面板及其制备方法、触控显示屏和电子设备

摘要

本发明涉及一种面板及其制备方法、触控显示屏和电子设备，该面板的制备方法包括如下步骤：提供基板，基板包括相背设置的第一表面和第二表面；在第一表面设置感光导电膜；提供掩膜板，掩膜板包括完全显影区、第一区域和第二区域，第一区域和第二区域通过完全显影区间隔设置，利用掩膜板对感光导电膜进行曝光；对曝光后的感光导电膜进行显影，以使感光导电膜与完全显影区相对的区域被完全显影，并使感光导电膜与第一区域相对的区域经显影处理所形成的第一掩膜图案的厚度，与感光导电膜与第二区域相对的区域经显影处理所形成的第二掩膜图案的厚度不等。本发明可以根据掩膜图案厚度的不同来使得导电层不同区域的电阻值不同。

权利要求

1.一种面板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供基板，所述基板包括相背设置的第一表面和第二表面；

在所述第一表面设置感光导电膜；

提供掩膜板，所述掩膜板包括完全显影区和显影保留区，所述显影保留区包括第一保留区和第二保留区，所述第一保留区和所述第二保留区通过所述完全显影区间隔设置，所述第一保留区包括第一区域，所述第二保留区包括第二区域，所述第一区域的透光率和所述第二区域的透光率不等；将所述掩膜板设置为与所述感光导电膜相对，并利用所述掩膜板对所述感光导电膜进行曝光；以及对曝光后的所述感光导电膜进行显影，以使所述感光导电膜与所述完全显影区相对的区域被完全显影，并使所述感光导电膜与所述第一区域相对的区域经显影处理所形成的第一掩膜图案的厚度，与所述感光导电膜与所述第二区域相对的区域经显影处理所形成的第二掩膜图案的厚度不等。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述第一保留区包括至少一个与所述第一区域邻接的第三区域，所述第三区域包括至少一个子区域，所述第一区域、至少一个子区域中邻设的两个区域透光率不等；

在对曝光后的所述感光导电膜进行显影时，使所述感光导电膜与每一所述子区域相对的区域形成第三掩膜图案，相邻两个所述第三掩膜图案的厚度不等，所述第三掩膜图案的厚度与所述第一掩膜图案的厚度不等。

3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述感光导电膜为正性膜，所述完全显影区完全透光，所述第一区域和所述第二区域皆部分透光，或者，所述第一区域和所述第二区域中的一者部分透光，另一者不透光。

4.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述感光导电膜为负性膜，所述完全显影区不透光，所述第一区域和所述第二区域皆部分透光；或者，所述第一区域和所述第二区域中的一者部分透光，另一者完全透光。

5.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述第一区域位于所述第二区域的相对两侧，所述感光导电膜为正性膜，所述第一区域的透光率小于所述第二区域的透光率；在对曝光后的所述感光导电膜进行显影时，使所述第一掩膜图案的厚度大于所述第二掩膜图案的厚度；或者所述第一区域位于所述第二区域的相对两侧，所述感光导电膜为负性膜，且所述第一区域的透光率大于所述第二区域的透光率；在对曝光后的所述感光导电膜进行显影时，使所述第一掩膜图案的厚度大于所述第二掩膜图案的厚度。

6.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述第一保留区包括两个第四区域，所述第一保留区相异于所述第四区域的区域为所述第一保留区的中心区域，所述第四区域设置于所述中心区域相对的两侧；所述第四区域的透光率从远离所述中心区域的一侧向靠近所述中心区域的一侧逐渐增大或减小至与所述中心区域相连于所述第四区域的区域的透光率相等；

在对曝光后的所述感光导电膜进行显影时，使所述感光导电膜与所述中心区域相对的区域经显隐形成中心掩膜图案，使所述感光导电膜与所述第四区域相对的区域经显影形成第四掩膜图案；其中，所述中心掩膜图案远离所述第一表面的且与所述第四掩膜图案相连的图案面为第一图案面，所述第四掩膜图案具有连接所述第一表面与所述第一图案面的第一侧面，在由所述第一表面至所述第一图案面的方向上，所述第一侧面被平行于所述第一表面的参考平面所截图形与所述中心掩膜图案的距离逐渐减小。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述感光导电膜为正性膜，所述第四区域的透光率从远离所述中心区域的一侧向靠近所述中心区域的一侧由100％逐渐减小；

或者，所述感光导电膜为负性膜，所述第四区域的透光率从远离所述中心区域的一侧向靠近所述中心区域的一侧由0％逐渐增加。

8.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述第一区域和所述第二区域沿第一方向延伸，在对曝光后的所述感光导电膜进行显影时，使所述第一掩膜图案的延伸方向和所述第二掩膜图案的延伸方向沿所述第一方向延伸，所述第一掩膜图案与所述第二掩膜图案形成第一导电层，在对曝光后的所述感光导电膜进行显影的步骤之后，所述制备方法还包括如下步骤：在所述第二表面设置第二导电层，使所述第一导电层和所述第二导电层形成耦合电容，得到具有触控功能的触控面板；所述第二导电层包括多个平行间隔设置的电极图案，所述电极图案沿与所述第一方向交叉的第二方向延伸。

