致动光刻设备的致动单元的控制装置、具有控制装置的光刻设备及操作控制装置的方法

摘要

本发明涉及一种控制装置(10)，用于致动致动器单元(11)以设定光刻设备(100A、100B)的光学元件(20)的位置(P)，所述控制装置具有：放大器单元(30)，通过电压信号(41)和PWM信号(42)提供致动器单元(11)的控制信号(40)，其中PWM信号(42)具有占空比(43)和时钟频率(51)；以及调制器单元(50)，设计为提供具有占空比(43)和来自多个限定的时钟频率(52)的限定的时钟频率(51)的PWM信号(42)，其中多个限定的时钟频率(52)中的限定的时钟频率(51)是基本时钟频率(f0)的整数倍，其中基本时钟频率(f0)是在10kHz-1MHz的范围中并且整数倍限定为乘以因子n。

权利要求

1.一种控制装置(10)，致动致动器单元(11)，该致动器单元设定光刻设备(100A、100B)的光学元件(20)的位置(P)，所述控制装置包括：放大器单元(30)，通过电压信号(41)和PWM信号(42)提供所述致动器单元(11)的控制信号(40)，其中所述PWM信号(42)具有占空比(43)和时钟频率(51)，以及调制器单元(50)，配置为将来自多个限定的时钟频率(52)中的限定的时钟频率(51)提供给具有所述占空比(43)的PWM信号(42)，其中所述多个限定的时钟频率(52)中的相应的限定的时钟频率(51)是基本时钟频率(f0)的整数倍，其中所述基本时钟频率(f0)是在10kHz-1MHz的范围中并且所述整数倍限定为乘以因子n。

2.根据权利要求1所述的控制装置，其中，所述放大器单元(30)配置为，使用具有来自所述多个限定的时钟频率(52)中的第一限定的时钟频率(51)的第一PWM信号(42)在第一时间区间中，并且在没有中断的情况下使用具有来自所述多个限定的时钟频率(52)中的第二限定的时钟频率(51)的第二PWM信号(42)在直接接着所述第一时间区间的第二时间区间中，提供所述致动器单元(11)的控制信号(40)。

3.根据权利要求1或2所述的控制装置，其中，所述调制器单元(50)配置为，取决于所述光学元件(20)的要设定的位置(P)来提供具有当前占空比(43)的PWM信号(42)，并且取决于所述当前占空比(43)从所述多个限定的时钟频率(52)中选择所述PWM信号(42)的限定的时钟频率(51)。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的控制装置，其中，提供分配单元(60)，所述分配单元(60)配置为将来自所述多个限定的时钟频率(52)中的限定的时钟频率(51)分配给对于所述PWM信号(42)为可设定的占空比(43)中的每一个。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的控制装置，其中，提供分配单元(60)，所述分配单元(60)配置为将对于所述PWM信号(42)为可设定的占空比(43)细分成多个区间(I1-I7)，并且配置为将来自所述多个限定的时钟频率(52)中的限定的时钟频率(51)分配给每个区间(I1-I7)。

6.根据权利要求4或5所述的控制装置，其中，所述调制器单元(50)配置为，取决于所述光学元件(20)的要设定的位置(P)来确定限定的占空比(43)、确定在所述分配单元(60)中分配给所述确定的占空比(43)的限定的时钟频率(51)、以及提供具有所述确定的占空比(43)和所述确定的限定的时钟频率(51)的PWM信号(42)。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的控制装置，其中，生成不同时钟频率f1、f2、...、fk的因子n1、n2、...、nk形成了不中断的自然数序列并且n1＝1，其中fk＝f0·nk。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的控制装置，其中，所述基本时钟频率(f0)是从系统时钟频率(fs)推导出的时钟频率。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的控制装置，其中，取决于所述控制装置(10)的功率损耗、电流信号和/或电压信号、以及/或者所述光刻设备(100A、100B)的系统参数，将限定的时钟频率(51)分配给所述占空比(43)中的相应的一个。

10.根据权利要求1至9中任一项所述的控制装置，其中，取决于至少一个系统参数，限定所述多个限定的时钟频率(52)中的每一个限定的时钟频率(51)。

11.根据权利要求1至10中任一项所述的控制装置，其中，

对于每个占空比(43)，所述放大器单元(13)的功率损耗小于用于与所述基本时钟频率(f0)相比较较高的时钟频率(51)的放大器单元(30)的最大功率损耗的60％，并且对于每个占空比(43)，到所述放大器单元(30)的供电线(31)中的叠加的交流电流的振幅以及所述放大器单元(30)的输出(32)处的叠加的交流电压的振幅各小于所述基本时钟频率(f0)的叠加的交流电流和叠加的交流电压的最大振幅的25％。

12.根据权利要求1至11中任一项所述的控制装置，其中，所述控制装置(10)实施为开关放大器(10)。

13.一种光刻设备(100A、100B)，包括如权利要求1至12中任一项所述的控制装置(10)。

14.一种操作具有至少一个光学元件(20)的光刻设备(100A、100B)的控制装置(10)的方法，所述至少一个光学元件(20)的位置通过分配给所述光学元件(20)的致动器单元(11)是可设定的，其中所述控制装置(10)配置为致动所述致动单元(11)，所述方法包括：取决于所述光学元件(20)的要设定的位置(P)，确定(S1)PWM信号(42)的占空比(43)，取决于确定的占空比(42)，从多个限定的时钟频率(52)中确定(S2)限定的时钟频率(51)，其中所述多个限定的时钟频率(52)中相应的限定的时钟频率(51)是基本时钟频率(f0)的整数倍，其中所述基本时钟频率(f0)在10kHz-1MHz的范围中并且所述整数倍限定为乘以因子n，提供(S3)具有确定的占空比(43)和确定的时钟频率(51)的PWM信号(42)，以及以电压信号(41)来放大(S4)所述PWM信号(42)，用于提供设定所述光学元件(20)的位置(P)的控制信号(40)。

