结型栅-漏功率器件转让专利
申请号 : CN202010735308.6
文献号 : CN111863950B
文献日 : 2021-08-20
发明人 : 毛维 , 高北鸾 , 杨翠 , 马佩军 , 张金风 , 郑雪峰 , 王冲 , 张进成 , 马晓华 , 郝跃
申请人 : 西安电子科技大学
摘要 :
本发明公开了一种结型栅‑漏功率器件，主要解决现有功率开关器件存在阈值电压低和实现高击穿电压时工艺复杂的问题，其包括：衬底(1)、过渡层(2)、势垒层(3)、栅槽(4)、漏槽(5)、P型层(6)、栅柱(7)、N型漏柱(8)、源极(11)、欧姆接触(12)、台面(14)、栅极(15)和钝化层(16)。N型漏柱内部设有P型排柱(81)；栅柱内部设有N型排柱(9)，其左侧的势垒层内与N型漏柱右侧的势垒层内均设有阵列孔(10)；N型漏柱和欧姆接触的上方设有漏极(13)；钝化层上部设有复合板(17)；钝化层和复合板的外围设有保护层(18)。本发明工艺简单、正向阻断与反向阻断好，阈值电压高，可作为开关器件。
权利要求 :
1.一种结型栅‑漏功率器件，自下而上包括：衬底(1)、过渡层(2)、势垒层(3)和钝化层(16)；势垒层(3)内部刻有栅槽(4)和漏槽(5)，其侧面刻有台面(14)，栅槽(4)上部设有栅柱(7)；栅柱(7)的上部淀积有栅极(15)，其左侧淀积有源极(11)，其特征在于：所述栅柱(7)由栅槽(4)内的P型层(6)和栅槽(4)上部的P型层(6)组成，且P型层(6)的下端完全填充在栅槽(4)内，该栅柱(7)内部注入有N型排柱(9)；
所述漏槽(5)的上部设有N型漏柱(8)，其右侧淀积有欧姆接触(12)；
所述N型漏柱(8)内部注入有P型排柱(10)，该P型排柱由w个等间隔且大小相同的长方形P柱组成，w>0；
所述N型漏柱(8)和欧姆接触(12)的上部共同淀积有漏极(13)，N型漏柱(8)、欧姆接触(12)和漏极(13)彼此电气连接，N型漏柱(8)的下端完全填充在漏槽(5)内；
所述N型排柱(9)包括m个等间距且大小相同的长方形N柱，m>0，每一个长方形N柱是由‑ +
下部的长方形N柱(91)和上部的长方形N柱(92)组成；
所述势垒层(3)，其内部在位于栅柱(7)左侧和N型漏柱(8)右侧的位置处均刻蚀有阵列孔(19)；
+
所述栅极(15)，其下边缘与所有N柱(92)的上边缘均有重合；
所述钝化层(16)，其上部在栅柱(7)和N型漏柱(8)之间的区域刻蚀有2n+1个大小相同的凹槽；凹槽上设有复合板(17)，n≥1；
所述复合板(17)，由左调制板、右调制板和2n‑1个大小相同的独立金属块构成，且下端完全填充在2n+1个凹槽内，该左调制板与源极(11)电气连接，右调制板与漏极(13)电气连接，各独立金属块彼此悬空，左调制板与栅极(15)在水平方向上交叠，右调制板与漏极(13)在水平方向上交叠，左调制板和右调制板以第n个独立金属块为中心呈左右对称分布；该复合板(17)和钝化层(16)的外围均设有保护层(18)。
2.根据权利要求1所述的器件，其特征在于栅槽(4)的长度a1大于等于2nm，其深度z1小于势垒层(3)的厚度，且z1>0。
3.根据权利要求1所述的器件，其特征在于漏槽(5)的长度a2大于等于2nm，深度为z2，z2>0。
4.根据权利要求1所述的器件，其特征在于：所述栅柱(7)，其长度大于等于4nm，其左边缘与栅槽(4)左边缘的间距为q1，其右边缘与栅槽(4)右边缘的间距为q2，且q1＝q2，栅极(15)的长度等于栅柱(7)的长度。
16
5.根据权利要求1所述的器件，其特征在于N型漏柱(8)的掺杂浓度为1×10 ～5×
20 ‑3
10 cm ，其下端完全填充在漏槽(5)内，且位于势垒层(3)以上的厚度h1为10～1200nm。
6.根据权利要求1所述的器件，其特征在于P型排柱(10)的深度为u1，漏槽(5)的深度为z2，N型漏柱(8)位于漏槽(5)以上的厚度为h1，u1
7.根据权利要求1所述的器件，其特征在于P型排柱(10)中的每个长方形P柱的宽度为O1，相邻两个长方形P柱的间距为O2，第一个长方形P柱的左边缘与N型漏柱(8)的左边缘重合，第w个长方形P柱与N型漏柱(8)的右边缘间距为O3，漏槽(5)的长度为a2，O1＝O2＝O3，且满足(2w)×(O1)＝a2。
16
8.根据权利要求7所述的器件，其特征在于P型排柱(10)的掺杂浓度为1×10 ～5×
20 ‑3
10 cm ，其掺杂浓度小于等于N型漏柱(8)的掺杂浓度。
9.根据权利要求1所述的器件，其特征在于：‑ + +
所述栅柱(7)中，N 柱(91)与N 柱(92)的宽度相同，该宽度为x1，相邻两个N 柱(92)的间+ +
距为x2，第一个N 柱(92)的左边缘与栅柱(7)的左边缘重合，第m个N柱(92)与栅柱(7)的右边缘间距为x3，栅槽(4)的长度为a1，栅柱(7)左边缘与栅槽(4)左边缘的间距为q1，其右边缘与栅槽(4)右边缘的间距为q2，x1＝x2＝x3，且满足(2m)×x1＝q1+a1+q2。