9.一种面板，其特征在于，包括：

基板，包括相背设置的第一表面和第二表面；以及

第一导电层，设于所述第一表面且包含感光导电膜，所述第一导电层包括间隔设置的第一图案区和第二图案区；所述第一图案区包括第一掩膜图案，所述第二图案区包括第二掩膜图案，所述第一掩膜图案与第二掩膜图案厚度不等。

10.根据权利要求9所述的面板，其特征在于，所述第一图案区包括至少一个与所述第一掩膜图案邻接的邻接图案，所述邻接图案包括至少一个第三掩膜图案，相邻两个所述第三掩膜图案的厚度不等，所述第三掩膜图案的厚度与所述第一掩膜图案的厚度不等。

11.根据权利要求9或10所述的面板，其特征在于，所述第一掩膜图案位于所述第二掩膜图案的相对两侧，且所述第一掩膜图案的厚度大于所述第二掩膜图案的厚度。

12.根据权利要求9或10所述的面板，其特征在于，所述第一图案区包括两个第四掩膜图案，所述第一图案区相异于所述第四掩膜图案的图案为所述第一图案区的中心掩膜图案，所述第四掩膜图案设于所述中心掩膜图案相对的两侧；所述中心掩膜图案远离所述第一表面的且与所述第四掩膜图案相连的端面为第一图案面，所述第四掩膜图案具有连接所述第一表面与所述第一图案面的第一侧面，在由所述第一表面至所述第一图案面的方向上，所述第一侧面被平行于所述第一表面的参考平面所截图形与所述中心掩膜图案的距离逐渐减小。

13.根据权利要求9或10所述的面板，其特征在于，所述基板为柔性基板，所述面板为柔性电路板；或者，所述面板为触控面板，所述第一掩膜图案的延伸方向和所述第二掩膜图案的延伸方向沿第一方向延伸，所述面板包括第二导电层，所述第二导电层设置于所述第二表面，所述第二导电层包括多个平行间隔设置的电极图案，所述电极图案沿与所述第一方向交叉的第二方向延伸，所述第一导电层和所述第二导电层形成耦合电容。

14.一种触控显示屏，其特征在于，包括：

显示面板；以及

如权利要求13所述的触控面板，叠设于所述显示面板。

15.一种电子设备，其特征在于，包括：

终端本体；以及

如权利要求14所述的触控显示屏，与所述终端本体连接。

说明书

面板及其制备方法、触控显示屏和电子设备

技术领域

[0001] 本发明涉及电子件，特别是涉及一种面板及其制备方法、触控显示屏和电子设备。

背景技术

[0002] 相关技术中，在电路板的线路层制造工艺中，会先提供基板，然后依次对基板进行镀膜、压干膜、曝光、显影、蚀刻、剥膜等工艺。然而，经上述工艺最终制备得到的线路层中的各个线路图案的厚度基本相同，导致线路层不同区域的电阻保持一致，无法调节电阻大小，且线路层的视觉效果较差。

发明内容

[0003] 基于此，有必要提供一种面板及其制备方法、触控显示屏和电子设备，以解决线路层不同区域的电阻相等，且线路层的视觉效果较差的问题。

[0004] 一种面板的制备方法，包括如下步骤：

[0005] 提供基板，所述基板包括相背设置的第一表面和第二表面；

[0006] 在所述第一表面设置感光导电膜；

[0007] 提供掩膜板，所述掩膜板包括完全显影区和显影保留区，所述显影保留区包括第一保留区和第二保留区，所述第一保留区和所述第二保留区通过所述完全显影区间隔设置，所述第一保留区包括第一区域，所述第二保留区包括第二区域，所述第一区域的透光率和所述第二区域的透光率不等；将所述掩膜板设置为与所述感光导电膜相对，并利用所述掩膜板对所述感光导电膜进行曝光；以及

[0008] 对曝光后的所述感光导电膜进行显影，以使所述感光导电膜与所述完全显影区相对的区域被完全显影，并使所述感光导电膜与所述第一区域相对的区域经显影处理所形成的第一掩膜图案的厚度，与所述感光导电膜与所述第二区域相对的区域经显影处理所形成的第二掩膜图案的厚度不等。

[0009] 上述面板的制备方法，由于感光导电膜(例如可转印透明导电膜)具有可弯折性、导电性和高透明性，故其可替代ITO通过曝光和显影即可制备得到本发明的导电层，省去镀膜、蚀刻和剥膜等工艺，简化了感光导电膜经显隐后所形成的导电层的形成工艺。而且，由于形成的导电层包括第一掩膜图案和第二掩膜图案，且第一掩膜图案和第二掩膜图案厚度不等，故可以根据掩膜图案厚度的不同来使得导电层不同区域的电阻值不同，其中，掩膜图案越厚，电阻越小。另外，厚度不等的掩膜图案还能够提升导电层的外观视觉效果。

[0010] 在其中一个实施例中，所述第一保留区包括至少一个与所述第一区域邻接的第三区域，所述第三区域包括至少一个子区域，所述第一区域、至少一个子区域中邻设的两个区域透光率不等；

[0011] 在对曝光后的所述感光导电膜进行显影时，使所述感光导电膜与每一所述子区域相对的区域形成第三掩膜图案，相邻两个所述第三掩膜图案的厚度不等，所述第三掩膜图案的厚度与所述第一掩膜图案的厚度不等。

