所述第二电极同层设置。

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述辅助电极设置于所述第一金属层。

6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，所述辅助电极形成网格状结构。

7.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述第一金属层位于所述辅助电极远离所述第一电极的一侧。

8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述第一金属层设置有第一电源信号线或者数据信号线。

9.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述第一金属层设置有第一金属结构，所述第一金属结构为网格状结构，所述第一金属结构与所述辅助电极通过过孔电连接。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的显示面板。

说明书

一种显示面板及显示装置

技术领域

[0001] 本发明实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及显示装置。

背景技术

[0002] 随着显示技术的发展，显示面板的尺寸逐渐增加，显示面板的设计难度逐渐加大，用户对显示面板显示的均匀性的要求也越来越高。

[0003] 目前，为了提高显示面板的显示均匀性，设置辅助阴极与阴极电连接，利用激光打孔技术去除有机发光结构的发光功能层以使得阴极与辅助阴极电连接，但是目前激光打孔技术精度较差的问题，导致显示面板的开口率下降，有机发光器件的寿命下降，影响显示面板的显示效果。

发明内容

[0004] 本发明提供一种显示面板及显示装置，提高了显示面板的显示均匀性的同时，有利于提高显示面板的开口率。

[0005] 第一方面，本发明实施例提供了一种显示面板，包括：

[0006] 衬底以及位于所述衬底上的多个辅助电极、像素定义层以及第一电极，所述像素定义层位于所述辅助电极远离所述衬底的一侧，所述第一电极位于所述像素定义层远离所述衬底的一侧；

[0007] 所述像素定义层设置有多个对应相邻子像素结构之间的区域的开口，所述辅助电极对应所述开口设置且所述开口暴露出对应的所述辅助电极，位于所述第一电极临近所述衬底一侧的第一金属层设置有至少两个所述辅助电极的电接触点；

[0008] 所述显示面板还包括多个导电结构，所述导电结构位于所述第一电极与对应的所述辅助电极之间，所述第一电极通过对应的所述导电结构与所述辅助电极电连接，所述导电结构至少覆盖对应的所述开口的部分侧壁。

[0009] 进一步地，所述导电结构延伸至对应的所述开口外。

[0010] 进一步地，所述子像素结构包括位于所述第一电极临近所述衬底一侧的第二电极，所述第一电极与所述第二电极之间设置有发光功能层，所述发光功能层至少暴露出所述导电结构。

[0011] 进一步地，所述子像素结构包括位于所述第一电极临近所述衬底一侧的第二电极，所述第一电极与所述第二电极之间设置有发光功能层，所述辅助电极与所述第二电极同层设置。

[0012] 进一步地，所述辅助电极设置于所述第一金属层。

[0013] 进一步地，所述辅助电极形成网格状结构。

[0014] 进一步地，所述第一金属层位于所述辅助电极远离所述第一电极的一侧。

[0015] 进一步地，，所述第一金属层设置有第一电源信号线或者数据信号线。

[0016] 进一步地，所述第一金属层设置有第一金属结构，所述第一金属结构为网格状结构，所述第一金属结构与所述辅助电极通过过孔电连接。

[0017] 第二方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括如第一方面所述的显示面板。

[0018] 本发明实施例提供了一种显示面板及显示装置，设置显示面板包括衬底以及位于衬底上的多个辅助电极、像素定义层以及第一电极，像素定义层位于辅助电极远离衬底的一侧，第一电极位于像素定义层远离衬底的一侧，像素定义层设置有多个对应相邻子像素结构之间的区域的开口，辅助电极对应开口设置且开口暴露出对应的辅助电极，显示面板还包括多个导电结构，导电结构位于第一电极与对应的辅助电极之间，第一电极通过对应的导电结构与辅助电极电连接，导电结构至少覆盖对应的开口的部分侧壁，提高了显示面板的显示均匀性的同时，有利于提高显示面板的开口率。