说明书

致动光刻设备的致动单元的控制装置、具有控制装置的光刻

设备及操作控制装置的方法

[0001] 本发明涉及致动光刻设备的致动单元的控制装置，涉及包括这样的控制装置的光刻设备，并且涉及操作这样的控制装置的方法。

[0002] 通过引用将优先权申请DE 10 2016 226 082.0的全部内容并入本文。

[0003] 作为示例，光刻设备用于制造集成电路或IC，以将掩模中的掩模图案成像到诸如硅晶片的基板上。这样做，由光学系统产生的光束穿过掩模被指引到基板上。

[0004] 在这种情况下，可表示的特征尺寸很大程度上取决于所使用的光波长。为了取得特别小的结构，使用特别短波长的辐射是可期望的。EUV光刻设备使用具有在5nm到30nm范围中(特别是13.5nm)的波长的光。“EUV”表示“极紫外”。在这样的光刻设备的情况中，由于该波长的光被大多数材料高度吸收，不得不使用反射光学单元，也就是说反射镜，以代替折射光学单元，也就是说透镜元件。此外，成像光学单元位于其中的外壳必须被抽真空，因为甚至气体的存在可能导致很大的辐射吸收。

[0005] 随着寻求越小的特征尺寸，成像光学单元的分辨率应该越好。在这种情况下，存在许多可能损坏分辨率的可变影响，例如影响光学元件的光学性质的振荡、振动和/或热效应。可以通过适当的措施至少部分地补偿这样的可变影响。例如，波前操纵器是已知的，其可以通过光学元件的有目标的位移来校正成像像差。特别是通过分配到相应光学元件的致动器来实现位移。

[0006] 为了在光刻设备中致动光学元件，优选地使用开关放大器，因为后者与线性放大器相比具有较低的功率损耗，例如开关放大器总体上提供对系统设计(特别是对于所供应的电源和要耗散的热)的积极影响。开关放大器是从两个输入信号生成输出信号(例如致动器的控制电压)的电子部件。输入信号例如是PWM信号(PWM：脉宽调制)和恒定电压信号。PWM信号是具有每个周期两个电平的分段式周期信号(例如开/关、-0.5/+0.5或0/1)，该信号具有占空比。占空比的值对应于第一电平的持续时间与总周期的持续时间的关系。总周期的倒数被称为PWM信号的时钟频率。输出信号近似地对应于恒定电压信号和PWM信号的乘积。这样的矩形输出信号具有时间上的平均值，其以PWM信号的占空比近似线性地缩放。如果该输出信号用作致动器的控制信号，它的频率带宽小于PWM信号的时钟频率，则致动器表现得好像由与开关放大器的矩形输出信号的平均值对应的DC电压信号来致动。因此可以通过改变占空比来获得输出信号的不同平均值。

[0007] 然而，开关放大器在受其架构支配的方式下具有各种缺点。它们包含例如供电线中的纹波电流、输出处的纹波电压、取决于时钟频率和占空比的功率损耗、可设定占空比的有限带宽、以及可能时钟频率的有限带宽。纹波电流还被称为电流的纹波。纹波电流还可能在开关放大器内发生，这同样可能对操作产生不利影响。

[0008] 针对上述背景，本发明的目的是提供致动光刻设备中的致动器的控制装置。

[0009] 因此，提出了致动用于设定光刻设备的光学元件的位置的致动器单元的控制装置。控制装置包括放大器单元，以通过电压信号和PWM信号为致动器单元提供控制信号。PWM信号具有占空比和时钟频率。此外，控制装置包括调制器单元，其配置为将来自多个限定的时钟频率中的限定的时钟频率提供给具有占空比的PWM信号。

[0010] 这样的控制装置具有每个占空比能够配备有限定的时钟频率的优点，其中限定的时钟频率选自规定的多个时钟频率。如果由于不同需求而所有占空比的单一时钟频率是未达最优的，则因此可以实现占空比和时钟频率的有利组合。作为示例，给定的占空比的放大器单元的功率损耗对于不同时钟频率可以是不同的。具有有利功率损耗的最佳的时钟频率然后可以选自多个时钟频率。此外，因为有限数量的预先确定的限定的时钟频率是可用的，可以良好地预测这样的控制装置的行为并且可以监控与光刻设备的其他电子部件可能的交叉影响。

[0011] 控制装置优选地实施为电子电路，例如为集成电路。在这种情况下，控制装置具有各种模拟和/或数字部件和/或组装件。作为示例，控制装置具有电容器、线圈、电源、特别是MOSFET(金属氧化物半导体场效应晶体管)的晶体管、二极管和/或该类的其他部件。在本文中，控制装置可以被称为开关放大器。

[0012] 致动器单元例如是电子机械致动器，例如特别是洛伦兹致动器、电感式致动器和/或电容式致动器。致动器单元例如布置在光刻设备的光学元件处。借助于致动器单元用控制信号来致动的事实，分配到致动器单元的光学元件的位置因此是可变的。例如，控制信号可以是DC电压信号。取决于DC电压信号的电平，致动器单元改变位置。通过放大的PWM信号来生成DC电压信号，因为与PWM的时钟频率相比致动器单元是迟缓的。

[0013] 光刻设备的光学元件特别是透镜元件和/或反射镜。通过光学元件相对于例如像平面和/或场平面的相对位移，和/或光学元件相对于其他光学元件的相对位移，可以调适光刻设备的曝光光束的不同束性质。作为示例，曝光光束的波前可以更改，并且因此可以校正像差。

[0014] 放大器单元例如具有两个信号输入和一个信号输出。放大的输入信号在信号输出处配备为输出信号。输出信号对应于致动器单元的控制信号。作为示例，一个信号输入由具有恒定电压值的DC电压占据，并且其他信号输入由要放大的输入信号所占据。DC电压还可以被称为供电电压或操作电压。放大器单元例如通过输入信号乘以DC电压来提供输出信号。也可以说，放大器单元通过形成两个输入信号的乘积来提供输出信号。在本情况中，提供还可以被称为生成和/或产生。

[0015] 输入信号特别是PWM信号(PWM：脉宽调制)。PWM指示了使用具有恰好两个电平的信号以提供具有在两个电平之间的平均值的信号的可能性。作为示例，它们是电平0和1。然后可以通过PWM来表示具有在0至1范围中的平均值的任何信号。其他值也是可能的。例如，如果两个电平是-10V和+10V，则可以通过PWM来表示平均值在-10V至+10V范围中的信号。PWM信号的平均值可以根据等式1来近似地计算：

[0016] P1·τ+P2·(1-τ)＝Pm  (等式1)