[0012] 如此，能够进一步提升线路图案的视觉效果。

[0013] 在其中一个实施例中，所述感光导电膜为正性膜，所述完全显影区完全透光，所述第一区域和所述第二区域皆部分透光，或者，所述第一区域和所述第二区域中的一者部分透光，另一者不透光。如此，合理排布掩膜板中完全透光区、部分透光区和不透光区的位置，即可通过掩膜板在需要调整电阻的区域调整该区域掩膜图案的厚度。

[0014] 在其中一个实施例中，所述感光导电膜为负性膜，所述完全显影区不透光，所述第一区域和所述第二区域皆部分透光；或者，所述第一区域和所述第二区域中的一者部分透光，另一者完全透光。如此，合理排布掩膜板中完全透光区、部分透光区和不透光区的位置，即可通过掩膜板在需要调整电阻的区域调整该区域掩膜图案的厚度。

[0015] 在其中一个实施例中，所述第一区域位于所述第二区域的相对两侧，所述感光导电膜为正性膜，所述第一区域的透光率小于所述第二区域的透光率；在对曝光后的所述感光导电膜进行显影时，使所述第一掩膜图案的厚度大于所述第二掩膜图案的厚度；或者所述第一区域位于所述第二区域的相对两侧，所述感光导电膜为负性膜，且所述第一区域的透光率大于所述第二区域的透光率；在对曝光后的所述感光导电膜进行显影时，使所述第一掩膜图案的厚度大于所述第二掩膜图案的厚度。如此，感光导电膜被显影后与第一区域相对的区域所形成的第一掩膜图案相当于导电层中的外围图案，感光导电膜与第二区域相对的区域被部分显影所形成的掩膜图案相当于内侧图案，上述外围图案的厚度值大于内侧图案的厚度值，方便在外围图案上设置走线，且还能对内侧图案起到防护作用，并还能够提升内侧图案的线路视觉效果。

[0016] 在其中一个实施例中，所述第一保留区包括两个第四区域，所述第一保留区相异于所述第四区域的区域为所述第一保留区的中心区域，所述第四区域设置于所述中心区域相对的两侧；所述第四区域的透光率从远离所述中心区域的一侧向靠近所述中心区域的一侧逐渐增大或减小至与所述中心区域相连于所述第四区域的区域的透光率相等；

[0017] 在对曝光后的所述感光导电膜进行显影时，使所述感光导电膜与所述中心区域相对的区域经显隐形成中心掩膜图案，使所述感光导电膜与所述第四区域相对的区域经显影形成第四掩膜图案；其中，所述中心掩膜图案远离所述第一表面的且与所述第四掩膜图案相连的图案面为第一图案面，所述第四掩膜图案具有连接所述第一表面与所述第一图案面的第一侧面，在由所述第一表面至所述第一图案面的方向上，所述第一侧面被平行于所述第一表面的参考平面所截图形与所述中心掩膜图案的距离逐渐减小。如此，第一侧面朝向内侧倾斜，可以避免过显影而挖空中心掩膜图案，故可以提升中心掩膜图案与基板的附着力。

[0018] 在其中一个实施例中，所述感光导电膜为正性膜，所述第四区域的透光率从远离所述中心区域的一侧向靠近所述中心区域的一侧由100％逐渐减小；或者，所述感光导电膜为负性膜，所述第四区域的透光率从远离所述中心区域的一侧向靠近所述中心区域的一侧由0％逐渐增加。如此，可得到第四掩膜图案。

[0019] 在其中一个实施例中，所述第一区域和所述第二区域沿第一方向延伸，在对曝光后的所述感光导电膜进行显影时，使所述第一掩膜图案的延伸方向和所述第二掩膜图案的延伸方向沿所述第一方向延伸，所述第一掩膜图案与所述第二掩膜图案形成第一导电层，在对曝光后的所述感光导电膜进行显影的步骤之后，所述制备方法还包括如下步骤：

[0020] 在所述第二表面设置第二导电层，使所述第一导电层和所述第二导电层形成耦合电容，得到具有触控功能的触控面板；所述第二导电层包括多个平行间隔设置的电极图案，所述电极图案沿与所述第一方向交叉的第二方向延伸。

[0021] 一种面板，包括：

[0022] 基板，包括相背设置的第一表面和第二表面；以及

[0023] 第一导电层，设于所述第一表面且包含感光导电膜，所述第一导电层包括间隔设置的第一图案区和第二图案区；所述第一图案区包括第一掩膜图案，所述第二图案区包括第二掩膜图案，所述第一掩膜图案与第二掩膜图案厚度不等。

[0024] 上述面板，由于形成的第一导电层包括第一掩膜图案和第二掩膜图案，且第一掩膜图案和第二掩膜图案厚度不等，故可以根据掩膜图案厚度的不同来使得第一导电层不同区域的电阻值不同，其中，掩膜图案越厚，电阻越小。另外，厚度不等的掩膜图案还能够提升第一导电层的外观视觉效果。

[0025] 在其中一个实施例中，所述第一图案区包括至少一个与所述第一掩膜图案邻接的邻接图案，所述邻接图案包括至少一个第三掩膜图案，相邻两个所述第三掩膜图案的厚度不等，所述第三掩膜图案的厚度与所述第一掩膜图案的厚度不等。如此，可以进一步提高第一导电层的线路视觉效果。