附图说明

[0019] 通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显：

[0020] 图1为本发明实施例提供的一种显示面板的俯视结构示意图；

[0021] 图2为本发明实施例提供的一种显示面板的剖面结构示意图；

[0022] 图3为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖面结构示意图；

[0023] 图4为本发明实施例提供的一种辅助电极的俯视结构示意图；

[0024] 图5为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖面结构示意图；

[0025] 图6为本发明实施例提供的一种第一金属结构的俯视结构示意图；

[0026] 图7为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。

具体实施方式

[0027] 下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。贯穿本说明书中，相同或相似的附图标号代表相同或相似的结构、元件或流程。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

[0028] 本发明实施例提供了一种显示面板，包括衬底以及位于衬底上的多个辅助电极、像素定义层以及第一电极，像素定义层位于辅助电极远离衬底的一侧，第一电极位于像素定义层远离衬底的一侧。像素定义层设置有多个对应相邻子像素结构之间的区域的开口，辅助电极对应开口设置且开口暴露出对应的辅助电极，位于第一电极临近衬底一侧的第一金属层设置有至少两个辅助电极的电接触点。显示面板还包括多个导电结构，导电结构位于第一电极与对应的辅助电极之间，第一电极通过对应的导电结构与辅助电极电连接，导电结构至少覆盖对应的开口的部分侧壁。

[0029] 随着显示技术的发展，显示面板的尺寸逐渐增加，显示面板的设计难度逐渐加大，用户对显示面板显示的均匀性的要求也越来越高。目前，为了提高显示面板的显示均匀性，可以在阴极下方设置辅助阴极，利用激光打孔技术去除对应辅助阴极位置的有机发光结构的发光功能层，使得阴极与辅助阴极电连接，利用辅助阴极增加用于传输阴极信号的结构的横截面积，以降低用于传输阴极信号的结构的电阻，进而提高阴极信号传输的均匀性，提高显示面板的显示均匀性。但是，激光打孔的位置位于相邻子像素之间，目前激光打孔技术精度较差的问题，在激光打孔的过程中激光打孔形成过孔可能会侵占子像素的开口区，使得显示面板的开口率下降，使得有机发光器件的寿命下降，影响显示面板的显示效果。

[0030] 本发明实施例提供的显示面板利用辅助电极以及导电结构降低了用于传输阴极信号的结构的电阻，有利于提高阴极信号传输的均匀性，进而提高显示面板的显示均匀性的同时，导电结构的设置有利于减小对应相邻子像素结构之间区域设置的开口面积，进而提高显示面板的开口率。另外，设置位于第一电极临近衬底一侧的第一金属层设置有至少两个辅助电极的电接触点，增加了用于传输阴极信号的结构所形成的电流通路，进一步降低了用于传输阴极信号的结构的电阻，提高了阴极信号传输的均匀性。

[0031] 以上是本发明的核心思想，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下，所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

[0032] 图1为本发明实施例提供的一种显示面板的俯视结构示意图，图2为本发明实施例提供的一种显示面板的剖面结构示意图。结合图1和图2，显示面板包括衬底1以及位于衬底1上的多个辅助电极2、像素定义层3以及第一电极41，这里仅示例性地示出了一个辅助电极
2，像素定义层3位于辅助电极2远离衬底1的一侧，第一电极41位于像素定义层3远离衬底1的一侧，即像素定义层3在形成辅助电极2后形成，第一电极41在像素定义层3形成后形成。

[0033] 显示面板包括多个用于发光的子像素结构4，像素定义层3设置有多个对应相邻子像素结构4之间的区域的开口5，辅助电极2对应开口5设置，即对应每个开口5位置设置有辅助电极2，开口5暴露出对应的辅助电极2，显示面板还包括多个导电结构6，导电结构6位于第一电极41与对应的辅助电极2之间，第一电极41通过对应的导电结构6与辅助电极2电连接，导电结构6至少覆盖对应的开口5的部分侧壁51，图1示例性地设置导电结构覆盖对应的开口5的部分侧壁。

[0034] 需要说明的是，图1和图2仅示例性地示出了子像素结构4的排布方式，本发明实施例对子像素结构4的具体排布方式不作限定，确保开口5设置于相邻子像素结构4之间的区域即可。另外，构成导电结构6的材料例如可以是ITO(氧化铟锡)和Ag(银)，本发明实施例对构成导电结构6的具体材料不做限定，确保导电结构6导电即可。