‑ +
10.根据权利要求9所述的器件，其特征在于所述N 柱(91)的深度为y1，N 柱(92)的深度为y2，P型层(6)的厚度为h2为20～1000nm，y1>0，y2>0,且y1+y2
11.根据权利要求9所述的器件，其特征在于：
16 20 ‑3 + 18
所述P型层(6)的掺杂浓度为5×10 ～5×10 cm ，N 柱(92)的掺杂浓度为1×10 ～5
20 ‑3 ‑ 11 18 ‑3 ‑ +×10 cm ，N柱(91)的掺杂浓度为1×10 ～1×10 cm ，且N柱(91)的掺杂浓度均小于N柱(92)的掺杂浓度和P型层(6)的掺杂浓度。
12.根据权利要求1所述的器件，其特征在于：所述阵列孔(19)，由f×g个大小相同的孔组成，f>1，g>1，每个孔由上部的长方体孔柱(191)和下部的四棱锥(192)构成，相邻两个孔的间距k3为0.5～3μm，最外围孔与源极(11)或欧姆接触(12)的边界间距k1为1～4μm；
所述孔柱(191)的上表面和下表面均为正方形，该正方形的边长k2为0.5～2μm，孔柱(191)深度r为2～20nm，且孔柱(191)的下表面与四棱锥(192)的上表面重合；
所述四棱锥(192)的深度e为1～35nm，且四个侧面均相同。
13.根据权利要求1所述的器件，其特征在于源极(11)和欧姆接触(12)的长度均为LO，宽度均为WO，漏槽(5)的长度为a2，漏极(13)的长度为a2+LO，宽度为WO。
14.根据权利要求1所述的器件，其特征在于，所述漏极(13)采用多层金属组合，且最下层金属的功函数大于5eV，该最下层金属与P型排柱(10)中每个长方形P柱接触形成的势垒高度小于其与N型漏柱(8)接触形成的势垒高度。
15.根据权利要求1所述的器件，其特征在于，所述栅极(15)采用多层金属组合，且下层金属的功函数小于5eV，该下层金属与N型排柱(9)中每个长方形N柱接触形成的势垒高度小于其与P型层(6)接触形成的势垒高度。
16.根据权利要求1所述的器件，其特征在于，钝化层(16)上的各凹槽大小相同，每个凹槽的深度d均大于0μm，且小于钝化层(16)的厚度，每个凹槽的宽度a3为0.1～4μm。
17.根据权利要求1所述的器件，其特征在于，以第n个独立金属块为对称轴，在对称轴左侧，左调制板与其第一个独立金属块的间距为S1，第一个独立金属块与第二个独立金属块的间距为S2，以此类推，第n‑1个独立金属块与第n个独立金属块的间距为Sn，S1
18.根据权利要求1所述的器件，其特征在于，左调制板、右调制板和每个独立金属块的厚度均相同，每个独立金属块的长度t均为0.5～5μm，左调制板右边缘与栅柱(7)右边缘之间的距离等于右调制板左边缘与N型漏柱(8)左边缘之间的距离，该距离为L。
19.根据权利要求1所述的器件，其特征在于，以第n+1个凹槽为对称轴，在对称轴左侧，栅柱(7)与第一个凹槽的间距为b1，且0μm
1。
20.一种制作结型栅‑漏功率器件的方法，其特征在于，包括如下步骤：A)在衬底(1)上采用金属有机物化学气相淀积技术外延GaN基宽禁带半导体材料，形成厚度为1～10μm的过渡层(2)；
B)在过渡层(2)上采用金属有机物化学气相淀积技术外延GaN基宽禁带半导体材料，形成厚度为4～60nm的势垒层(3)；
C)制作栅槽(4)和漏槽(5)：
C1)在势垒层(3)上第一次制作掩膜，利用该掩膜在势垒层(3)内进行刻蚀，形成栅槽(4)，该栅槽(4)的深度小于势垒层(3)的厚度；
C2)在势垒层(3)和栅槽(4)上第二次制作掩膜，利用该掩膜在势垒层(3)内进行刻蚀，形成漏槽(5)；
D)在势垒层(3)上采用分子束外延技术外延P型GaN半导体材料，并填充栅槽(4)和漏槽
16 20 ‑3
(5)，形成厚度h2为20～1000nm、掺杂浓度为5×10 ～5×10 cm 的P型层(6)；
E)制作栅柱(7)和N型漏柱(8)：E1)在P型层(6)上第三次制作掩膜，利用该掩膜在P型层(6)的两侧进行刻蚀，漏槽(5)外刻蚀至势垒层(3)的上表面为止，漏槽(5)内刻蚀至其底部，形成长度大于等于4nm的栅柱(7)；
E2)在势垒层(3)和栅柱(7)上第四次制作掩膜，利用该掩膜在漏槽(5)内使用选择性外延生长技术外延N型GaN半导体材料，形成厚度h1为10～1200nm、长度大于等于2nm的N型漏柱(8)；
F)制作N型排柱(9)和P型排柱(10)：F1)在势垒层(3)、栅柱(7)和N型漏柱(8)上第五次制作掩膜，利用该掩膜在P型层(6)内‑
部使用离子注入技术注入N型杂质，形成m个等间距且大小相同的N柱(91)；
F2)继续利用F1)中的掩膜，再次使用离子注入技术注入N型杂质，形成m个等间距且大+ + ‑
小相同的N柱(92)，该m个N柱(92)与m个N柱(91)共同形成N型排柱(9)；