[0026] 在其中一个实施例中，所述第一掩膜图案位于所述第二掩膜图案的相对两侧，且所述第一掩膜图案的厚度大于所述第二掩膜图案的厚度。如此，第一掩膜图案相当于第一导电层的外围图案，第二掩膜图案相当于第一导电层的内侧图案，外围图案的厚度值大于内侧图案的厚度值，方便在外围图案上设置走线，且还能对内侧图案起到防护作用，并还能够提升内侧图案的线路视觉效果。

[0027] 在其中一个实施例中，所述第一图案区包括两个第四掩膜图案，所述第一图案区相异于所述第四掩膜图案的图案为所述第一图案区的中心掩膜图案，所述第四掩膜图案设于所述中心掩膜图案相对的两侧；所述中心掩膜图案远离所述第一表面的且与所述第四掩膜图案相连的端面为第一图案面，所述第四掩膜图案具有连接所述第一表面与所述第一图案面的第一侧面，在由所述第一表面至所述第一图案面的方向上，所述第一侧面被平行于所述第一表面的参考平面所截图形与所述中心掩膜图案的距离逐渐减小。如此，第一侧面朝向内侧倾斜，可避免过显影而挖空中心掩膜图案，故可以提升中心掩膜图案与基板的附着力。

[0028] 在其中一个实施例中，所述基板为柔性基板，所述面板为柔性电路板。如此，柔性电路板不仅具备较好的弯折性能，还具有较好的线路视觉效果。

[0029] 在其中一个实施例中，所述面板为触控面板，所述第一掩膜图案的延伸方向和所述第二掩膜图案的延伸方向沿第一方向延伸，所述面板包括第二导电层，所述第二导电层设置于所述第二表面，所述第二导电层包括多个平行间隔设置的电极图案，所述电极图案沿与所述第一方向交叉的第二方向延伸，所述第一导电层和所述第二导电层形成耦合电容。触控面板具备较好的线路视觉效果。

[0030] 一种触控显示屏，包括：

[0031] 显示面板；以及

[0032] 上述触控面板，叠设于所述显示面板。

[0033] 上述触控显示屏备较好的弯折性能并能够满足不同区域电阻需求。

[0034] 一种电子设备，包括：

[0035] 终端本体；以及

[0036] 上述触控显示屏，与所述终端本体连接。

[0037] 上述触控显示屏备较好的弯折性能并能够满足不同区域电阻需求。

附图说明

[0038] 图1为本发明一实施例提供的面板的结构示意图；

[0039] 图2为沿图1中剖面线Ⅱ-Ⅱ的剖面结构示意图；

[0040] 图3为本发明一实施例提供的触控面板的结构示意图；

[0041] 图4为本发明一实施例提供的触控显示屏的结构示意图；

[0042] 图5为本发明一实施例提供的电子设备的结构示意图；

[0043] 图6为本发明一实施例提供的面板的制备流程示意图；

[0044] 图7为利用半色调掩膜板对可转印透明导电膜曝光的示意图。

具体实施方式

[0045] 为使本发明的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本发明的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本发明。但是本发明能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本发明内涵的情况下做类似改进，因此本发明不受下面公开的具体实施的限制。

[0046] 需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。

[0047] 除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体地实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

[0048] 参考图1和图2，本申请一实施例的面板10包括基板100和第一导电层200。基板100的材质为柔性绝缘材料，例如聚酰亚胺(Polyimide，PI)、聚碳酸酯(PC)、聚醚砜(PES)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、多芳基化合物(PAR)或玻璃纤维增强塑料(FRP)等聚合物材料形成，但不限定于此。当基板100的材料为聚酰亚胺(Polyimide，PI)，特别是无色聚酰亚胺(Colorless Polyimide，CPI)时，其具有较好的耐弯折和绝缘性能。基板100包括相背设置的第一表面110和第二表面120。

[0049] 第一导电层200设于第一表面110且包含感光导电膜，感光导电膜可直接感光以进行曝光，曝光后再经过显影即可形成所述第一导电层200，无需进行贴干膜和显影后的蚀刻工艺，感光导电膜例如可以为可转印透明导电膜(Transparent Conductive transfer film，TCTF)，也即第一导电层200由可转印透明导电膜经曝光和显影之后形成。形成的第一导电层200可以作为线路层使用，此时面板10可以为柔性电路板(FPC)，由于可转印透明导电膜具有可弯折性和导电性，故制作得到的柔性电路板也具有较好的可弯折性能。

[0050] 参考图2所示，在一实施例中，第一导电层200包括间隔设置的第一图案区200a和第二图案区200b，第一图案区200a包括第一掩膜图案210，第二图案区200b包括第二掩膜图案220，第一掩膜图案210和第二掩膜图案220的厚度不等。例如，示意的，一实施例中，第一图案区200a位于第二图案区200b的相对两侧，即第一掩膜图案210位于第二掩膜图案220的相对两侧，第一掩膜图案210的厚度值大于第二掩膜图案220的厚度值。例如图2示意了第二掩膜图案220设置于两个第一掩膜图案210之间。当然，第一掩膜图案210也可以位于第二掩膜图案220的外周以环绕第二掩膜图案220设置。另外，第一掩膜图案210和第二掩膜图案220的相对位置不作限定，第一掩膜图案210和第二掩膜图案220的数量也没有限定，第一掩膜图案210的数量也可以为多个，“多个”在此指两个及以上。

