一种熔池形貌主动干预电磁装备转让专利
申请号 : CN202010166323.3
文献号 : CN111455372B
文献日 : 2021-04-20
发明人 : 霍坤 , 戴峰泽 , 周建忠
申请人 : 江苏大学
摘要 :
本发明涉及激光特种加工工艺,具体的是指一种熔池形貌主动干预电磁装备。本发明由工件放置于试样台阶梯面,通电后旋转金属棒产生一个以其为圆心的环形磁场,作用于熔池内形成感应电流。感应电流在磁场下生成洛伦兹力,垂直作用的熔池外表面,改变熔池高度、深度及宽度,最终实现对熔池形貌的主动干预。
权利要求 :
1.一种熔池形貌主动干预电磁装备,其特征在于,所述装备包括试样台、金属环、导电栓、电机和金属棒;上下两金属环由两个导电栓固定在绝缘的试样台上,导电栓尾部穿透试样台一侧,作为外部导电接口;金属棒为水平放置两金属环间,通过金属弹片与两金属环接触导电,金属棒同时与电机相连接;电机位于试样台底部;外部交流电源通过双U形导线与导电栓尾部连接,实现整体封闭回路;试样台上表面对称铣出2个阶梯面,工件水平放置在阶梯面上进行电磁干预加工;通电后旋转金属棒产生一个以其为圆心的环形磁场,作用于熔池内形成感应电流,感应电流在磁场下生成洛伦兹力,垂直作用于熔池外表面,改变熔池高度、深度及宽度,最终实现对熔池形貌的主动干预。
2.如权利要求1所述的一种熔池形貌主动干预电磁装备,其特征在于,导电栓通过螺母和垫片固定在绝缘的试样台一侧。
3.如权利要求1所述的一种熔池形貌主动干预电磁装备,其特征在于,金属棒轴向中心位于两金属环圆心同一垂线。
4.如权利要求1所述的一种熔池形貌主动干预电磁装备,其特征在于,电机中心与金属环中心位于同一垂线。
5.如权利要求1所述的一种熔池形貌主动干预电磁装备,其特征在于,金属棒分别通过首尾处的两金属弹片与上下两金属环接触。
6.如权利要求1所述的一种熔池形貌主动干预电磁装备,其特征在于,导电的金属棒安装在电机上,在两个上下平行的金属环中以3000r/min的转速自转;外部交流电源可提供0~1000A 50HZ的交变电流。
说明书 :
一种熔池形貌主动干预电磁装备
技术领域
[0001] 本发明涉及激光特种加工工艺,应用在激光熔覆、激光焊接、激光熔注、激光熔凝等特种加工领域,具体的是指一种熔池形貌主动干预电磁装备。
技术背景
技术背景
[0002] 激光熔覆、激光焊接和激光熔注等特种加工工艺,通过输入高能来熔化局部金属,实现后续生产目标。在加工过程中,不可避免地会产生熔池。就激光熔覆而言,过大、过深的
熔池会造成熔覆层稀释率过高,影响熔覆层质量,并且由于熔池宽高比过小,造成涂层与基
体的结合强度差强人意。一般传统对熔池形貌的控制仅限于工艺参数的调整,但参数优化
总以牺牲送粉率、降低激光功率和加快扫描速度为代价,大大限制了探索优质涂层的工艺
范围,效果往往差强人意。
熔池会造成熔覆层稀释率过高,影响熔覆层质量,并且由于熔池宽高比过小,造成涂层与基
体的结合强度差强人意。一般传统对熔池形貌的控制仅限于工艺参数的调整,但参数优化
总以牺牲送粉率、降低激光功率和加快扫描速度为代价,大大限制了探索优质涂层的工艺
范围,效果往往差强人意。
发明内容
[0003] 针对以上不足,本发明提供了一种熔池形貌主动干预电磁装备,可以在不考虑工艺参数的情况下,对熔池进行全方位形貌控制。
[0004] 本发明的一种熔池形貌主动干预电磁装备,由试样台、金属环、导电栓、螺母、垫片、电机、金属弹片和金属棒组成;金属环由导电栓、螺母和垫片固定在绝缘试样台上,导电
栓尾部穿透试样台一侧,作为外部导电接口;金属棒轴向中心位于两金属环圆心同一垂线,
并与电机相连接;电机位于试样台底部,其中心与金属环中心位于同一垂线;通过首尾处两
金属弹片,金属棒分别与上下两金属环接触;外部交流电源通过双U形导线与导电栓尾部连
接,可实现整体封闭回路;试样台上表面对称铣出2个阶梯面,工件可水平放置在阶梯面上
进行电磁干预加工。通电后旋转金属棒产生一个以其为圆心的环形磁场,作用于熔池内形
成感应电流。感应电流在磁场下生成洛伦兹力,垂直作用于熔池外表面,改变熔池高度、深
