一种应用于内层板的曝光机及对位系统的实时监测方法转让专利

申请号 : CN202010219431.2

文献号 : CN111273525B

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发明人 : 张雷

摘要 :

一种应用于内层板的曝光机,包括可移动的基板台面和对位系统,所对位系统包括朝向基板台面设置的对位机构和对内层板标记的标记机构,所述标记机构包括至少两个标记装置,所述标记装置分别位于所述基板台面的相对侧。通过将标记装置设置于基板台面的相对两侧,同时加大了所述标记装置X方向和Y方向的距离,避免了标记装置之间X方向或者Y方向距离较近,误差不易识别的问题,同时,根据相对两侧标记装置之间的长度和其形成的标记点之间长度进行比较,判断曝光机的对位系统是否正确运行,及时修正对位系统,避免由于对位系统的误差,导致大量内层板报废,降低内层板的报废率。