F3)在势垒层(3)、栅柱(7)和N型漏柱(8)上第六次制作掩膜，利用该掩膜在N型漏柱(8)内部使用离子注入技术注入P型杂质，形成w个等间距且大小相同的长方形P柱，这w个长方形P柱形成P型排柱(10)
G)制作阵列孔(19)：
G1)在势垒层(3)、栅柱(7)、N型漏柱(8)的上部第七次制作掩膜，利用该掩膜在左右两边的势垒层进行刻蚀，形成f×g个大小相同长方体孔柱(191)；
G2)在势垒层(3)、栅柱(7)、N型漏柱(8)的上部第八次制作掩膜，利用该掩膜在G1)形成的f×g个大小相同长方体孔柱(191)内进行刻蚀，形成孔柱(191)下部的四棱锥(192)，该f×g个大小相同长方体孔柱(191)与其下部的四棱锥(192)共同构成阵列孔(19)；
H)制作源极(11)和漏极(13)：H1)在势垒层(3)、栅柱(7)、N型漏柱(8)的上部第九次制作掩膜，利用该掩膜在左右两边的势垒层(3)上采用电子束蒸发技术淀积金属，且完全填充阵列孔(19)，该金属采用Gd、Zr或Ta；
H2)继续利用H1)中的掩膜，再次采用电子束蒸发技术淀积金属，并在N2气氛中进行快速热退火，该金属采用Ti/Al/Ni/Au、Ti/Al/Mo/Au或Ti/Al/Ti/Au中的一种，形成源极(11)与欧姆接触(12)；
H3)在势垒层(3)、栅柱(7)、N型漏柱(8)、源极(11)和欧姆接触(12)的上部第十次制作掩膜，再次采用电子束蒸发技术淀积金属，该金属采用多层金属组合，且最下层金属的功函数大于5eV，该最下层金属与P型排柱(10)中每个长方形P柱接触形成的势垒高度小于其与N型漏柱(8)接触形成的势垒高度，形成漏极(13)，N型漏柱(8)、欧姆接触(12)和漏极(13)彼此电气连接；
I)在势垒层(3)、栅柱(7)、源极(11)、漏极(13)上第十一次制作掩膜，利用该掩膜在源极(11)左侧与漏极(13)右侧的势垒层(3)上进行刻蚀，且刻蚀区深度大于势垒层厚度，形成台面(14)；
J)在势垒层(3)、栅柱(7)、源极(11)、漏极(13)、台面(14)的上部第十二次制作掩膜，利用该掩膜在栅柱(7)的上部采用电子束蒸发技术淀积多层金属组合，且下层金属的功函数小于5eV，该下层金属与N型排柱(9)中每个长方形N柱接触形成的势垒高度小于其与P型层(6)接触形成的势垒高度，制作栅极(15)，栅极(15)的长度等于栅柱(7)的长度；
K)在栅柱(7)、源极(11)、漏极(13)、栅极(15)的上部及其外围区域，采用等离子体增强化学气相淀积技术淀积厚度大于等于100nm的钝化层(16)；
L)在钝化层(16)上第十三次制作掩膜，利用该掩膜在栅柱(7)与N型漏柱(8)之间的钝化层(16)上刻蚀2n+1个大小相同的凹槽，n≥1；
M)在钝化层(16)和凹槽的上部第十四次制作掩膜，利用该掩膜在钝化层(16)的上部及凹槽内采用电子束蒸发技术淀积金属，且金属下端完全填充在凹槽内，依次制作左调制板、
2n‑1个独立金属块、右调制板，n≥1，且左调制板与源极(11)电气连接，右调制板与漏极(13)电气连接，各独立金属块彼此悬空，左调制板与栅极(15)在水平方向上交叠，右调制板与漏极(13)在水平方向上交叠，左调制板和右调制板以第n个独立金属块为中心呈左右对称分布，形成复合板(17)；
N)在钝化层(16)和复合板(17)的外围区域，利用绝缘介质材料采用等离子体增强化学气相淀积技术淀积保护层(18)，完成整个器件的制作。
21.根据权利要求20所述的方法，其特征在于：‑10
所述分子束外延技术，其工艺条件为：真空度小于等于1.0×10 mbar，射频功率为
400W，反应剂采用N2、高纯Ga源；
‑3
所述电子束蒸发技术，其工艺条件为：真空度小于1.8×10 Pa，功率为200～1000W，蒸发速率小于
所述等离子体增强化学气相淀积技术，其工艺条件为N2O流量为850sccm，SiH4流量为
200sccm，温度为250℃，RF功率为20～100W，压力为1100mT。
说明书 :
结型栅‑漏功率器件
技术领域
[0001] 本发明属于微电子技术领域，特别涉及一种功率开关器件，可用于作为电力电子系统的基本器件。
技术背景
技术背景
[0002] 电力电子系统广泛应用于航空航天、工业设备、电动汽车、家用电器等众多领域，功率开关器件作为电力电子系统的重要元件，是实现能量转换与控制的重要工具。因此，功
率开关器件的性能和可靠性对整个电力电子系统的各项技术指标和性能有着决定性影响。
当前，Si基功率开关器件性能已经趋近其理论极限，不能满足下一代电力电子系统高温、高
压、高频、高效和高功率密度的要求。而以GaN为代表的第三代宽禁带半导体材料，具有禁带
宽度大、饱和电子漂移速度高、临界击穿电场大、化学性质稳定的特点，在制备具有更低导
通电阻、更快开关速度、更高击穿电压的功率开关器件方面，已展现出独特的优势。特别是