度及宽度,最终实现对熔池形貌的主动干预。
栓尾部穿透试样台一侧,作为外部导电接口;金属棒轴向中心位于两金属环圆心同一垂线,
并与电机相连接;电机位于试样台底部,其中心与金属环中心位于同一垂线;通过首尾处两
金属弹片,金属棒分别与上下两金属环接触;外部交流电源通过双U形导线与导电栓尾部连
接,可实现整体封闭回路;试样台上表面对称铣出2个阶梯面,工件可水平放置在阶梯面上
进行电磁干预加工。通电后旋转金属棒产生一个以其为圆心的环形磁场,作用于熔池内形
成感应电流。感应电流在磁场下生成洛伦兹力,垂直作用于熔池外表面,改变熔池高度、深
度及宽度,最终实现对熔池形貌的主动干预。
[0005] 所述的一种熔池形貌主动干预电磁装备,可广泛应用在激光熔覆、激光焊接、激光熔注、激光熔凝等存在局部微熔的特种加工场合。
[0006] 本专利以激光熔覆为案例进行详细原理说明,对于其他特种加工中形成的熔池作用原理基本类似。导电金属棒安装在微型电机上,在两个上下平行的金属环中以3000r/min
的转速自转。外部交流电源可提供0~1000A50HZ的交变电流,金属棒通过首尾两个金属弹
片与金属环接触导电,整体可形成封闭回路。附图5展示了金属杆位于熔池正下方时,横截
面与纵截面洛伦兹力分布情况。当在0~1/2周期时,金属杆会产生一个以其为圆心,不断向
外扩散的环形磁场,从熔池正视图可见为逆时针方向,见附图5(a)。由楞次定律可知,熔池
内必定生成封闭感应电流来阻碍金属棒所产生的磁场。故根据右手定律和趋肤效应分析,
感应电流主要分布在熔池外表面,其产生的感应磁场与外部施加磁场方向相反,起到抵消
部分施加磁场作用。将熔池沿金属棒水平平行方向,可垂直分割出无数如附图5(b)所示纵
截面,并且每个纵截面内感应电流分布均一致。感应电流在磁场作用下产生洛伦兹力,由左
手定则可判断其方向为垂直熔池纵截面外轮廓向里。将所用纵截面结合起来可知,熔池外
表面整体会受到一个向内挤压的洛伦兹力作用。类似地,可判断出在1/2~1周期内,熔池外
表面整体也会产生相同大小和方向的洛伦兹力。为了描述方便,附图5只展示了金属棒位于
熔道正下方时的特殊情况。事实上,金属棒转速为3000r/min,因此可以理解为在熔覆过程
中,金属棒时刻存在于熔池底部,每个水平平行于此时金属棒的熔池纵截面均受到与附图5
类似分布的洛伦兹力。故无论熔道在哪,熔池都会受到一个垂直外表面向内挤压的洛伦兹
力。在此作用下,熔池高度和深度会明显减小,而宽度有所增加。通过改变交变电流,从而控
制金属棒所产生的环形磁场大小,并进而影响熔池内生成的感应电流大小,最终实现控制
熔池表面所受洛伦兹力大小。但无论洛伦兹力大小发生怎样变化,其方向依旧垂直于熔池
外表面向内,实现对熔池高度、深度及宽度的主动干预,最终控制熔池形貌。
的转速自转。外部交流电源可提供0~1000A50HZ的交变电流,金属棒通过首尾两个金属弹
片与金属环接触导电,整体可形成封闭回路。附图5展示了金属杆位于熔池正下方时,横截
面与纵截面洛伦兹力分布情况。当在0~1/2周期时,金属杆会产生一个以其为圆心,不断向
外扩散的环形磁场,从熔池正视图可见为逆时针方向,见附图5(a)。由楞次定律可知,熔池
内必定生成封闭感应电流来阻碍金属棒所产生的磁场。故根据右手定律和趋肤效应分析,
感应电流主要分布在熔池外表面,其产生的感应磁场与外部施加磁场方向相反,起到抵消
部分施加磁场作用。将熔池沿金属棒水平平行方向,可垂直分割出无数如附图5(b)所示纵
截面,并且每个纵截面内感应电流分布均一致。感应电流在磁场作用下产生洛伦兹力,由左
手定则可判断其方向为垂直熔池纵截面外轮廓向里。将所用纵截面结合起来可知,熔池外
表面整体会受到一个向内挤压的洛伦兹力作用。类似地,可判断出在1/2~1周期内,熔池外
表面整体也会产生相同大小和方向的洛伦兹力。为了描述方便,附图5只展示了金属棒位于
熔道正下方时的特殊情况。事实上,金属棒转速为3000r/min,因此可以理解为在熔覆过程
中,金属棒时刻存在于熔池底部,每个水平平行于此时金属棒的熔池纵截面均受到与附图5