[0051] 需要说明的是，当第一掩膜图案210位于第二掩膜图案220的相对两侧时，第一掩膜图案210相当于第一导电层200中的外围图案，第二掩膜图案220相当于第一导电层200中的内侧图案，外围图案的厚度值大于内侧图案的厚度值，方便在外围图案上设置走线或绑定区，且还能对内侧图案起到防护作用，并还能够提升内侧图案的线路视觉效果。为方便理解，本发明各实施例中的厚度是指在图2所示X轴方向的尺寸值。

[0052] 本发明的面板10，由于可转印透明导电膜具有可弯折性、导电性和高透明性，故其可替代ITO通过曝光和显影即可制备得到本发明的导电层，省去镀膜、蚀刻和剥膜等工艺，简化了第一导电层200的形成工艺。而且，由于形成的第一导电层200包括多个掩膜图案，多个掩膜图案中的至少两个厚度不等，故可以根据掩膜图案厚度的不同来使得导电层不同区域的电阻值不同，其中，掩膜图案越厚，电阻越小。另外，厚度不等的掩膜图案还能够提升导电层的外观视觉效果。在一实施例中，掩膜图案的宽度值在10mm以内，电阻值可达0～9MΩ。

[0053] 在一实施例中，第一图案区200a包括至少一个与第一掩膜图案210邻接的邻接图案，图2示意了邻接图案为一个并与第一掩膜图案210的一侧连接。当然，邻接图案也可以为两个并与第一掩膜图案210相对的两侧连接。其中，邻接图案包括至少一个第三掩膜图案230(图2仅示意了一个)。第三掩膜图案230的厚度与第一掩膜图案210的厚度不等，并且当第三掩膜图案230的数量为多个时，邻接图案中的相邻两个第三掩膜图案230厚度也不等。
在一实施例中，第三掩膜图案230的厚度小于第一掩膜图案210的厚度。如此，第三掩膜图案
230与第一掩膜图案210形成台阶。

[0054] 在一实施例中，第一图案区200a还包括两个第四掩膜图案240，第一图案区200a相异于第四掩膜图案240的图案为第一图案区200a的中心掩膜图案，第四掩膜图案240设于中心掩膜图案相对的两侧。以图2所示为例，当两个第四掩膜图案240之间只设置有第一掩膜图案210时，则第一掩膜图案210为第一图案区200a的中心掩膜图案。当两个第四掩膜图案240之间设置有第一掩膜图案210和包括第三掩膜图案230的邻接图案时，则第一掩膜图案
210和邻接图案的组合为第一图案区200a的中心掩膜图案。

[0055] 需要说明的是，中心掩膜图案远离第一表面110的且与第四掩膜图案240相连的端面为第一图案面，第一掩膜图案210具有远离第一表面110的第一面211，邻接图案具有远离第一表面的第二面231。当中心掩膜图案为第一掩膜图案210时，则第一图案面为第一面211。当中心掩膜图案包括第一掩膜图案210和邻接图案时，则第一图案面为第一面211和第二面231组合形成的弯折面。

[0056] 第四掩膜图案240具有连接第一表面110与第一图案面的第一侧面241，在由第一表面110至第一图案面的方向上，第一侧面241被平行于第一表面110的参考平面所截图形与中心掩膜图案的距离逐渐减小。在一实施例中，图2示意了第一侧面241为倾斜于第一表面110的斜面，该斜面与第一表面110的夹角为30°-75°，例如45°。第四掩膜图案240基于第一侧面241的设置可以避免显影工艺时由于过显影而挖空中心掩膜图案，故可以提升中心掩膜图案与基板100的附着力。相比相关技术掩膜图案与基板100之间形成断差而言(即上述第一侧面241与第一表面110垂直)，倾斜的第一侧面241可以供过显影用，即使第一侧面241被过显影，也不会出现中心掩膜图案下端被挖空而出现悬空的现象。当然第一侧面241也可以为曲面。

[0057] 第二掩膜图案220具有远离第一表面110的第二图案面221。在一实施例中，第二图案区200b包括与第二掩膜图案220相背两侧连接的第五掩膜图案250，第五掩膜图案250具有连接第一表面110与第二图案面221的第二侧面251，在由第一表面110至第二图案面221的方向上，第二侧面251被平行于第一表面110的参考平面所截图形与第二掩膜图案220的距离逐渐减小。在一实施例中，图2示意了第二侧面251为倾斜于第一表面110的斜面，该斜面与第一表面110的夹角为30°-75°，例如45°。第五掩膜图案250基于第二侧面251可以避免显影时由于过显影而挖空第二掩膜图案220，故可以提升第二掩膜图案220与基板100的附着力。相比相关技术掩膜图案与基板100之间形成断差而言(即上述第二侧面251与第一表面110垂直)，倾斜的第二侧面251可以供过显影用，避免第二掩膜图案220下端被挖空而出现悬空的现象。当然第二侧面251也可以为曲面。

