一种射流抛光方法转让专利
申请号 : CN202010111930.X
文献号 : CN111113276B
文献日 : 2021-07-20
发明人 : 田劲松
申请人 : 苏州协同创新智能制造装备有限公司
摘要 :
权利要求 :
1.一种射流抛光方法,采用射流抛光装置对工件进行抛光和清洗;其特征在于:所述射流抛光装置,包括:用于夹持工件的夹具,容纳夹具及其上工件的竖置漏斗状抛光仓,伸入抛光仓且支承夹具的支架,位于夹具上方、且对夹具上的工件进行射流抛光的射流抛光用喷嘴,位于夹具上方、且对夹具上的工件进行清洗的清洗用喷嘴,位于抛光仓下方的沉淀仓,以及包围沉淀仓的净液仓;
所述射流抛光用喷嘴外接有向其供应抛光液的抛光液供应管,抛光液供应管上设有抛光阀;
所述沉淀仓包括:与抛光仓共轴心的竖置圆筒状上仓体,以及与上仓体共轴心的竖置漏斗状下仓体;抛光仓的底端伸入上仓体中,且上仓体的顶端与抛光仓的外壁连接;上仓体的内部还设有平置的圆环状滤网,该滤网可拦截抛光液中的磨料粒子;滤网与上仓体共轴心,滤网的外圈与上仓体的内壁连接,滤网的内圈与抛光仓的外壁连接;上仓体还设有多个溢流口,该多个溢流口位于同一高度,且该多个溢流口沿上仓体的周向均布;该多个溢流口位于滤网上方,且该多个溢流口靠近滤网;上仓体的内周壁上还设有多个反冲洗用喷嘴,该多个反冲洗用喷嘴位于同一高度,且该多个反冲洗用喷嘴沿上仓体的周向均布;该多个反冲洗用喷嘴位于上述多个溢流口上方,且该多个反冲洗用喷嘴朝向滤网;下仓体的底端外接竖置排污管,且排污管上设有排污阀,排污阀靠近下仓体的底端;
所述净液仓包括:与上仓体共轴心的竖置圆筒状侧周壁,封闭侧周壁底端的平置圆盘状底壁,以及平置圆环状顶壁;侧周壁的顶端与上仓体的顶端位于同一高度,侧周壁的底端位于下仓体下方;顶壁的外圈与侧周壁连接,顶壁的内圈与上仓体的顶端连接;排污管贯穿底壁;净液仓的内部还设有供液泵,供液泵位于净液仓的底部;供液泵的输出端通过三通管外接第一供液管和第二供液管;第一供液管伸出至净液仓外部并与清洗用喷嘴连接,第一供液管上设有清洗阀;各反冲洗用喷嘴分别通过供液支管与第二供液管连接,供液支管上设有反冲洗阀;净液仓的内部还设有液位检测装置;净液仓的顶壁外接有补水管,补水管上设有补水阀;
所述采用射流抛光装置对工件进行抛光和清洗,包括如下步骤:将工件安装在抛光仓中的夹具上,开启抛光阀,抛光液供应管向射流抛光用喷嘴供应抛光液,射流抛光用喷嘴对工件进行射流抛光,抛光产生的废液落入漏斗状的抛光仓中,并进入沉淀仓中,沉淀仓中的液面溢过滤网,废液中的杂质会被滤网过滤拦击,过滤后的净液由溢流口进入净液仓,杂质在沉淀仓中沉淀;
射流抛光完成后,关闭抛光阀,开启供液泵和清洗阀,净液仓中的净液由第一供液管送至清洗用喷嘴,清洗用喷嘴对完成抛光的工件进行清洗,清洗产生的废液也落入漏斗状的抛光仓中,并进入沉淀仓中,沉淀仓中的液面溢过滤网,废液中的杂质会被滤网过滤拦击,过滤后的净液由溢流口进入净液仓,杂质在沉淀仓中沉淀;
清洗完成后,将工件从夹具上取走,安装新的工件重复上述抛光和清洗的工序;
当完成多个工件的抛光和清洗,沉淀仓中的杂质浓度达到一定程度时,关闭抛光阀和清洗阀,开启供液泵、排污阀和各个反冲洗阀,净液仓中的净液由第二供液管和供液支管送至各个反冲洗用喷嘴,反冲洗用喷嘴对滤网进行反冲洗,沉淀仓中的废液由排污管排出;
所述液位检测装置监测净液仓的液面,当净液仓的液面低至一定程度,开启补水阀,由补水管向净液仓补充干净的水。
说明书 :
一种射流抛光方法