基于GaN基异质结结构的高电子迁移率器件晶体管，即GaN基高电子迁移率晶体管HEMT功率
开关器件，以其优异的功率特性，在国民经济与军事领域具有广阔和特殊的应用前景。
率开关器件的性能和可靠性对整个电力电子系统的各项技术指标和性能有着决定性影响。
当前，Si基功率开关器件性能已经趋近其理论极限，不能满足下一代电力电子系统高温、高
压、高频、高效和高功率密度的要求。而以GaN为代表的第三代宽禁带半导体材料，具有禁带
宽度大、饱和电子漂移速度高、临界击穿电场大、化学性质稳定的特点，在制备具有更低导
通电阻、更快开关速度、更高击穿电压的功率开关器件方面，已展现出独特的优势。特别是
基于GaN基异质结结构的高电子迁移率器件晶体管，即GaN基高电子迁移率晶体管HEMT功率
开关器件，以其优异的功率特性，在国民经济与军事领域具有广阔和特殊的应用前景。
[0003] 传统GaN基HEMT功率开关器件是基于GaN基异质结结构，其包括：衬底、过渡层、势垒层、P型层、栅柱、源极、漏极、栅极、台面和保护层；势垒层上面的左侧淀积有源极，势垒层
上面右侧淀积有漏极，源极和漏极之间的势垒层上面外延有P型层，P型层上淀积有栅极，保
护层完全覆盖势垒层、P型层、源极、漏极和栅极以上的区域，如图1所示。
上面右侧淀积有漏极，源极和漏极之间的势垒层上面外延有P型层，P型层上淀积有栅极，保
护层完全覆盖势垒层、P型层、源极、漏极和栅极以上的区域，如图1所示。
[0004] 然而，在传统GaN基HEMT功率开关器件中，P型层中P型杂质镁的激活率很低，难以实现高掺杂的P型层，导致器件阈值电压往往低于2V。且研究表明，过高掺杂浓度的P型层又
会导致器件阈值电压的降低，参见On the physical operation and optimization of
the p‑GaN gate in normally‑off GaN HEMT devices,Applied Physics Letters,
Vol.110,No.12,pp.1‑5,2017。此外，在传统GaN基HEMT功率开关器件中，由于器件栅极靠近
漏极附近通常会形成极高电场峰，进而导致器件在施加正漏极电压时，即正向关态时，器件
正向击穿电压远低于理论预期值，且存在电流崩塌、逆压电效应等可靠性问题，严重制约其
实际应用。为了解决上述实际问题，研究者们提出了众多方法，而多层场板结构是其中效果
最为显著的一种，参见A 130‑W Boost Converter Operation Using a High‑Voltage
GaN‑HEMT,IEEE Electron Device Letters,Vol.29,No.1,pp.8‑10,2008。
会导致器件阈值电压的降低，参见On the physical operation and optimization of
the p‑GaN gate in normally‑off GaN HEMT devices,Applied Physics Letters,
Vol.110,No.12,pp.1‑5,2017。此外，在传统GaN基HEMT功率开关器件中，由于器件栅极靠近
漏极附近通常会形成极高电场峰，进而导致器件在施加正漏极电压时，即正向关态时，器件
正向击穿电压远低于理论预期值，且存在电流崩塌、逆压电效应等可靠性问题，严重制约其
实际应用。为了解决上述实际问题，研究者们提出了众多方法，而多层场板结构是其中效果
最为显著的一种，参见A 130‑W Boost Converter Operation Using a High‑Voltage
GaN‑HEMT,IEEE Electron Device Letters,Vol.29,No.1,pp.8‑10,2008。
[0005] 在当前电动汽车、功率管理系统、S类功率放大器等许多技术领域中，往往需要功率开关器件具有很强的反向阻断，即反向关态，能力，也就是希望器件在关态下具有很高的
负的漏极击穿电压，即反向击穿电压。由于传统GaN基HEMT功率开关器件的漏极为欧姆接
触，不能施加反向电压。研究者提出了一种采用肖特基漏极的功率开关器件，参见AlGaN/
GaN HEMT With Integrated Recessed Schottky‑Drain Protection Diode,IEEE
Electron Device Letters,Vol.30,No.9,pp.901‑903,2009。然而，肖特基漏极在提高器件
反向阻断特性方面的能力十分有限，因此为了进一步提高功率开关器件的反向阻断能力，
研究者们提出了一种基于源场板和漏场板的功率开关器件，以兼顾器件的正向和反向阻断
能力，参见Design optimization of high breakdown voltage AlGaN‑GaN power HEMT