[0058] 在一实施例中，参考图3所示，面板10可以为触控面板，即面板10具有触控反馈功能。在一实施例中，第一导电层200包括多个平行的第一电极条和多个平行的第二电极条，第一电极条与第二电极条交叉设置，第一电极条在与第二电极条交叉处断开形成第一图案和第二图案。第一掩膜图案210和第二掩膜图案220属于第一电极条和第二电极条中的至少一者。此时面板10还包括依次设置于第一导电层200的绝缘层300第二导电层400，第二导电层400可以理解为架桥层，第二导电层400作为架桥穿过绝缘层300以电性连通第一图案和第二图案。当然，第二导电层400也可以叠设于基板100的第二表面120。此时第一掩膜图案210的延伸方向和第二掩膜图案220的延伸方向沿第一方向延伸，第二导电层400包括多个平行间隔设置的电极图案，电极图案沿与第一方向交叉的第二方向延伸，第一导电层200和第二导电层400形成耦合电容，以实现面板10的触控功能。

[0059] 在一实施例中，第二导电层400包含可转印透明导电膜，第二导电层400包括多个间隔设置的电极图案，多个电极图案中的至少两个厚度不等，此处的第二导电层400的结构可参照前述第一导电层200的描述，在此不再赘述。为了保护第二导电层400，第二导电层400可以通过粘胶层与保护盖板连接。

[0060] 需要说明的是，第一导电层200和第二导电层400中的一者例如是发射电极层(一般简称TX电极)，另一者例如是接收电极层(一般简称为RX电极)。为了实现面板10的触控功能，基板100上还设有多条信号线(图未示)，多条信号线分别与第一导电层200和第二导电层400电性连接，以将第一导电层200和第二导电层400的电信号传递至FPC。信号线例如可以为印刷感光或镭射得到的银线(Ag)或金线(Au)，信号线的材质在此不作限定。

[0061] 参考图4所示，当面板10可做触控面板用时，此时具有触控功能的面板10能够与显示面板20叠设贴合形成触控显示屏30。其中，显示面板10可以采用LCD(Liquid Crystal Display，液晶显示)屏用于显示信息，LCD屏可以为TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)屏幕或IPS(In-Plane Switching，平面转换)屏幕或SLCD(Splice Liquid Crystal Display，拼接专用液晶显示)屏幕。在另一实施例中，显示面板10可以采用OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机电激光显示)屏用于显示信息，OLED屏可以为AMOLED(Active Matrix Organic Light Emitting Diode，有源矩阵有机发光二极体)屏幕或Super AMOLED(Super Active Matrix Organic Light Emitting Diode，超级主动驱动式有机发光二极体)屏幕或Super AMOLED Plus(Super Active Matrix Organic Light Emitting Diode Plus，魔丽屏)屏幕，此处不再赘述。

[0062] 本发明还提供一种电子设备1000，参考图5所示，本发明将以智能手机为例对电子设备1000进行说明。本领域技术人员容易理解，本申请的电子设备1000还可以是任何具备通信和存储功能的设备，例如平板电脑、笔记本电脑、便携电话机、视频电话、数码静物相机、电子书籍阅读器、便携多媒体播放器(PMP)、移动医疗装置等智能终端，电子设备1000的表现形式在此不作任何限定。对于智能手表等可穿戴设备而言，其也同样适用于本申请各实施例的电子设备1000。

[0063] 该电子设备1000包括触控显示屏30、后盖40和中框50，触控显示屏30和后盖40连接于中框50相背的两侧并围合形成收容空间，收容空间可以用于安装电子设备1000的主板、电源等器件。后盖40与中框50形成电子设备1000的终端本体，后盖40可与中框50一体成型或可拆卸连接。触控显示屏30背向后盖40的一侧包括可显示区301，可显示区301可构成触控显示屏30背向后盖40一侧的全部或者部分，可显示区301用于图像信息显示。

[0064] 参考图6所示，本发明还提供一种面板10的制备方法，包括如下步骤：

[0065] 步骤S810，参考图7所示，提供基板100。基板100包括相背设置的第一表面110和第二表面120。基板100的材质为柔性绝缘材料，例如聚酰亚胺(Polyimide，PI)、聚碳酸酯(PC)、聚醚砜(PES)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、多芳基化合物(PAR)或玻璃纤维增强塑料(FRP)等聚合物材料形成，但不限定于此。当基板100的材料为聚酰亚胺(Polyimide，PI)，特别是无色聚酰亚胺(Colorless Polyimide，CPI)时，其具有较好的耐弯折和绝缘性能。

[0066] 步骤S820，在第一表面110设置感光导电膜200a。感光导电膜200a例如可以为可转印透明导电膜(Transparent Conductive transfer film，TCTF)，可转印透明导电膜可转印于第一表面110，转印的方法可以为可转印透明导电膜200a通过压膜工艺形成于基板100上。

[0067] 步骤S830，提供掩膜板400，掩膜板400包括完全显影区410和显影保留区420，显影保留区420包括第一保留区420a和第二保留区420b，第一保留区420a和第二保留区420b通过完全显影区410间隔设置。第一保留区420a包括第一区域421，第二保留区420b包括第二区域422，第一区域421的透光率和第二区域422的透光率不等。第一区域421的透光率和第二区域422的透光率的差值可为10％～90％，例如50％。将掩膜板400设置为与感光导电膜200a相对，并利用掩膜板400对感光导电膜200a进行曝光。