[0017] 在这种情况下，P1表示第一电平，P2表示第二电平，Pm表示平均值并且τ表示占空比。在PWM的情况下，这可以由与规定的时钟频率适配的单独脉冲的脉冲持续时间来实现。术语脉冲表示在具有电平值1的信号下的那些时间区间。对于1Hz的时钟频率，因此可以通过生成具有0.5s的持续时间的脉冲来获得0.5的占空比。也就是说，信号具有0.5s的电平1和另一个0.5s的电平0。如果具有该占空比的PWM信号旨在于存在10s，则将会生成总共十个这样的具有0.5s持续时间和0.5s的时间分离的脉冲。规定的占空比可以用不同的时钟频率来实现。时钟频率特别是指示了在什么时间序列中生成单独脉冲。时钟频率的倒数是周期持续时间。如果例如在上文所提及示例中的时钟频率是100Hz，则周期持续时间是1/100s。
为了获得占空比0.5，则脉冲持续时间应该被设定为1/200s。如果信号的时钟频率和脉冲持续时间是已知的，则可以从脉冲持续时间与周期持续时间的比率来确定信号的占空比。在所提及的示例中，占空比因此将是(1/200)/(1/100)＝0.5。

[0018] 时钟频率限制了时间分辨率，在该分辨率下PWM信号的占空比是可变的。对于1Hz的时钟频率，可以为通过调适脉冲持续时间来在各个情况下针对1s创建占空比。对于100Hz的时钟频率，可以为每1/100s来创建占空比。

[0019] 通过PWM信号和恒定电压信号由放大器单元所提供的控制信号具有特别是与PWM信号相同的信号波形，其中电平对应于PWM信号电平和恒定电压信号的乘积。因此，控制信号还可以被认为是PWM信号。

[0020] 有利地使用从若干kHz到MHz的时钟频率。这特别是还确保了，致动器单元“看到”控制信号的平均值。这意味着致动器单元自身对于低通过滤的PWM信号作出反应。这是由于致动器单元的惯性，例如其不能以这样的高频率跟随移动。致动器单元配置为例如带来光学元件在一个方向上从零位置位移了多达一个厘米。作为示例，从零位置偏转的振幅与控制信号的电平线性相关。在这种情况下，针对与DC电压信号的值对应的最高电平，实现最大振幅和最大偏转。为了将光学元件从零位置例如偏转了0.4cm，需要具有对应于0.4倍的最大电平的电平的控制信号。这特别是通过具有占空比0.4的PWM信号来实现，其用DC电压信号来放大。

[0021] 调制器单元配置为提供具有占空比的PWM信号。在这种情况下，调制器单元有利地配置为以限定的时钟频率生成占空比，其中限定的时钟频率选自多个不同限定的时钟频率。

[0022] 作为示例，需要0.4的占空比。调制器单元然后配置为以例如10kHz的时钟频率来生成该占空比。那么，周期持续时间是100μs。电平1输出达40μs，并且电平0输出达另外的60μs。替代地，调制器单元还可以以1MHz的时钟频率生成占空比，其中周期持续时间为1μs。为此，然后电平1输出达0.4μs，并且电平0输出达0.6μs。为了取得与在上一个情况下相同的信号长度，这被重复100次。

[0023] 取决于专用边界条件，以第一时钟频率生成第一占空比和以第二时钟频率生成第二占空比可以是有利的。作为示例，开关放大器的功率损耗相对于与平均占空比相比较高的和/或低的占空比针对给定的时钟频率很大程度上升高。该升高对于低时钟频率是更小的，为此相对于功率损耗优选较低时钟频率。然而，这样的开关放大器可能在其输出处具有纹波电压，例如该电压的振幅对于平均占空比和低时钟频率是非常高的，这可能对致动器单元具有不利影响。纹波电压是在DC电压信号上叠加的AC电压。同样可能存在构成在对应于DC电压信号的电流信号上叠加的AC电流信号的纹波电流。这样的纹波电流和/或纹波电压还可以被称为对应信号的纹波。此外，这样的纹波还可能发生在开关放大器自身中。如果以常规方式用单个时钟频率操作开关放大器，则在效率方面的损耗或在信号质量方面的损耗不可避免地出现。这样的问题根据本发明通过如下来解决：使用来自多个限定的时钟频率的用于占空比的一个限定的时钟频率以生成PWM信号。

[0024] 与常规德尔塔-西格玛(delta-sigma)调制相比，根据本发明生成的PWM信号在任何时候具有良好限定的时钟频率。特别地，提供有限数目的离散的时钟频率。这尤其具有以下优点，可以检验限定的时钟频率中的每一个与光刻设备的其他电气部件的兼容性。因此可以确保排除不同部件的交叉影响和/或干扰。作为示例，某一时钟频率和/或时钟频率的区间导致电磁场的谐振和/或发射是可能的。有利地，多个限定的时钟频率中，没有一个限定的时钟频率源自这样的区间。

[0025] 根据控制装置的一个实施例，放大器单元配置为，使用具有来自多个限定的时钟频率中的第一限定的时钟频率的第一PWM信号在第一时间区间中，以及在没有中断的情况下使用具有来自多个限定的时钟频率中的第二限定的时钟频率的第二PWM信号在直接接着第一时间区间的第二时间区间中，提供致动器单元的控制信号。

[0026] 该实施例特别是具有如下优点：在控制信号在PWM信号正在改变的事件中没有中断的情况下，控制器信号可以在任何时候配备有针对对应的操作情况优化的PWM信号，例如以便以改变的时钟频率生成新的占空比。也就是说，适应性地调适PWM信号以提供控制信号。

[0027] 第一PWM信号和第二PWM信号特别是具有不同的限定时钟频率。此外，它们的区别还可以为它们的占空比。

[0028] 在该情况下，不中断地提供被认为是，在第一时间区间的任意时间点以及在第二时间区间的任意时间点，在致动器处控制信号是可用的。特别是，这排除了例如调制器单元和/或放大器单元被暂时关闭或信号连接被暂时中断，以便提供新的控制信号。

[0029] 根据控制装置的其他实施例，调制器单元配置为取决于光学元件的要设定的位置来提供具有目前占空比的PWM信号。此外，调制器单元配置为取决于目前的占空比从多个限定的时钟频率中选择PWM信号的限定的时钟频率。

[0030] 占空比实质上由光学元件的要设定的位置来限定。要设定的位置可以例如通过用户输入、通过计算机辅助的序列和/或控制回路来获取。可以从要设定的位置中得出特别是所需要的占空比，以将致动器单元与位置对准。有利地，调制器单元配置为根据目前占空比选择限定的时钟频率，以提供来自多个限定的占空比的目前占空比。这可以例如通过限定的时钟频率到可设定的占空比的规定分配来完成。