on an insulating substrate for RONA‑VB tradeoff characteristics,IEEE
Transactions on Electron Devices,Vol.52,No.1,pp.106‑111,2005。此外，将双层场板
结构与基于源场板和漏场板的功率开关器件相结合，也就是采用双层场板结构的源场板和
双层场板结构的漏场板而构成源‑漏复合双层场板功率开关器件，可以实现器件正向和反
向击穿电压的进一步提升。但是，源‑漏复合双层场板功率开关器件的工艺复杂，制造成本
更高，每一层场板的制作都需要光刻、淀积金属、淀积钝化介质等工艺步骤。而且要优化各
层场板下介质材料厚度以实现击穿电压最大化，必须进行繁琐的工艺调试和优化，因此大
大增加了器件制造的难度，降低了器件的成品率。
负的漏极击穿电压，即反向击穿电压。由于传统GaN基HEMT功率开关器件的漏极为欧姆接
触，不能施加反向电压。研究者提出了一种采用肖特基漏极的功率开关器件，参见AlGaN/
GaN HEMT With Integrated Recessed Schottky‑Drain Protection Diode,IEEE
Electron Device Letters,Vol.30,No.9,pp.901‑903,2009。然而，肖特基漏极在提高器件
反向阻断特性方面的能力十分有限，因此为了进一步提高功率开关器件的反向阻断能力，
研究者们提出了一种基于源场板和漏场板的功率开关器件，以兼顾器件的正向和反向阻断
能力，参见Design optimization of high breakdown voltage AlGaN‑GaN power HEMT
on an insulating substrate for RONA‑VB tradeoff characteristics,IEEE
Transactions on Electron Devices,Vol.52,No.1,pp.106‑111,2005。此外，将双层场板
结构与基于源场板和漏场板的功率开关器件相结合，也就是采用双层场板结构的源场板和
双层场板结构的漏场板而构成源‑漏复合双层场板功率开关器件，可以实现器件正向和反
向击穿电压的进一步提升。但是，源‑漏复合双层场板功率开关器件的工艺复杂，制造成本
更高，每一层场板的制作都需要光刻、淀积金属、淀积钝化介质等工艺步骤。而且要优化各
层场板下介质材料厚度以实现击穿电压最大化，必须进行繁琐的工艺调试和优化，因此大
大增加了器件制造的难度，降低了器件的成品率。
发明内容
[0006] 本发明的目的在于针对上述现有技术的不足，提供一种结型栅‑漏功率器件，以显著提高器件的阈值电压和双向阻断电压，有效减小器件的导通电阻，降低器件的制造难度，
提高器件的可靠性。
提高器件的可靠性。
[0007] 为实现上述目的，本发明的技术方案是这样实现的：
[0008] 一、器件结构
[0009] 一种结型栅‑漏功率器件，自下而上包括：衬底1、过渡层2、势垒层3和钝化层16；势垒层3内部刻有栅槽4和漏槽5，其侧面刻有台面14，栅槽4上部设有栅柱7；栅柱7的上部淀积
有栅极15，其左侧淀积有源极11，其特征在于：
有栅极15，其左侧淀积有源极11，其特征在于：
[0010] 所述栅柱7由栅槽4内的P型层6和栅槽4上部的P型层6组成，且P型层6的下端完全填充在栅槽4内，该栅柱7内部注入有N型排柱9；
[0011] 所述漏槽5的上部设有N型漏柱8，其右侧淀积有欧姆接触12；
[0012] 所述N型漏柱8内部注入有P型排柱10，该P型排柱是由w个等间隔且大小相同的长方形P柱组成，w>0；
[0013] 所述N型漏柱8和欧姆接触12的上部共同淀积有漏极13，N型漏柱8、欧姆接触12和漏极13彼此电气连接，N型漏柱8的下端完全填充在漏槽5内；
[0014] 所述N型排柱9包括m个等间距且大小相同的长方形N柱，m>0，每一个长方形N柱是‑ +
由下部的长方形N柱91和上部的长方形N柱92组成；
由下部的长方形N柱91和上部的长方形N柱92组成；
[0015] 所述势垒层3，其内部在位于栅柱7左侧和N型漏柱8右侧的位置处均刻蚀有阵列孔19；
[0016] 所述栅极15，其下边缘与所有N+柱92的上边缘均有重合；
[0017] 所述钝化层16，其上部在栅柱7和N型漏柱8之间的区域刻蚀有2n+1个大小相同的凹槽；凹槽上设有复合板17，n≥1；
[0018] 所述复合板17，由左调制板、右调制板和2n‑1个大小相同的独立金属块构成，且下端完全填充在2n+1个凹槽内，该左调制板与源极11电气连接，右调制板与漏极13电气连接，
各独立金属块彼此悬空，左调制板与栅极15在水平方向上交叠，右调制板与漏极13在水平
方向上交叠，左调制板和右调制板以第n个独立金属块为中心呈左右对称分布；该复合板17
和钝化层16的外围均设有保护层18。