[0068] 步骤S840,对曝光后的感光导电膜200a进行显影，以使感光导电膜200a与完全显影区410相对的区域被完全显影，并使感光导电膜200a与第一区域421相对的区域经显影处理所形成的第一掩膜图案210的厚度，与感光导电膜200a与第二区域422相对的区域经显影处理所形成的第二掩膜图案220的厚度不等。

[0069] 在一实施例中，步骤S820所设置的感光导电膜200a为正性膜，步骤S830所提供的掩膜板400的完全显影区410完全透光，第一区域421和第二区域422皆部分透光，UV光线(图7中箭头所指方向即为UV光所照射的方向)能够完全穿透完全显影区410以对感光导电膜
200a与完全显影区410相对的区域完全曝光，且UV光线能够部分穿透第一区域421和第二区域422以对感光导电膜200a进行部分曝光。在步骤S840中，感光导电膜200a与完全显影区
410相对的区域能够在正性显影液的作用下被完全显影，感光导电膜200a与第一区域421和第二区域422相对的区域能够在正性显影液的作用下被部分显影并形成第一掩膜图案210和第二掩膜图案220。由于第一区域421和第二区域422的透光率不同，使得感光导电膜200a与第一区域421和第二区域422分别相对的两个区域的曝光率不同，故显影时感光导电膜
200a的上述两个区域的显影程度不同，最终可以得到厚度不等的第一掩膜图案210和第二掩膜图案220。当然，也可以将第一区域421和第二区域422设置为一者部分透光，另一者不透光。感光导电膜200a与不透光相对的区域在正性显影液的作用下不会被显影而被完全保留。

[0070] 在一实施例中，步骤S820所设置的感光导电膜200a为负性膜，步骤S830所提供的掩膜板400的完全显影区410不透光，第一区域421和第二区域422皆部分透光。在步骤S840中，感光导电膜200a与完全显影区410相对的区域能够在负性显影液的作用下被完全显影，感光导电膜200a与第一区域421和第二区域422相对的区域能够在负性显影液的作用下被部分显影并形成第一掩膜图案210和第二掩膜图案220。由于第一区域421和第二区域422的透光率不同，使得感光导电膜200a与第一区域421和第二区域422分别相对的两个区域的曝光率不同，故显影时感光导电膜200a的上述两个区域的显影程度不同，最终可以得到厚度不等的第一掩膜图案210和第二掩膜图案220。当然，也可以将第一区域421和第二区域422设置为一者部分透光，另一者完全透光。感光导电膜200a与完全透光相对的区域在负性显影液的作用下不会被显影而被完全保留。

[0071] 在一实施例中，步骤S830所提供的掩膜板400的第一区域421位于第二区域422的相对两侧，基于感光导电膜200a为正性膜，第一区域421的透光率小于第二区域422的透光率。一实施例中，第一区域421的透光率可以为0，即第一区域421不透光，第一区域421也可以部分透光，第二区域422的透光率可介于10％～90％之间。基于感光导电膜200a为正性膜，在对曝光后的感光导电膜200a进行显影时，感光导电膜200a与第一区域421相对的区域未被光照从而得到保留，感光导电膜200a与第二区域422相对的区域被部分光照而被部分显影，故得到的第一掩膜图案210的厚度大于第二掩膜图案220。

[0072] 在一实施例中，步骤S830所提供的掩膜板400的第一区域421位于第二区域422的相对两侧，基于感光导电膜200a为负性膜，第一区域421的透光率大于第二区域422的透光率。一实施例中，第一区域421的透光率可介于10％～100％之间，当第一区域421的透光率为100％时，第一区域421完全透光，第二区域422的透光率可介于10％～90％之间。在对曝光后的感光导电膜200a进行显影时，若第一区域421完全透光，感光导电膜200a与第一区域421相对的区域被光照从而完全保留，感光导电膜200a与第二区域422相对的区域被部分光照而被部分显影，故得到的第一掩膜图案210的厚度大于第二掩膜图案220。

[0073] 显影后的感光导电膜200a为第一导电层200，第一掩膜图案210相当于第一导电层200的外围图案，第二掩膜图案220相当于第一导电层200的内侧图案，外围图案的厚度大于内侧图案的厚度，方便在外围图案上设置走线或绑定区，且还能对内侧图案起到防护作用，并还能够提升内侧图案的线路视觉效果。在其它实施例中，第一掩膜图案210的厚度也可小于第二掩膜图案220的厚度。

[0074] 在一实施例中，第一保留区420a包括至少一个与第一区域421邻接的第三区域423。例如图7示意了第三区域423的数量为一个并与第一区域421连接。当然，第三区域423的数量也可以为两个并与第一区域421相对的两侧连接。其中，第三区域423包括至少一个子区域423a(图7仅示意了一个)，第一区域421、至少一个子区域423a中邻设的两个区域透光率不等。

[0075] 在对曝光后的感光导电膜200a进行显影时，使感光导电膜200a与每一子区域423a相对的区域形成第三掩膜图案230，相邻两个第三掩膜图案230的厚度不等，第三掩膜图案230的厚度与第一掩膜图案210的厚度不等。

[0076] 在一实施例中，第三掩膜图案230的厚度小于第一掩膜图案210的厚度，从而第三掩膜图案230与第一掩膜图案210能形成台阶。基于此，对于正性显影而言，需要保证每一子区域423a的透光率大于第一区域421的透光率。对于负性显影而言，需要保证每一子区域423a的透光率小于第一区域421的透光率。