[0031] 作为示例，请求位置要以0.5的占空比来设定。调制器单元然后例如选择与其他限定的时钟频率相比较为高时钟频率的限定的时钟频率，因为可以由此同时保持低的例如纹波电流、纹波电压和功率损耗。如果随后请求位置要以0.9的占空比来设定，则出于设定该占空比的目的，调制器单元例如选择与其他限定的时钟频率相比较为低时钟频率的限定的时钟频率，因为如前所述可以由此保持低的例如纹波电流、纹波电压和功率损耗。对于每个占空比，这具有优于恒定的时钟频率的优点：可以同时优化纹波电流、纹波电压、功率损耗和/或其他系统参数。

[0032] 根据控制装置的其他实施例，多个限定的时钟频率包括至多十个不同的限定的时钟频率。

[0033] 更多数目的限定的时钟频率当然是可能的。然而，随着限定的时钟频率的数目增多，实现方式的费用增加并且来自限定的时钟频率的更多样化的优点减少。在有利的实施例中，还可以提供仅三个限定的时钟频率或五个限定的时钟频率。

[0034] 根据控制装置的其他实施例，提供分配单元，分配单元配置为将来自多个限定的时钟频率中的限定的时钟频率分配到对于PWM信号为可设定的占空比中的每一个。

[0035] 该实施例具有以下优点：可以独立于调制器单元的实现方式来实行将限定的时钟频率分配给可设定的占空比。分配可以通过表格来实行，例如在该表格中限定的时钟频率被分配给每个占空比。为此，例如，分配单元可以成本效益高地实施为储存单元。替代地，通过分配单元的分配还可以通过优化方法来实现，例如取决于诸如电压电平、温度、操作时间、用户输入的各种输入参数和/或系统参数。为此，分配单元实现为例如FPGA(现场可编程门阵列)、CPU(中央处理单元)、PLC(可编程逻辑控制器)、CMOS电路(互补金属氧化物半导体)。

[0036] 根据控制装置的其他实施例，提供分配单元，该分配单元配置为将对于PWM信号为可设定的占空比细分成多个区间，并且将来自多个限定的时钟频率中的限定的时钟频率分配给每个区间。

[0037] 划分为区间的优点在于：如果例如要设定的占空比恰好以定义值位于两个占空比之间，则可能没有任何问题。这可以导致未定义的状态，并且因此导致问题。此外，可以因此在分配单元中节省存储器空间。

[0038] 例如，可以规定到区间的划分。例如，可以设置的是，将占空比区间[0；1]划分成三个区间：[0；0.3]、[0.3；0.7]、[0.7；1]。替代地，可以取决于诸如电压电平、温度、操作时间、用户输入的各种输入参数和/或系统参数来实行到区间的划分。在这种情况下，区间的数目和区间极限二者是可变的。

[0039] 根据控制装置的其他实施例，调制器单元配置为，取决于光学元件的要设定的位置来确定限定的占空比、确定在分配单元中分配给确定的占空比的限定的时钟频率、以及提供具有确定的占空比和确定的限定的时钟频率的PWM信号。

[0040] 该实施例确保了在最佳的时钟频率的情况下通过占空比来设定要设定的每个位置。

[0041] 作为示例，调制器单元具有信号输入，以接收对应于要设定的位置的位置信号。调制器单元采样位置信号并且因此确定要设定的占空比。调制器单元随后从分配单元撷取时钟频率，旨在于以该时钟频率生成确定的占空比。撷取还可以被描述为提供，其中调制器单元首先向分配单元提供要设定的占空比，并且基于此，分配单元向调制器单元提供分配给占空比的时钟频率。

[0042] 特别地，可以在单个部件中提供调制器单元和分配单元。

[0043] 根据控制装置的其他实施例，多个限定的时钟频率中的每一个相应的限定的时钟频率是基本时钟频率的整数倍，其中基本时钟频率是在10kHz-1MHz的范围中并且所述整数倍限定为乘以因子n。

[0044] 该实施例有利地使得只需要一个时钟发生器来生成限定的时钟频率成为可能，其中其他时钟频率可从基本时钟频率推导出。这简化了实现方式，因为所需的部件的个数比在专用时钟发生器用于每个限定的时钟频率时的部件个数更少。

[0045] 基本时钟频率可以等于由时钟发生器生成的时钟频率，但是还可以与其偏离。

[0046] 基本时钟频率的整数倍的使用使得可以采用谐振效应来选择基本时钟频率，其不与其他系统部件相互作用，并且因此避免干扰的可能性。作为示例，驻波形成在表示整数倍基数的谐波的情况下。选择基本时钟频率使得它不产生谐振，同时因此确保了其他限定的时钟频率就此而言也是没有问题的。

[0047] 与例如有理分数倍的时钟频率相比，技术上更易于生成整数倍时钟频率。

[0048] 根据其他实施例，基于乘以有理分数因子的基本时钟频率来生成限定的时钟频率中的每一个。

[0049] 根据控制装置的其他实施例，生成不同时钟频率f1、f2、...、fk的因子n1、n2、...、nk形成了不中断的自然数序列并且n1＝1，其中fk＝f0·nk。

[0050] 这使得可以生成限定的时钟频率的离散频谱，其中时钟频率通过求和也是可生成的。

[0051] 无中断的序列例如是{1，2，3，4，5，6}。考虑到基本时钟频率为f0＝100kHz，多个限定的时钟频率因此是{100，200，300，400，500，600}kHz。

[0052] 根据控制装置的其他实施例，基本时钟频率是从系统时钟频率推导出的时钟频率。

[0053] 该实施例有利地使得可以使用在系统中已经存在的时钟频率以生成限定的时钟频率，诸如系统时钟频率和/或系统时钟。这因为需要较少的部件而简化了实现方式，并且同时确保了各单独的系统部件以同步的方式来控制。

[0054] 根据控制装置的其他实施例，取决于控制装置的功率损耗、电流信号和/或电压信号、以及/或者光刻设备的系统参数，将限定的时钟频率分配给占空比中的相应的一个。

[0055] 该实施例使得可以为每个系统状态和每个占空比分配最佳时钟频率。在这种情况下，系统状态涵盖了描述控制装置的状态和/或光刻设备的状态的所有变量参数。特别地，这些包含功率损耗、电流信号、电压信号、温度和/或用户输入。

[0056] 根据控制装置的其他实施例，取决于至少一个系统参数来限定多个限定的时钟频率中的每个限定的时钟频率。

[0057] 该实施例使得可以为每个系统状态和每个占空比分配最佳时钟频率。在这种情况下，系统状态涵盖了描述控制装置的状态和/或光刻设备的状态的所有变量参数。特别地，这些包含功率损耗、电流信号、电压信号、温度和/或用户输入。