[0035] 具体地，结合图1和图2，第一电极41通过导电结构6与辅助电极2电连接，第一电极41例如可以是子像素结构4的阴极，辅助电极2以及导电结构6上均传输阴极信号，辅助电极
2以及导电结构6的设置增加了用于传输阴极信号的结构的横截面积，降低了用于传输阴极信号的结构的电阻，有利于提高阴极信号传输过程中的压降，提高阴极信号传输的均匀性，进而提高显示面板的显示均匀性。

[0036] 具体地，显示面板中各结构的形成过程为在衬底1上先形成辅助电极2，再形成像素定义层3，在制作子像素结构4时在开口5内会形成子像素结构4的发光功能层43，为了实现第一电极41与辅助电极2的电连接，需要采用激光打孔工艺去除开口5内的部分发光功能层43以暴露出辅助电极2，但是开口5位于相邻子像素结构4之间，目前的激光打孔技术的精度较差，在激光打孔的过程中，激光打孔形成的对应开口5的过孔可能会侵占子像素结构4的开口区40，使得子像素结构4，例如有机发光结构的寿命下降，显示面板的开口率下降。

[0037] 可以不设置导电结构6而使第一电极41直接与辅助电极2电连接，这样为了实现第一电极41与辅助电极2的准确电连接，对发光功能层43的激光打孔的偏移区域仅限定在开口5的底部52区域，即开口5暴露出辅助电极2的区域，这就对激光打孔的精度提出了较高的要求，在激光打孔的精度一定的情况下，激光打孔形成的对应开口5的过孔侵占子像素结构4的开口区40的概率较大。本提案通过设置新增的导电结构6至少覆盖对应的开口5的部分侧壁51，只需确保激光打孔形成的过孔能够露出至少部分导电结构6即可实现第一电极41与辅助电极2的电连接，使得激光打孔的偏移区域延伸至开口5的侧壁51区域，增加了激光打孔允许的偏移区域。

[0038] 例如可以假设激光打孔的偏移精度为40μm，采用第一电极41直接与辅助电极2电连接的方案需要确保开口5暴露出辅助电极2的区域，即开口5的底部52的直径至少为40μm，通过设置新增的导电结构6覆盖对应的开口5的部分侧壁51，可以设置导电结构6的覆盖直径为40μm，即开口5的底部52与被导电结构6覆盖的至少部分侧壁51的直径之和为40μm，使得开口5暴露出辅助电极2的区域的直径可以小于40μm，即针对同样的激光打孔精度，减小了实现第一电极41与辅助电极2电连接所需的开口5的面积，在降低了用于传输阴极信号的结构的电阻以提到显示面板显示均匀性的同时，有利于降低激光打孔形成的对应开口5的过孔侵占子像素结构4的开口区40的概率，减小对应相邻子像素结构4之间区域设置的开口5的面积，进而提高显示面板的开口率。

[0039] 另外，设置位于第一电极41临近衬底1一侧的第一金属层(图1和图2中未示出)设置有至少两个辅助电极2的电接触点，即所有的辅助电极2除了与第一电极41电连接，在非第一电极41所在膜层，即第一金属层还存在辅助电极2的电接触点，位于第一金属层的至少两个辅助电极2的电接触点增加了第一电极41与辅助电极2，即用于传输阴极信号的结构所形成的电流通路，进一步降低了用于传输阴极信号的结构的电阻，提高了阴极信号传输的均匀性，进而进一步提高了显示面板显示的均匀性。

[0040] 图3为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖面结构示意图。结合图1和图3，可以设置导电结构6延伸至对应的开口5外，即设置导电结构6覆盖对应开口5的底部52、侧壁51以及开口5外部的边缘区域53。具体地，结合图1和图3，设置导电结构6延伸至对应的开口
5外，只需确保激光打孔形成的过孔能够露出至少部分导电结构6即可实现第一电极41与辅助电极2的电连接，使得激光打孔的偏移区域延伸至开口5外，增加了激光打孔允许的偏移区域。