类似分布的洛伦兹力。故无论熔道在哪,熔池都会受到一个垂直外表面向内挤压的洛伦兹
力。在此作用下,熔池高度和深度会明显减小,而宽度有所增加。通过改变交变电流,从而控
制金属棒所产生的环形磁场大小,并进而影响熔池内生成的感应电流大小,最终实现控制
熔池表面所受洛伦兹力大小。但无论洛伦兹力大小发生怎样变化,其方向依旧垂直于熔池
外表面向内,实现对熔池高度、深度及宽度的主动干预,最终控制熔池形貌。
[0007] 熔池是形状是固定的,变化的是垂直切割熔池的方向,都是平行于此刻在熔池底部的金属棒方向。金属棒与熔池的距离会影响熔池压缩效果,但由于具体工件形状不同,加
工位置不同,不是本发明所能限制的。但能通过增大电流来弥补距离带来的缺陷。
工位置不同,不是本发明所能限制的。但能通过增大电流来弥补距离带来的缺陷。
[0008] 发明效益
[0009] 1本发明通过调节交变电流大小,可针对各种应用场合,实现对熔池形貌的任意调节;2本发明解除了熔池形貌对工艺参数的限制,使得熔池形貌成为单独可控因素,为特种
加工参数优化提供更大范围;3可实时调节交变电流大小,在不改变工艺参数条件下,实现
特种加工应对不同工况时,加工范围的连续调整;4就激光熔覆而言,熔池形貌的控制有利
于降低涂层稀释率、增加熔池宽高比来提高涂层与基体的结合强度;5就激光焊接而言,熔
池形貌控制可大大降低熔池深度,避免焊穿,在细小精密零件中的微焊而言,极为重要;6就
激光熔凝而言,提高熔池的宽度有利于扩大单次熔凝面积,大大提高工作效率。
加工参数优化提供更大范围;3可实时调节交变电流大小,在不改变工艺参数条件下,实现
特种加工应对不同工况时,加工范围的连续调整;4就激光熔覆而言,熔池形貌的控制有利
于降低涂层稀释率、增加熔池宽高比来提高涂层与基体的结合强度;5就激光焊接而言,熔
池形貌控制可大大降低熔池深度,避免焊穿,在细小精密零件中的微焊而言,极为重要;6就
激光熔凝而言,提高熔池的宽度有利于扩大单次熔凝面积,大大提高工作效率。
附图说明
[0010] 图1:熔池形貌主动干预电磁装备正视图。
[0011] 图中包括,1试样台;2‑1、2‑2金属环;3阶梯面;4‑1、4‑2垫片;5‑1、5‑2螺母;6‑1、6‑2导电栓;
[0012] 图2:电磁装备半剖图。
[0013] 图3:电磁装备俯视图。金属棒为水平放置两金属环间,通过金属弹片与两金属环接触导电。
[0014] 图中包括,7电机;
[0015] 图4:关键零件示意图。
[0016] 图中包括,8‑1、8‑2金属弹片;9金属棒。
[0017] 图5:熔池内部洛伦兹力分布原理图。
[0018] 图中包括,(a)0~1/2周期熔池横截面,(b)0~1/2周期熔池纵截面,(c)1/2~1周期熔池横截面,(d)1/2~1周期熔池纵截面。
具体实施方式
[0019] 为更好的阐述本发明的实施细节,下面结合附图1对本发明的一种熔池形貌主动干预电磁装备进行详细说明。
[0020] 本发明的一种熔池形貌主要干预电磁装备,包括试样台1、金属环2‑1,2‑2、垫片4‑1,4‑2、螺母5‑1,5‑2、导电栓6‑1,6‑2、电机7、金属弹片8‑1,8‑2和金属棒9组成。金属环2‑1,
2‑2由导电栓6‑1,6‑2、垫片4‑1,4‑2和螺母5‑1,5‑2固定在绝缘试样台上1,导电栓6‑1,6‑2
尾部穿透试样台1一侧,作为外部导电接口。金属棒6轴向中心位于两金属环2‑1,2‑2圆心同
一垂线,并与电机7连接。电机7位于试样台底部,其中心与金属环2‑1,2‑2中心位于同一垂
线。通过首尾处金属弹片8‑1,8‑2,金属棒9分别与上下两金属环2‑1,2‑2接触,外部交流电
源通过双U形导线与导电栓6‑1,6‑2尾部连接,可整体实现封闭回路。试样台上表面对称铣
出2个阶梯面,工件可水平放置在阶梯面上进行电磁干预加工。通电后旋转金属棒产生一个
以其为圆心的环形磁场,作用于熔池内形成感应电流。感应电流在磁场下生成洛伦兹力,垂
直作用的熔池外表面,改变熔池高度、深度及宽度,最终实现对熔池形貌的主动干预。