[0058] 根据控制装置的其他实施例，调制器单元实施为数字电路。

[0059] 根据控制装置的其他实施例，致动器单元实施为机电致动器、电感式致动器和/或电容式致动器。

[0060] 洛伦兹致动器是电感式致动器的一个示例。在这种情况下，由电磁体动态地产生磁场，所述磁场与永磁体的磁场相互作用并且因此产生吸引力或排斥力。压电致动器是电容式致动器的一个示例。在这种情况下，通过压电效应的方式通过施加电压来产生力，该力可以是吸引力或排斥力。机电致动器包括例如可以驱动传动主轴的电动机。

[0061] 根据控制装置的其他实施例，对于每个占空比，放大器单元的功率损耗小于用于与基本时钟频率相比较较高的时钟频率的放大器单元的最大功率损耗的60％。此外，对于每个占空比，在到放大器单元的供电线中的叠加的AC电流的振幅以及放大器单元的输出处的叠加的AC电压的振幅各小于基本时钟频率的叠加的AC电流和叠加的AC电压的最大振幅的25％。

[0062] 根据控制装置的其他实施例，控制装置实施为开关放大器。

[0063] 特别地，如上所描述的控制装置的实施例具有以下的优点。在到放大器单元的供电线中和在放大器单元自身中的最大发生的纹波电流被限制，这特别对于例如在0.25和0.75之间的中间的占空比具有积极影响。这特别是促进了在多个控制装置之间的低交叉影响。此外，需要较少量块电容器和/或较小几何尺寸的块电容器以提供放大的DC电压。在控制装置的输出处以及还在致动器单元处的最大发生的纹波电压同样受到限制。这特别是促进了系统的低电磁发射、在光刻设备中的不同致动器单元之间的低交叉影响、以及光刻设备的其他传感器的低交叉影响。

[0064] 此外，控制装置的功率损耗以及因此的废热被限制。这导致控制装置的寿命增加和到光刻设备中的较低热输入，这允许了需要更简单地制成的冷却装置。此外，可以建立非常大范围的占空比，同时保持最小脉冲宽度。这特别允许了最佳利用供电电压以及放大器单元的高功率效率(低功率损耗和废热)。

[0065] 此外，通过使用在窄的频率范围中的离散个数的限定的时钟频率，可以使用具有上限带宽的放大器单元，但是因此还有高的可能的供电电压。此外，可以避免光刻设备的例如在限定的频率范围中操作的其他电子部件的交叉影响。还可以用简化的方式生成限定的时钟频率，因为它们可以以简单的方式从现存的系统时钟中推导出。

[0066] 对应单元(例如调制器单元或分配单元)可以通过硬件技术和/或软件技术来实现。在硬件技术方面的实现方式的情况下，对应单元可以实施为装置或装置的部分，例如作为计算机或作为微处理器。在软件技术方面的实现方式的情况下，对应单元可以实施为计算机程序产品、函数、例程、程序代码的部分或可执行对象。

[0067] 根据第二方面，提出了光刻设备，其包括致动用于设定光刻设备的光学元件的位置的致动器单元的控制装置。控制装置特别是对应于第一方面的实施例中的一个。

[0068] 特别地，由于如关于第一方面已经提到的这样的控制装置的优点，这样的光刻设备可以更加简单地构造并且实现改善的成像性能，例如改善的分辨率。

[0069] 光刻设备的控制装置特别是对应于第一方面的控制装置的实施例中的一个。

[0070] 根据第三方面，提出了操作光刻设备的控制装置的方法。光刻设备包括至少一个光学元件，其位置是通过分配给光学元件的致动器单元可设定的，其中控制装置配置为致动致动单元。该方法包括至少如下的步骤：取决于光学元件要设定的位置来确定PWM信号的占空比；取决于确定的占空比，从多个限定的时钟频率确定限定的时钟频率；提供具有确定的占空比和确定的时钟频率的PWM信号；以及用电压信号放大PWM信号以提供设定光学元件的位置的控制信号。

[0071] 该方法使得可以实现特别是在包括根据第一方面的控制装置的根据第二方面的光刻设备的情况下在上文所概述的优点。

[0072] 此外，提出计算机程序产品，所述计算机程序产品引起如上文所解释的方法在程序控制装置上实行。

[0073] 计算机程序产品，例如计算机程序装置，可以提供或供应为例如存储介质，如存储卡、USB记忆棒、CD-ROM、DVD或可从网络中的服务器下载的文件的形式。举例而言，在无线的通信网络的情况下，这可以通过含有计算机程序产品或计算机程序装置的合适的文件的传输来实现。

[0074] 对于提出的控制装置所描述的实施例和特征对应地可适用于提出的方法。

[0075] 本发明其他可能的实现方式还包括关于示例性实施例在上文或下文描述的特征或实施例的没有明确提到的组合。在这种情况下，本领域技术人员还将增加各个方面，作为对本发明的相应的基本形式的改进或补充。

[0076] 本发明的其他有利的配置和方面是从属权利要求的主题，并且也是在下文中描述的本发明示例性实施例的主题。下文参考所附附图基于优选实施例更详细地解释本发明。