[0041] 例如可以假设激光打孔的偏移精度为40μm，采用第一电极41直接与辅助电极2电连接的方案需要确保开口5暴露出辅助电极2的区域，即开口5的底部直径至少为40μm，通过设置新增的导电结构6延伸至对应的开口5外，可以设置导电结构6的覆盖直径为40μm，即开口5的底部52、侧壁51以及开口5外被导电结构6覆盖的部分53的直径之和为40μm，如果侧壁51以及开口5外被导电结构6覆盖的部分53的直径之和为20μm，则使得开口5暴露出辅助电极2的区域的直径减小至20μm，针对同样的激光打孔精度，进一步减小了实现第一电极41与辅助电极2电连接所需的开口5的面积，在降低了用于传输阴极信号的结构的电阻以提到显示面板显示均匀性的同时，进一步降低了激光打孔形成的对应开口5的过孔侵占子像素结构4的开口区40的概率，减小了对应相邻子像素结构4之间区域设置的开口5的面积，进而进一步提高了显示面板的开口率。

[0042] 可选地，结合图1至图3，子像素结构4包括位于第一电极41临近衬底1一侧的第二电极42，第一电极41与第二电极42之间设置有发光功能层43，设置发光功能层43至少暴露出导电结构6。

[0043] 具体地，结合图1至图3，子像素结构4包括位于第一电极41临近衬底1一侧的第二电极42，发光功能层43位于第一电极41与第二电极42之间，发光功能层43可以包括发光材料层，发光功能层43还可以包括空穴注入层、空穴传输层、电子传输层和电子注入层中的至少一种，第一电极41与第二电极42之间的压差使得第二电极42提供的空穴经过空穴注入层和空穴传输层达到发光材料层，第一电极41提供的电子经过电子注入层和电子传输层达到发光材料层，电子和空穴两种载流子在发光材料层发生复合，发光材料层中的激子由激发态迁移到基态发光，子像素结构4发光，显示面板实现显示功能。

[0044] 结合图1至图3，显示面板中各结构的形成过程为先形成辅助电极2，再形成像素定义层3，在制作子像素结构4的发光功能层43时会在开口5内形成发光功能层43，为了实现第一电极41与辅助电极2的电连接，需要采用激光打孔工艺去除开口5内的部分发光功能层43以暴露出辅助电极2，设置发光功能层43至少暴露出导电结构6，给激光打孔留出最大的偏移量，即只需确保激光打孔形成的过孔能够露出至少部分导电结构6即可实现第一电极41与辅助电极2的电连接，使得激光打孔的偏移区域为整个导电结构6所在区域，增加了激光打孔允许的偏移区域，进一步减小了实现第一电极41与辅助电极2电连接所需的开口5的面积，在降低了用于传输阴极信号的结构的电阻以提到显示面板显示均匀性的同时，进一步降低了激光打孔形成的对应开口5的过孔侵占子像素结构4的开口区40的概率，减小了对应相邻子像素结构4之间区域设置的开口5的面积，进而进一步提高了显示面板的开口率。

[0045] 可选地，结合图1至图3，子像素结构4包括位于第一电极41临近衬底1一侧的第二电极42，第一电极41与第二电极42之间设置有发光功能层43，可以设置辅助电极2与第二电极42同层设置。

[0046] 具体地，结合图1和图3，可以在衬底1上形成第二电极层，对第二电极层进行刻蚀，对应子像素结构4所在区域形成第二电极42，对应相邻子像素结构4之间的区域形成辅助电极2，以简化显示面板制程，另外，需确保同层设置的第二电极42与辅助电极2绝缘，避免子像素结构4的第一电极41与第二电极42短路，影响显示面板的正常显示。

[0047] 图4为本发明实施例提供的一种辅助电极的俯视结构示意图。结合图1至图4，可以设置辅助电极2设置于第一金属层7，即在辅助电极2自身所在膜层，至少两个辅助电极2存在电接触点，图4示例性地设置辅助电极2形成网格状结构，即设置每两个辅助电极2在辅助电极2自身所在膜层，即第一金属层7均存在电接触点，可以利用相邻子像素结构4之间的区域，在辅助电极2所在膜层，绕开子像素结构4的第二电极42所在位置进行走线，以使辅助电极2形成网格状结构，这样使得辅助电极2形成具备多条电流通路的网格状结构，极大地增加了用于传输阴极信号的结构所形成的电流通路，进一步降低了用于传输阴极信号的结构的电阻，提高了阴极信号传输的均匀性。