各独立金属块彼此悬空，左调制板与栅极15在水平方向上交叠，右调制板与漏极13在水平
方向上交叠，左调制板和右调制板以第n个独立金属块为中心呈左右对称分布；该复合板17
和钝化层16的外围均设有保护层18。
[0019] 进一步，所述栅槽4的长度a1大于等于2nm，其深度z1小于势垒层3的厚度，且z1>0。
[0020] 进一步，所述漏槽5的长度a2大于等于2nm，其深度为z2，z2>0。
[0021] 进一步，所述栅柱7，其长度大于等于4nm，其左边缘与栅槽4左边缘的间距为q1，其右边缘与栅槽4右边缘的间距为q2，且q1＝q2，栅极15的长度等于栅柱7的长度。
[0022] 进一步，所述N型漏柱8的掺杂浓度为1×1016～5×1020cm‑3，其下端完全填充在漏槽5内，其位于势垒层3以上的厚度h1为10～1200nm。
[0023] 进一步，所述P型排柱10的深度为u1，漏槽5的深度为z2，N型漏柱8位于漏槽5以上的厚度为h1，u1
[0024] 进一步，所述P型排柱10中的每个长方形P柱的宽度为O1，相邻两个长方形P柱的间距为O2，第一个长方形P柱的左边缘与N型漏柱8的左边缘重合，第w个长方形P柱与N型漏柱8
的右边缘间距为O3，漏槽5的长度为a2，O1＝O2＝O3，且满足(2w)×(O1)＝a2。
的右边缘间距为O3，漏槽5的长度为a2，O1＝O2＝O3，且满足(2w)×(O1)＝a2。
[0025] 进一步，所述P型排柱10的掺杂浓度为1×1016～5×1020cm‑3，其掺杂浓度小于等于N型漏柱8的掺杂浓度。
[0026] 进一步，所述栅柱7中，N‑柱91与N+柱92的宽度相同，该宽度为x1，相邻两个N+柱92+ +
的间距为x2，第一个N柱92的左边缘与栅柱7的左边缘重合，第m个N 柱92与栅柱7的右边缘
间距为x3，栅槽4的长度为a1，栅柱7左边缘与栅槽4左边缘的间距为q1，其右边缘与栅槽4右
边缘的间距为q2，x1＝x2＝x3，且满足(2m)×x1＝q1+a1+q2。
的间距为x2，第一个N柱92的左边缘与栅柱7的左边缘重合，第m个N 柱92与栅柱7的右边缘
间距为x3，栅槽4的长度为a1，栅柱7左边缘与栅槽4左边缘的间距为q1，其右边缘与栅槽4右
边缘的间距为q2，x1＝x2＝x3，且满足(2m)×x1＝q1+a1+q2。
[0027] 进一步，所述N‑柱91的深度为y1，N+柱92的深度为y2，P型层6的厚度为h2为20～1000nm，y1>0，y2>0,且y1+y2
[0028] 进一步，所述P型层6的掺杂浓度为5×1016～5×1020cm‑3，N+柱92的掺杂浓度为1×18 20 ‑3 ‑ 11 18 ‑3 ‑
10 ～5×10 cm ，N柱91的掺杂浓度为1×10 ～1×10 cm ，且N柱91的掺杂浓度均小于N
+
柱92的掺杂浓度和P型层6的掺杂浓度。
10 ～5×10 cm ，N柱91的掺杂浓度为1×10 ～1×10 cm ，且N柱91的掺杂浓度均小于N
+
柱92的掺杂浓度和P型层6的掺杂浓度。
[0029] 进一步，所述阵列孔19，由f×g个大小相同的孔组成，f>1，g>1，每个孔由上部的长方体孔柱191和下部的四棱锥192构成，相邻两个孔的间距k3为0.5～3μm，最外围孔与源极
11或欧姆接触12的边界间距k1为1～4μm；孔柱191的上表面和下表面均为正方形，该正方形
的边长k2为0.5～2μm，孔柱101深度r为2～20nm，且孔柱191的下表面与四棱锥192的上表面
重合；四棱锥192的深度e为1～35nm，且四个侧面均相同。
11或欧姆接触12的边界间距k1为1～4μm；孔柱191的上表面和下表面均为正方形，该正方形
的边长k2为0.5～2μm，孔柱101深度r为2～20nm，且孔柱191的下表面与四棱锥192的上表面
重合；四棱锥192的深度e为1～35nm，且四个侧面均相同。
[0030] 进一步，所述源极11与欧姆接触12的长度均为LO，宽度均为WO，漏槽5的长度为a2，漏极13的长度为a2+LO，宽度为WO。
[0031] 进一步，所述漏极13采用多层金属组合，且最下层金属的功函数大于5eV，该最下层金属与P型排柱10中每个长方形P柱接触形成的势垒高度小于其与N型漏柱8接触形成的
势垒高度。
势垒高度。
[0032] 进一步，所述栅极15采用多层金属组合，且最下层金属的功函数小于5eV，该最下层金属与N型排柱9中每个长方形N柱接触形成的势垒高度小于其与P型层6接触形成的势垒
高度。
高度。
[0033] 进一步，所述钝化层16上的各凹槽大小相同，每个凹槽的深度d均大于0μm，且小于钝化层16的厚度，宽度a3为0.1～4μm。
[0034] 进一步，所述复合板17，以第n个独立金属块为对称轴，在对称轴左侧，左调制板与其第一个独立金属块的间距为S1，第一个独立金属块与第二个独立金属块的间距为S2，以此