[0077] 图1a示出了包括控制装置和致动器单元的EUV光刻设备的示意性视图；

[0078] 图1b示出了包括控制装置和致动器单元的DUV光刻设备的示意性视图；

[0079] 图2示出了致动致动器单元的控制装置的一个示例性实施例；

[0080] 图3a示出了具有0.5的占空比和限定的时钟频率的PWM信号的第一示例性实施例；

[0081] 图3b示出了具有0.4的占空比和限定的时钟频率的PWM信号的第二示例性实施例；

[0082] 图3c示出了具有配备有不同的限定的时钟频率的两个不同的占空比的PWM信号的第三示例性实施例；

[0083] 图4示出了实现控制装置的一个示例性电路布置；

[0084] 图5示出了包括分配单元的致动致动器单元的控制装置的其他示例性实施例；

[0085] 图6a示出了将为0.1-0.9的占空比范围细分为多个区间的一个实施例，该多个区间中的每一个对应地分配限定的时钟频率；

[0086] 图6b示出了基于系统时钟频率生成多个时钟频率的一种可能性；

[0087] 图7a举例示出了对于四个不同的时钟频率的占空比区间中在到开关放大器的供电线中发生的纹波电流的振幅；

[0088] 图7b举例示出了对于四个不同的时钟频率的占空比区间中在开关放大器的输出处发生的纹波电压的振幅；

[0089] 图7c举例示出了对于四个不同的时钟频率的占空比区间中开关放大器发生的功率损耗；

[0090] 图8示出了操作致动光刻设备中的致动器单元的控制装置的方法的一个示例性实施例；以及

[0091] 图9示出了操作致动光刻设备中的致动器单元的控制装置的方法的其他示例性实施例。

[0092] 除非另外指示，附图中已经将相同的附图标记提供给相同的元件或者具有相同功能的元件。

[0093] 图1a示出了EUV光刻设备100A的示意性视图，该EUV光刻设备100A包括束成形和照明系统102以及投射系统104。在这种情况下，EUV表示“极紫外”(EUV)，并且表示在0.1和30nm之间的工作光(还叫做所使用的辐射)的波长。束成形和照明系统102和投射系统104布置在真空外壳101中。借助于抽真空装置(未示出)来将真空外壳101抽真空。

[0094] EUV光刻设备100A包括EUV光源106A。可以提供等离子体源(或同步加速器)例如作为EUV光源106A，该等离子体源发射在EUV范围中(极紫外范围中，即例如在0.1nm至30nm的波长范围中)的辐射108A。在束成形和照明系统102中，聚焦EUV辐射108A，并且从EUV辐射108A中过滤出期望的操作波长。由EUV光源106A产生的EUV辐射108A具有穿过空气相对低的透过率，因此在束成形和照明系统102中和在投射系统104中的束引导空间被抽真空。

[0095] 图1a中示出的束成形和照明系统102具有五个反射镜110、112、114、116、118。在通过束成形和照明系统102后，EUV辐射108A被指引到光掩模(掩模母版)120上。光掩模120实施为例如反射式光学元件，并且可以布置在系统102、104的外部。另外，通过反射镜122可以将EUV辐射108A指引到光掩模120上。光掩模120包括通过投射系统104以缩小的方式成像到晶片124之类上的结构。在这种情况下，晶片124布置在投射系统104的像平面中。

[0096] 投射系统104(还被称为投射镜头)具有五个反射镜M1-M5，用于将光掩模120成像到晶片124上。在这种情况下，投射系统104的单独反射镜M1-M5可以关于投射系统104的光轴126对称地布置。应该注意到，EUV光刻设备100A的反射镜的数目不限于所图示的数目。还可以提供更多或更少的反射镜。此外，反射镜通常在其前侧弯曲，用于束成形。

[0097] 在图1a的示例中，特别地，可移动地安装反射镜20，并且致动器单元11实施为在反射镜20处布置的洛伦兹致动器11。洛伦兹致动器11配置为沿着规定的轴线将反射镜的位置P设定在0-500μm的范围中。在这种情况下，通过来自控制装置10经由信号连接件12的控制信号40来传输要设定的位置P。控制信号40具有将洛伦兹致动器11移动到要设定的位置P的效果。在图1a中图示之上和上方，还可以在反射镜模块的多个可移动安装的部分处提供多个致动器单元。作为示例，反射镜模块还可以包括可各单独且彼此独立致动的多个单独反射镜。

[0098] 控制装置10还可以布置在投射系统104和/或抽真空的外壳101的外部。此外，其他的反射镜可以被可移动地安装并且装备有分配于其的致动器单元11。此外，可移动安装的反射镜优选地装备有多个致动器单元11，以便使得在全部三个空间轴线上的移动成为可能。

[0099] 图1b示出了DUV光刻设备100B的示意性视图，该DUV光刻设备100B包括束成形和照明系统102以及投射系统104。在这种情况下，DUV表示“深紫外”(DUV)，并且表示在30和250nm之间的工作光(还叫做所使用的辐射)的波长。束成形和照明系统102以及投射系统
104——如参考图1a已经描述的——可以布置在真空外壳中。图1b仅示出了包括投射系统
104、光掩模120和控制装置10的真空外壳101。

[0100] DUV光刻设备100B具有DUV光源106B。作为示例，可以提供发射DUV范围中在193nm的辐射108B的ArF准分子激光器作为DUV光源106B。

[0101] 在图1b中所图示的束成形和照明系统102将DUV辐射108B引导到光掩模120上。光掩模120实施为透射式光学元件，并且可以布置在系统102、104的外部。光掩模120包括通过投射系统104以缩小的方式成像到晶片124之类上的结构。在这种情况下，晶片124布置在投射系统104的像平面中。

[0102] 投射系统104具有多个透镜元件128和/或反射镜20、130，用于将光掩模120成像到晶片124上。在这种情况下，投射系统104的单独的透镜元件128和/或反射镜20、130可以关于投射系统104的光轴126对称地布置。应该注意到，DUV光刻设备100B的透镜元件和反射镜的数目不限于所图示的数目。还可以提供更多或更少数目的透镜元件和/或反射镜。此外，反射镜通常在其前侧弯曲，用于束成形。

[0103] 在图1b的示例中，特别地，反射镜20被可移动地安装并且装备有在此实施为机电致动器11的致动器单元11。机电致动器11配置为沿着轴线在0-5mm的范围中设定反射镜20的位置P。要设定的位置P通过由控制装置10生成的控制信号40来设定。在这种情况下，控制信号40经由信号连接件12传输到机电致动器11。

[0104] 在图1b中的图示之上或上方，可以提供的是，一个或多个透镜元件128和反射镜130可以可移动地安装并且装备有相应的致动器单元11。如关于图1a已经描述的，可以有利地规定，将在全部三个空间方向和/或倾斜上移动的多个致动器单元11分配给光学元件20。
与其等同的选项是如果提供可以在全部空间方向和/或倾斜上实现移动的单个致动器单元
11。

[0105] 图2示出了致动致动器单元的控制装置10的一个示例性实施例。所图示的实施例例如适合于设定在来自图1a、1b的光刻设备100A、100B中的一个中的光学元件20的位置P。为了简化起见，光学元件没有图示在图2的图中。

[0106] 控制装置10包括在此实施为数字电路的调制器单元50、以及同样地实施为数字电路的放大器单元30。图2的控制装置10可以整个被称为开关放大器10。

[0107] 调制器单元50特别是配置为以来自多个限定的时钟频率52中的限定的时钟频率51来提供具有占空比43的PWM信号42。示例中，调制器单元50配置为生成至少0.25-0.75的范围中的占空比43，其中多个时钟频率52基于基本时钟频率f0。基本时钟频率f0例如是在
10kHz-100kHz的范围中。作为示例，基本时钟频率是f0＝55kHz，其中多个时钟频率52因此包括例如时钟频率55kHz、110kHz、165kHz和220kHz。限定的时钟频率51例如是110kHz，并且占空比43是0.3。