[0048] 图5为本发明实施例提供的另一种显示面板的剖面结构示意图。结合图1至图3以及图5，可以设置第一金属层7位于辅助电极2远离第一电极41的一侧。具体地，可以设置第一金属层7与辅助电极2之间设置有平坦化层70，第一金属层7设置有至少两个辅助电极2的电接触点，则可以将一个辅助电极21通过贯穿平坦化层70的过孔连接至位于第一金属层7的金属结构71，将另一个辅助电极22通过贯穿平坦化层70的过孔连接至位于第一金属层7的金属结构72，设置金属结构71与金属结构72在第一金属层7电连接，即在第一金属层7形成辅助电极21与辅助电极22的电接触点，进而增加用于传输阴极信号的结构所形成的电流通路，以进一步降低用于传输阴极信号的结构的电阻，提高阴极信号传输的均匀性，另外，金属结构71和金属结构72的设置也进一步增加了用于传输阴极信号的结构的横截面积，降低了用于传输阴极信号的结构的电阻，进一步提高了阴极信号传输的均匀性，进而提高显示面板的显示均匀性。

[0049] 示例性地，可以设置第一金属层7设置有第一电源信号线或者数据信号线，第一电源信号线用于向各个子像素结构4提供正压的第一电源信号，该第一电源信号可以到达有机发光结构的阳极，数据信号线用于向各个子像素结构4提供数据信号，各个子像素结构4根据接收到数据信号调节自身的发光亮度，可以在第一电源信号线所在膜层或者数据信号线所在膜层形成至少两个辅助电极2的电接触点，即设置金属结构71和金属结构72与第一电源信号线同层制作或者与数据信号线同层制作，在简化显示面板制程的同时，增加用于传输阴极信号的结构所形成的电流通路，以及进一步增加用于传输阴极信号的结构的横截面积，且构成第一电源信号线以及数据信号线的材料的电阻较小，进而降低用于传输阴极信号的结构的电阻，提高阴极信号传输的均匀性。

[0050] 需要说明的是，本发明实施例对与辅助电极2电连接的金属结构71和金属结构72的形状不作具体限定，对位于辅助电极2远离第一电极41一侧的第一金属层7中的辅助电极2的电接触点所在位置不作具体限定，与辅助电极2电连接的位于第一金属层7的金属结构以及辅助电极2的电接触点可以利用第一金属层7中未布线区域进行走线，确保与辅助电极
2电连接的位于第一金属层7的金属结构以及辅助电极2的电接触点与第一金属层7的传输其它信号的结构电绝缘即可。

[0051] 可选地，也可以设置第一金属层设置有第一金属结构，图6为本发明实施例提供的一种第一金属结构的俯视结构示意图，结合图1至图3以及图5和图6，第一金属结构8可以为网格状结构，第一金属结构8与辅助电极2通过贯穿平坦化层70的过孔电连接，这里的第一金属层7可以为新增的金属层，第一金属层7同样位于辅助电极2远离第一电极41的一侧，利用网格状的第一金属结构8增加了用于传输阴极信号的结构所形成的电流通路，以进一步降低用于传输阴极信号的结构的电阻，提高阴极信号传输的均匀性，另外，第一金属结构8的设置也进一步增加了用于传输阴极信号的结构的横截面积，降低了用于传输阴极信号的结构的电阻，进一步提高了阴极信号传输的均匀性，进而提高显示面板的显示均匀性。

[0052] 需要说明的是，本发明实施例对第一金属结构8形成的网格状结构的具体形状不作限定，不限于图6所示的网格状结构，确保第一金属结构8为具有多个连接点的网格状结构即可。

[0053] 需要说明的是，本发明实施例示附图只是示例性的表示各元件的大小，并不代表显示面板中各元件的实际尺寸。

[0054] 本发明实施例还提供了一种显示装置，图7为本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图。如图7所示，显示装置20包括上述实施例的显示面板19，因此本发明实施例提供的显示装置20也具备上述实施例中所描述的有益效果，此处不再赘述。示例性地，显示装置20可以是手机，或者可以是电脑或可穿戴设备等电子设备，本发明实施例对显示装置的具体形式不作限定。

[0055] 注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。