技术领域
背景技术
高速碰撞剪切作用达到磨削去除材料。射流抛光完成后,会有部分抛光液残留在工件上,需
要对工件进行清洗,而射流抛光和清洗产生的废液不能有效利用,造成浪费。
发明内容
的射流抛光用喷嘴,位于夹具上方、且对夹具上的工件进行清洗的清洗用喷嘴,位于抛光仓
下方的沉淀仓,以及包围沉淀仓的净液仓;
仓体的内部还设有平置的圆环状滤网,该滤网可拦截抛光液中的磨料粒子;滤网与上仓体
共轴心,滤网的外圈与上仓体的内壁连接,滤网的内圈与抛光仓的外壁连接;上仓体还设有
多个溢流口,该多个溢流口位于同一高度,且该多个溢流口沿上仓体的周向均布;该多个溢
流口位于滤网上方,且该多个溢流口靠近滤网;上仓体的内周壁上还设有多个反冲洗用喷
嘴,该多个反冲洗用喷嘴位于同一高度,且该多个反冲洗用喷嘴沿上仓体的周向均布;该多
个反冲洗用喷嘴位于上述多个溢流口上方,且该多个反冲洗用喷嘴朝向滤网;下仓体的底
端外接竖置排污管,且排污管上设有排污阀,排污阀靠近下仓体的底端;
底端位于下仓体下方;顶壁的外圈与侧周壁连接,顶壁的内圈与上仓体的顶端连接;排污管
贯穿底壁;净液仓的内部还设有供液泵,供液泵位于净液仓的底部;供液泵的输出端通过三
通管外接第一供液管和第二供液管;第一供液管伸出至净液仓外部并与清洗用喷嘴连接,
第一供液管上设有清洗阀;各反冲洗用喷嘴分别通过供液支管与第二供液管连接,供液支
管上设有反冲洗阀;
中,并进入沉淀仓中,沉淀仓中的液面溢过滤网,废液中的杂质会被滤网过滤拦击,过滤后
的净液由溢流口进入净液仓,杂质在沉淀仓中沉淀;
状的抛光仓中,并进入沉淀仓中,沉淀仓中的液面溢过滤网,废液中的杂质会被滤网过滤拦
击,过滤后的净液由溢流口进入净液仓,杂质在沉淀仓中沉淀;
管送至各个反冲洗用喷嘴,反冲洗用喷嘴对滤网进行反冲洗,沉淀仓中的废液由排污管排
出。
具体实施方式
的射流抛光用喷嘴,位于夹具上方、且对夹具上的工件进行清洗的清洗用喷嘴,位于抛光仓
下方的沉淀仓,以及包围沉淀仓的净液仓;
仓体的内部还设有平置的圆环状滤网,该滤网可拦截抛光液中的磨料粒子;滤网与上仓体
共轴心,滤网的外圈与上仓体的内壁连接,滤网的内圈与抛光仓的外壁连接;上仓体还设有
多个溢流口,该多个溢流口位于同一高度,且该多个溢流口沿上仓体的周向均布;该多个溢
流口位于滤网上方,且该多个溢流口靠近滤网;上仓体的内周壁上还设有多个反冲洗用喷
嘴,该多个反冲洗用喷嘴位于同一高度,且该多个反冲洗用喷嘴沿上仓体的周向均布;该多
个反冲洗用喷嘴位于上述多个溢流口上方,且该多个反冲洗用喷嘴朝向滤网;下仓体的底
端外接竖置排污管,且排污管上设有排污阀,排污阀靠近下仓体的底端;
底端位于下仓体下方;顶壁的外圈与侧周壁连接,顶壁的内圈与上仓体的顶端连接;排污管
贯穿底壁;净液仓的内部还设有供液泵,供液泵位于净液仓的底部;供液泵的输出端通过三
通管外接第一供液管和第二供液管;第一供液管伸出至净液仓外部并与清洗用喷嘴连接,
第一供液管上设有清洗阀;各反冲洗用喷嘴分别通过供液支管与第二供液管连接,供液支
管上设有反冲洗阀;
中,并进入沉淀仓中,沉淀仓中的液面溢过滤网,废液中的杂质会被滤网过滤拦击,过滤后
的净液由溢流口进入净液仓,杂质在沉淀仓中沉淀;
状的抛光仓中,并进入沉淀仓中,沉淀仓中的液面溢过滤网,废液中的杂质会被滤网过滤拦
击,过滤后的净液由溢流口进入净液仓,杂质在沉淀仓中沉淀;
管送至各个反冲洗用喷嘴,反冲洗用喷嘴对滤网进行反冲洗,沉淀仓中的废液由排污管排
出。
也应视为本发明的保护范围。