[0108] 放大器单元30接收PWM信号42并且通过电压信号41放大PWM信号42，该电压信号41在此是具有在10V和100V之间的电平的DC电压信号，例如为50V。控制信号40因此对应于PWM信号42，其取决于开光状态在电平0和50V之间跳变。在占空比为0.3的情况下，因此得到控制信号40的平均值为15V。控制信号40被传输到致动器单元11。致动器单元11因此移动到与具有15V的电平的信号对应的位置P。

[0109] 图3a示出了具有0.5的占空比43和限定的时钟频率51的PWM信号的第一示例性实施例。图示示出了具有横坐标t(时间轴线)和纵坐标轴线A(PWM信号42的振幅)的图。在示例中，PWM信号42的两个电平是0和1。在这种具体情况下，占空比43对应于信号42在时间上的平均值。由图示，时钟频率51作为信号42的所示周期持续时间T的倒数来产生。图示示出了信号42的总共三个周期T。

[0110] 信号42的周期T由第一时间区间t1和第二时间区间t0构成，在该第一时间区间期间信号42的电平为1，并且在该第二时间区间期间信号42的电平为0。占空比43可以根据等式2从这些值中计算出：

[0111] τ＝t1/T＝t1/(t1+t0)  (等式2)

[0112] 在本情况中，t1＝t0，这导致了τ＝0.5。

[0113] 图3b示出了具有0.4的占空比43和限定的时钟频率的PWM信号42的第二示例性实施例。图示对应于图3a的图示，差别为时间区间t1、t0具有不同值，因此导致了不同周期持续时间T和不同占空比43。限定的时钟频率51继而从周期持续时间T来产生，在该情况下所述时钟频率高于图3a中的时钟频率。

[0114] 图3c示出了具有配备有不同的限定的时钟频率51的两个不同的占空比43的PWM信号42的第三示例性实施例。图示对应于图3a和3b的图示，差别为不同PWM信号42。

[0115] 在图3c中，时间轴线以时间点tc被分成两个范围。在小于tc的时间处，PWM信号42具有0.25的占空比，其以与周期T的倒数对应的相对较低的时钟频率51来产生。在示例中，限定的时钟频率51是110kHz，所以周期持续时间是T＝9.1μs。此外，t1＝2.3μs且t0＝6.8μs。

[0116] 在时间点tc时，致动器单元11的要设定的位置P改变(参见例如图2、4、5)。对于要设定的位置P需要0.6的占空比43。由于特别是需要最小化放大器单元30的功率损耗并且同时最小化纹波电流和纹波电压的边界条件，所述占空比43以与第一时钟频率不同的限定的时钟频率51来生成。在示例中，新的限定的时钟频率51是220kHz，其对应于第一时钟频率51的双倍。因此，T*＝4.5μs和t1*＝2.7μs且t0*＝1.8μs。

[0117] 图4示出了实现致动致动器单元11的控制装置10的一个示例性电路布置。所示的布置可以例如用于在图1a、1b、2、5中的控制装置10中。

[0118] 调制器单元50配置为放大要在两个开关晶体管410上放大的PWM信号42。因此，在节点411处，供电电压420根据PWM信号42来切换。也就是说控制信号40出现在节点411处。线圈430和电容器440形成了将高频干扰信号从控制信号40中过滤出的输出过滤器。控制信号40被传输到致动器单元11，其移动到与控制信号40对应的位置P。在本情况的所有电压与相对于参考电位450(例如接地电位)的点的电位差对应。

[0119] 图5示出了致动致动器单元11的控制装置10的其他示例性实施例。所图示的实施例具有图2所示的实施例的特征，其中图5中提供分配单元60，其配置为将来自多个时钟频率52的限定的时钟频率51分配给每个占空比42。这样的分配单元60还可以配备在图1a、1b中的光刻设备100A、100B中。

[0120] 分配单元60特别是配置为基于确定的占空比42来选择限定的时钟频率51。在这种情况下，选择还包括检测诸如温度的参数值(未示出)。取决于这些参数值，分配单元60将限定的时钟频率51分配给确定的占空比42。向调制器单元50提供分配的时钟频率51，该调制器单元50生成具有占空比42和时钟频率51的PWM信号42。

[0121] 作为取决于参数值的分配的替代例，可以设置的是，分配单元60将可设定的占空比42细分为多个区间，并且将限定的时钟频率51分配给每个区间。在图6a中示出了这种类型的细分。

[0122] 图6a示出了将在0.1-0.9范围的占空比细分为七个区间I1-I7，该区间中的每一个分配有来自包括四个不同时钟频率f1、f2、f3和f4的多个时钟频率52的限定的时钟频率51。

[0123] 占空比范围到I1-I7的区间中的细分和时钟频率51到这些区间I1-I7的分配根据对纹波电流、纹波电压和所使用的开关放大器10的功率损耗的考虑来得出。这些在图7a-7c中针对不同时钟频率来示出。首先，参考图6b将解释如何生成多个限定的时钟频率52。

[0124] 图6b示出了如何从系统时钟频率fS生成表1中的多个限定的时钟频率52的一个示例性实施例。图6b中的示例是基于100MHz的系统时钟频率fS，从其中通过1818因子推导出基本时钟频率f0＝100MHz/1818＝55kHz。将基本时钟频率f0乘以整数因子n1＝1、n2＝2、n3＝3、n4＝4得出四个不同的限定的时钟频率f1、f2、f3和f4。

[0125] 图7a示出了针对四个不同限定的时钟频率f1、f2、f3和f4所示的占空比的0.1-0.9的示例性范围的纹波电流的振幅I的示意图。实际振幅取决于实现方式，为此在此没有指示数值。曲线从上至下连续编号地对应于时钟频率f1＝55kHz、f2＝110kHz、f3＝165kHz和f4＝220kHz。此外，示意图例如以虚线图示了纹波电流的振幅的阈值It，以及相应的区间极限。
显而易见的是，对于恒定时钟频率51，供电线中纹波电流的振幅在占空比0.5附近是对称的，在那里还取得最大值。