类推，第n‑1个独立金属块与第n个独立金属块的间距为Sn，S1调制板与第1个独立金属块的间距为U1，第1个独立金属块与第2个独立金属块的间距为U2，
以此类推，第n‑1个独立金属块与第n个独立金属块的间距为Un，U1＝U2，...，Sn＝Un，n≥1。
类推，第n‑1个独立金属块与第n个独立金属块的间距为Sn，S1
以此类推，第n‑1个独立金属块与第n个独立金属块的间距为Un，U1
[0035] 进一步，所述左调制板、右调制板和每个独立金属块的厚度均相同，每个独立金属块的长度t均为0.5～5μm，左调制板右边缘与栅柱7右边缘之间的距离等于右调制板左边缘
与N型漏柱8左边缘之间的距离，该距离为L。
与N型漏柱8左边缘之间的距离，该距离为L。
[0036] 进一步，所述各凹槽以第n+1个凹槽为对称轴，在对称轴左侧，栅柱7与第一个凹槽的间距为b1，且0μm与第n+1个凹槽间距为cn，c1且0μm间距为in，i1
[0037] 二、制作方法
[0038] 本发明制作结型栅‑漏功率器件的方法，其特征在于，包括如下步骤：
[0039] A)在衬底1上采用金属有机物化学气相淀积技术外延GaN基宽禁带半导体材料，形成厚度为1～10μm的过渡层2；
[0040] B)在过渡层2上采用金属有机物化学气相淀积技术外延GaN基宽禁带半导体材料，形成厚度为4～60nm的势垒层3；
[0041] C)制作栅槽4和漏槽5：
[0042] C1)在势垒层3上第一次制作掩膜，利用该掩膜在势垒层3内进行刻蚀，形成栅槽4，该栅槽4的深度小于势垒层3的厚度；
[0043] C2)在势垒层3和栅槽4上第二次制作掩膜，利用该掩膜在势垒层3内进行刻蚀，形成漏槽5；
[0044] D)在势垒层3上采用分子束外延技术外延P型GaN半导体材料，并填充栅槽4和漏槽16 20 ‑3
5，形成厚度h2为20～1000nm、掺杂浓度为5×10 ～5×10 cm 的P型层6；
5，形成厚度h2为20～1000nm、掺杂浓度为5×10 ～5×10 cm 的P型层6；
[0045] E)制作栅柱7和N型漏柱8：
[0046] E1)在P型层6上第三次制作掩膜，利用该掩膜在P型层6的两侧进行刻蚀，漏槽5外刻蚀至势垒层3的上表面为止，漏槽5内刻蚀至其底部，形成长度大于等于4nm的栅柱7；
[0047] E2)在势垒层3和栅柱7上第四次制作掩膜，利用该掩膜在漏槽5内使用选择性外延生长技术外延N型GaN半导体材料，形成厚度h1为10～1200nm、长度大于等于2nm的N型漏柱
8；
8；
[0048] F)制作N型排柱9和P型排柱10：
[0049] F1)在势垒层3、栅柱7和N型漏柱8上第五次制作掩膜，利用该掩膜在P型层6内部使‑
用离子注入技术注入N型杂质，形成m个等间距且大小相同的N柱91；
用离子注入技术注入N型杂质，形成m个等间距且大小相同的N柱91；
[0050] F2)继续利用F1)中的掩膜，再次使用离子注入技术注入N型杂质，形成m个等间距+ + ‑
且大小相同的N柱92，该m个N柱92与m个N柱91共同形成N型排柱9；
且大小相同的N柱92，该m个N柱92与m个N柱91共同形成N型排柱9；
[0051] F3)在势垒层3、栅柱7和N型漏柱8上第六次制作掩膜，利用该掩膜在N型漏柱8内部使用离子注入技术注入P型杂质，形成w个等间距且大小相同的长方形P柱，这w个长方形P柱
形成P型排柱10；
形成P型排柱10；
[0052] G)制作阵列孔19：
[0053] G1)在势垒层3、栅柱7、N型漏柱8的上部第七次制作掩膜，利用该掩模在左右两边的势垒层进行刻蚀，形成f×g个大小相同长方体孔柱191；
[0054] G2)在势垒层3、栅柱7、N型漏柱8的上部第八次制作掩膜，利用该掩模在G1)形成的f×g个大小相同长方体孔柱191内进行刻蚀，形成孔柱191下部的四棱锥192，该f×g个大小
相同长方体孔柱191与其下部的四棱锥192共同构成阵列孔19；
相同长方体孔柱191与其下部的四棱锥192共同构成阵列孔19；
[0055] H)制作源极11和漏极13：
[0056] H1)在势垒层3、栅柱7、N型漏柱8的上部第九次制作掩膜，利用该掩模在左右两边的势垒层3上采用电子束蒸发技术淀积金属，且完全填充阵列孔19，该金属采用Gd、Zr或Ta；
[0057] H2)继续利用H1)中的掩膜，再次采用电子束蒸发技术淀积金属，并在N2气氛中进行快速热退火，该金属采用Ti/Al/Ni/Au、Ti/Al/Mo/Au或Ti/Al/Ti/Au中的一种，形成源极
11与欧姆接触12；
11与欧姆接触12；
[0058] H3)在势垒层3、栅柱7、N型漏柱8、源极11和欧姆接触12的上部第十次制作掩膜，再次采用电子束蒸发技术淀积金属，该金属采用多层金属组合，且最下层金属的功函数大于
5eV，该最下层金属与P型排柱10中每个长方形P柱接触形成的势垒高度小于其与N型漏柱8
接触形成的势垒高度，形成漏极13，N型漏柱8、欧姆接触12和漏极13彼此电气连接；