2‑2由导电栓6‑1,6‑2、垫片4‑1,4‑2和螺母5‑1,5‑2固定在绝缘试样台上1,导电栓6‑1,6‑2
尾部穿透试样台1一侧,作为外部导电接口。金属棒6轴向中心位于两金属环2‑1,2‑2圆心同
一垂线,并与电机7连接。电机7位于试样台底部,其中心与金属环2‑1,2‑2中心位于同一垂
线。通过首尾处金属弹片8‑1,8‑2,金属棒9分别与上下两金属环2‑1,2‑2接触,外部交流电
源通过双U形导线与导电栓6‑1,6‑2尾部连接,可整体实现封闭回路。试样台上表面对称铣
出2个阶梯面,工件可水平放置在阶梯面上进行电磁干预加工。通电后旋转金属棒产生一个
以其为圆心的环形磁场,作用于熔池内形成感应电流。感应电流在磁场下生成洛伦兹力,垂
直作用的熔池外表面,改变熔池高度、深度及宽度,最终实现对熔池形貌的主动干预。
[0021] 一种熔池形貌主动干预电磁装备,其特征在于,由工件放置于试样台阶梯面,通电后旋转金属棒产生一个以其为圆心的环形磁场,作用于熔池内形成感应电流。感应电流在
磁场下生成洛伦兹力,垂直作用的熔池外表面,改变熔池高度、深度及宽度,最终实现对熔
池形貌的主动干预。
磁场下生成洛伦兹力,垂直作用的熔池外表面,改变熔池高度、深度及宽度,最终实现对熔
池形貌的主动干预。
[0022] 实施实例一:
[0023] 采用YLS‑2000‑TR型激光器,在IN718合金表面熔覆一层IN718涂层。主要加工参数为:光斑直径2mm,激光功率1000W,扫描速度500mm/min,送粉率0.3g/min。在不启动电磁装
备的状态下,熔覆一道长40mm的单道涂层,后打开电磁装备,电机转速3000r/min,交变电流
100A、300A和600A。熔覆后测量横截面熔宽、熔高、熔深,计算稀释率及宽高比,见表一。从表
一可以发现,随着交变电流强度的增加,稀释率和宽高比明显改善,涂层结合强度、质量更
好。
备的状态下,熔覆一道长40mm的单道涂层,后打开电磁装备,电机转速3000r/min,交变电流
100A、300A和600A。熔覆后测量横截面熔宽、熔高、熔深,计算稀释率及宽高比,见表一。从表
一可以发现,随着交变电流强度的增加,稀释率和宽高比明显改善,涂层结合强度、质量更
好。
[0024] 表一 熔覆层形貌数据汇总
[0025] 电流A 熔宽mm 熔高mm 熔深mm 稀释率 宽高比0 2.254 1.325 2.224 0.627 0.635
100 2.523 1.02 1.568 0.606 0.975
300 3.254 0.803 0.875 0.521 1.939
600 3.654 0.547 0.235 0.301 4.673
100 2.523 1.02 1.568 0.606 0.975
300 3.254 0.803 0.875 0.521 1.939
600 3.654 0.547 0.235 0.301 4.673
[0026] 实施实例二:
[0027] 采用YLS‑2000‑TR型激光器,在IN718合金表面进行熔凝实验。主要加工参数为:光斑直径2mm,激光功率1000W,扫描速度500mm/min。在不启动电磁装备的状态下,熔覆一道长
40mm的单道涂层,后打开电磁装备,电机转速3000r/min,交变电流100A、300A和600A。熔覆
后测量横截面熔宽见表二。从表二可以发现,随着交变电流强度的增加,熔池宽度为递增趋
势。当电流为600A时,熔宽增加了88.12%,有效提高了单次熔凝面积,益于生产效率。
40mm的单道涂层,后打开电磁装备,电机转速3000r/min,交变电流100A、300A和600A。熔覆
后测量横截面熔宽见表二。从表二可以发现,随着交变电流强度的增加,熔池宽度为递增趋
势。当电流为600A时,熔宽增加了88.12%,有效提高了单次熔凝面积,益于生产效率。
[0028] 表二 熔凝形貌数据汇总
[0029]电流A 熔宽mm
0 1.524
100 2.124
300 2.365
600 2.867
0 1.524
100 2.124
300 2.365
600 2.867