[0077] 在一实施例中，第一保留区420a还包括两个第四区域424，第一保留区420a相异于第四区域424的区域为第一保留区420a的中心区域，第四区域424设置于中心区域相对的两侧。以图7所示为例，当两个第四区域424之间只设置有第一区域421时，则第一区域421为第一保留区420a的中心区域。当两个第四区域424之间设置有第一区域421和包括子区域423a的第三区域423时，则第一区域421和第三区域423的组合为第一保留区420a的中心区域。

[0078] 对于正性显影而言，第四区域424的透光率从远离中心区域的一侧向靠近中心区域的一侧逐渐减小至与中心区域相连于第四区域424的区域的透光率相等。例如，第四区域424的透光率从远离中心区域的一侧向靠近中心区域的一侧由100％逐渐减小。对于负性显影而言，第四区域424的透光率从远离中心区域的一侧向靠近中心区域的一侧逐渐增加至与中心区域相连于第四区域424的区域的透光率相等。例如，第四区域424的透光率从远离中心区域的一侧向靠近中心区域的一侧由0％逐渐增加。

[0079] 在对曝光后的感光导电膜200a进行显影时，使感光导电膜200a与中心区域相对的区域经显隐形成中心掩膜图案，使感光导电膜200a与第四区域424相对的区域经显影形成第四掩膜图案240。其中，中心掩膜图案远离第一表面的且与第四掩膜图案240相连的图案面为第一图案面，第四掩膜图案240具有连接第一表面110与第一图案面的第一侧面241，在由第一表面110至第一图案面的方向上，第一侧面241被平行于第一表面110的参考平面所截图形与中心掩膜图案的距离逐渐减小。该第一侧面241结构已在前面进行描述，此处不再赘述。

[0080] 在一实施例中，基于感光导电膜200a为正性膜，步骤S830所提供的掩膜板400的显影保留区420还包括第五区域425，第五区域425与第二区域242相对的两侧连接。在第五区域425由远离第二区域422的一侧至靠近第二区域422一侧的方向上，第五区域425的透光率由100％逐渐减小至与第二区域422的透光率相等。在对曝光后的感光导电膜200a进行显影时，使感光导电膜200a与第五区域425相对的区域经显影形成与第二掩膜图案220边缘连接的第五掩膜图案250。其中，第二掩膜图案220具有远离第一表面110的第二图案面221，第五掩膜图案250具有连接第一表面110与第二图案面221的第二侧面251，在由第一表面110至第二图案面221的方向上，第二侧面251被平行于第一表面110的参考平面所截图形与第二掩膜图案220的距离逐渐减小。具体地，当第五区域425的透光率呈线性规律变化时，第二侧面251为倾斜于第一表面110的斜面，当第五区域425的透光率呈抛物线规律变化时，第二侧面251为曲面。

[0081] 在一实施例中，基于感光导电膜200a为负性膜，步骤S830所提供的掩膜板400的显影保留区420还包括第五区域425，第五区域425与第二区域242相对的两侧连接。在第五区域425由远离第二区域422的一侧至靠近第二区域422一侧的方向上，第五区域425的透光率由0％逐渐增加至与第二区域422的透光率相等。在对曝光后的感光导电膜200a进行显影时，使感光导电膜200a与第五区域425相对的区域经显影形成与第二掩膜图案220边缘连接的第五掩膜图案250。其中，第二掩膜图案220具有远离第一表面110的第二图案面221，第五掩膜图案250具有连接第一表面110与第二图案面221的第二侧面251，在由第一表面110至第二图案面221的方向上，第二侧面251被平行于第一表面110的参考平面所截图形与第二掩膜图案220的距离逐渐减小。具体地，当第五区域425的透光率呈线性规律变化时，第二侧面251为倾斜于第一表面110的斜面，当第五区域425的透光率呈抛物线规律变化时，第二侧面251为曲面。

[0082] 在一实施例中，步骤S830所提供的掩膜板400的第一区域421和第二区域422皆沿第一方向延伸，此时经过步骤S840得到的第一掩膜图案210的延伸方向和第二掩膜图案210的延伸方向也沿第一方向延伸，第一掩膜图案210与第二掩膜图案220形成第一导电层200。此时，在步骤S840之后，还可以在第二表面120设置第二导电层，使第一导电层200和第二导电层形成耦合电容，得到具有触控功能的面板10。第二导电层包括多个平行间隔设置的电极图案，电极图案沿与第一方向交叉的第二方向延伸。

[0083] 在一实施例中，可通过合理设置掩膜板400的透光区域，使得在对曝光后的感光导电膜200a进行显影时，感光导电膜200a能够形成多个平行的第一电极条和多个平行的第二电极条，第一电极条与第二电极条交叉设置，第一电极条在与第二电极条交叉处断开形成第一图案和第二图案，第一掩膜图案210和第二掩膜图案220属于第一电极条和第二电极条中的至少一者。此时，在步骤S840之后，还可以在基板100依次设置覆盖第一电极条和第二电极条的绝缘层和第二导电层(相当于架桥层)，使架桥层穿过绝缘层以电性连通第一图案和第二图案，得到具有触控功能的触控面板。

[0084] 以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

[0085] 以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。