[0126] 图7b示出了如图7a的示意图，但在此绘制了输出处的纹波电压的振幅。同样地没有具体数值。曲线与频率的分配如同图7a。曲线再次在0.5占空比附近是对称的，每个曲线具有位于有些大于和相应地有些小于0.5的占空比处的两个最大值。阈值例如指定为Ut并且例如在0.5V-10V之间。

[0127] 图7c示出了这种类型的其他示意图，其中在此绘制了开关放大器10的功率损耗。曲线到时钟频率51的分配在此是相反的，即f1、f2、f3和f4在此从下至上布置(排除曲线重叠的0.5附近的小占空比范围)。同样地，曲线在0.5的占空比附近对称地行进，但是在此功率损耗的值朝向低于或高于0.5的占空比来增加。在这种情况下，增加越多，时钟频率51越高。
功率损耗的所规定的阈值作为示例来描绘并且由Pt来指定。

[0128] 图7a-7c的结合考虑揭露了限定的时钟频率的依赖占空比选择所带来的优点。只有用这种方法，纹波电流、纹波电压以及功率损耗的振幅的实际值才能对于每个可设定的占空比的相应变量保持在规定的阈值以下。

[0129] 图8示出了操作用于致动光刻设备100A、100B(参见图1a和图1b)中的致动器单元11的控制装置10的方法的一个实施例。

[0130] 方法包括以下步骤：

[0131] 步骤S1包含取决于光刻设备100A、100B的光学元件20的要设定的位置P来确定PWM信号42的要设定的占空比42。从所确定的位置P，可以间接导出占空比43，通过该占空比43致动致动器单元11以便于设定位置P。为此，确定S1包括例如计算占空比43或者将要设定的位置P与关于占空比43的分配表进行比较。

[0132] 步骤S2包含取决于所确定的占空比43来确定时钟频率51，将其提供给占空比43。为此，例如将确定的占空比43与其中储存占空比43到所限定的时钟频率51的分配的表格相比较。

[0133] 步骤S3包含提供现在由确定的时钟频率51明确地限定的PWM信号42和占空比43。特别地，提供以下构件：将PWM信号42馈送到放大器单元30以生成致动器单元11的控制信号
40。

[0134] 在步骤S4中，所提供的PWM信号42由放大器单元30以电压信号41来放大，并且因此生成传输到致动器单元11的控制信号40。以这种方式所生成的控制信号40引起致动器单元11设定要设定的位置P。

[0135] 图9示出了操作用于致动分配给光刻设备100A、100B(参见图1a和图1b)的反射镜20的致动器单元11的控制装置10的方法的其他示例性实施例。

[0136] 方法的步骤S0包含检测反射镜20的要设定的位置P。这可以包括例如检测控制回路(未示出)的输出值。例如从操纵(特别是优化)曝光光的波前的控制回路中得到要设定的位置P。

[0137] 步骤S1包含了从要设定的位置P确定所需的占空比43，以该占空比，通过致动器单元11来获得位置P。

[0138] 在步骤S2中，分配单元60(参见图5)取决于所确定的占空比43来确定限定的时钟频率51。这例如通过与储存了占空比区间到生成限定的时钟频率51的因子n的分配的表格比较来完成。这个的一个示例是表1，其与图6a、6b、7a、7b、7c相关联地进行解释。限定的时钟频率51直接由确定的因子乘以基本时钟频率f0来产生。

[0139] 在步骤S3中，具有确定的占空比43和确定的时钟频率51的PWM信号42被生成并且由调制器单元50来提供。

[0140] 在步骤S4中，所提供的PWM信号42被放大器单元30拿走并且被放大器单元30放大，从而生成致动器单元11的控制信号40。

[0141] 在步骤S5中，生成的控制信号40被传输到致动器单元11，因此致动器单元11设定了要设定的位置P。

[0142] 虽然基于示例性实施例已经描述了本发明，但是仍可以通过多种多样的方式来修改本发明。

[0143] 附图标记列表

[0144] 10    控制装置

[0145] 11    致动器单元

[0146] 12    信号连接件

[0147] 20    光学元件

[0148] 30    放大器单元

[0149] 40    控制信号

[0150] 41    DC电压信号

[0151] 42    PWM信号

[0152] 43    占空比

[0153] 50    调制器单元

[0154] 51    时钟频率

[0155] 52    多个时钟频率

[0156] 60    分配单元

[0157] 100A  EUV光刻设备

[0158] 100B  DUV光刻设备

[0159] 101   真空外壳

[0160] 102   束成形和照明系统

[0161] 104   成像光学单元

[0162] 106A  EUV辐射源

[0163] 106B  DUV辐射源

[0164] 108A  EUV辐射

[0165] 108B  DUV辐射

[0166] 110   反射镜

[0167] 112   反射镜

[0168] 114   反射镜

[0169] 116   反射镜

[0170] 118   反射镜

[0171] 120   光刻结构

[0172] 122   反射镜

[0173] 124   具有光活性涂层的晶片

[0174] 126   光轴

[0175] 128   透镜元件

[0176] 130   反射镜

[0177] 132   折射率匹配液

[0178] 410   开关晶体管

[0179] 411   节点

[0180] 420   DC电压源

[0181] 430   线圈

[0182] 440   电容器

[0183] 450   参考电位

[0184] f0    基本时钟频率

[0185] f1    限定的时钟频率

[0186] f2    限定的时钟频率

[0187] f3    限定的时钟频率

[0188] f4    限定的时钟频率

[0189] fk    限定的时钟频率

[0190] fS    系统的时钟频率

[0191] I1    区间

[0192] I2    区间

[0193] I3    区间

[0194] I4    区间

[0195] I5    区间

[0196] I6    区间

[0197] I7    区间

[0198] It    电流阈值

[0199] M1    反射镜

[0200] M2    反射镜

[0201] M3    反射镜

[0202] M4    反射镜

[0203] M5    反射镜

[0204] n1    整数因子

[0205] n2    整数因子

[0206] n3    整数因子

[0207] n4    整数因子

[0208] nk    整数因子

[0209] P     位置

[0210] Pt    功率阈值

[0211] S0    方法步骤

[0212] S1    方法步骤

[0213] S2    方法步骤

[0214] S3    方法步骤

[0215] S4    方法步骤

[0216] S5    方法步骤

[0217] T     周期/周期持续时间

[0218] Ut    功率阈值

[0219] t0    时间区间(电平0)

[0220] t0*   时间区间(电平0)

[0221] t1    时间区间(电平1)

[0222] t1*   时间区间(电平1)

[0223] τ     占空比

[0224] τmax  最大可设定占空比

[0225] τmin   最小可设定占空比