5eV，该最下层金属与P型排柱10中每个长方形P柱接触形成的势垒高度小于其与N型漏柱8
接触形成的势垒高度，形成漏极13，N型漏柱8、欧姆接触12和漏极13彼此电气连接；
[0059] I)在势垒层3、栅柱7、源极11、漏极13上第十一次制作掩膜，利用该掩膜在源极11左侧与漏极13右侧的势垒层3上进行刻蚀，且刻蚀区深度大于势垒层厚度，形成台面14；
[0060] J)在势垒层3、栅柱7、源极11、漏极13、台面14的上部第十二次制作掩膜，利用该掩膜在栅柱7的上部采用电子束蒸发技术淀积多层金属组合，且最下层金属的功函数小于
5eV，该最下层金属与N型排柱9中每个长方形N柱接触形成的势垒高度小于其与P型层6接触
形成的势垒高度，制作栅极15，栅极15的长度等于栅柱7的长度；
5eV，该最下层金属与N型排柱9中每个长方形N柱接触形成的势垒高度小于其与P型层6接触
形成的势垒高度，制作栅极15，栅极15的长度等于栅柱7的长度；
[0061] K)在栅柱7、源极11、漏极13、栅极15的上部及其外围区域，采用等离子体增强化学气相淀积技术淀积厚度大于等于100nm的钝化层16；
[0062] L)在钝化层16上第十三次制作掩膜，利用该掩膜在栅柱7与N型漏柱8之间的钝化层16上刻蚀2n+1个大小相同的凹槽，n≥1；
[0063] M)在钝化层16和凹槽的上部第十四次制作掩膜，利用该掩膜在钝化层16的上部及凹槽内采用电子束蒸发技术淀积金属，且金属下端完全填充在凹槽内，依次制作左调制板、
2n‑1个独立金属块、右调制板，n≥1，且左调制板与源极11电气连接，右调制板与漏极13电
气连接，各独立金属块彼此悬空，左调制板与栅极15在水平方向上交叠，右调制板与漏极13
在水平方向上交叠，左调制板和右调制板以第n个独立金属块为中心呈左右对称分布，形成
复合板17；
2n‑1个独立金属块、右调制板，n≥1，且左调制板与源极11电气连接，右调制板与漏极13电
气连接，各独立金属块彼此悬空，左调制板与栅极15在水平方向上交叠，右调制板与漏极13
在水平方向上交叠，左调制板和右调制板以第n个独立金属块为中心呈左右对称分布，形成
复合板17；
[0064] N)在钝化层16和复合板17的外围区域，利用绝缘介质材料采用等离子体增强化学气相淀积技术淀积保护层18，完成整个器件的制作。
[0065] 本发明器件与传统GaN基HEMT功率开关器件比较，具有以下优点：
[0066] 第一本发明器件由于在栅极15下方采用了内嵌N型排柱的栅柱，且栅极金属与N型排柱9中每个长方形N柱接触形成的势垒高度小于其与P型层6接触形成的势垒高度，当栅极
为正向偏置时，N型排柱9中每个长方形N柱与其右侧相邻P型层6所形成的PN结均处于反向
偏置状态，而且N型排柱9中每个长方形N柱与其下部P型层6所形成的PIN结也均处于反向偏
置状态，这些反向偏置的PN结和PIN结均会形成高阻空间电荷区，从而可分担绝大部分的栅
+ ‑
极电压，且通过调节N型排柱9中N柱92的掺杂浓度和深度、N柱91的掺杂浓度和深度，N型排
柱9中的长方形N柱的个数、P型层6的掺杂浓度和厚度这些参数，可实现器件阈值电压的持
续增加。因此，本发明器件可显著提高器件的阈值电压。
为正向偏置时，N型排柱9中每个长方形N柱与其右侧相邻P型层6所形成的PN结均处于反向
偏置状态，而且N型排柱9中每个长方形N柱与其下部P型层6所形成的PIN结也均处于反向偏
置状态，这些反向偏置的PN结和PIN结均会形成高阻空间电荷区，从而可分担绝大部分的栅
+ ‑
极电压，且通过调节N型排柱9中N柱92的掺杂浓度和深度、N柱91的掺杂浓度和深度，N型排
柱9中的长方形N柱的个数、P型层6的掺杂浓度和厚度这些参数，可实现器件阈值电压的持
续增加。因此，本发明器件可显著提高器件的阈值电压。
[0067] 第二，本发明器件由于在漏极欧姆接触和源极的下方采用阵列孔19的结构，通过调节阵列孔19中每个孔上部的长方体孔柱191和下部的四棱锥192的形貌以及每个孔的相
对位置关系，可有效调制每个孔内金属与势垒层接触的电气特性，从而有效减小器件源极
和漏极的欧姆接触电阻。
对位置关系，可有效调制每个孔内金属与势垒层接触的电气特性，从而有效减小器件源极
和漏极的欧姆接触电阻。
[0068] 第三，本发明器件由于采用了内嵌P型排柱的N型漏柱结构，且漏极13采用的金属与P型排柱10中每个长方形P柱接触形成的势垒高度小于其与N型漏柱8接触形成的势垒高
度，在器件反向阻断时，即栅极偏置在0V，漏极施加小于源极电势的低电势时，P型排柱中每
个长方形P柱与其临近的N型半导体之间均会形成反向偏置的PN结，这些PN结的高阻空间电
荷区会分担绝大部分的漏极电压，从而确保器件可实现高反向击穿电压；在器件正向导通
时，即栅极偏置电压大于阈值电压，漏极施加大于源极电势的高电势时，P型排柱中每个长
方形P柱与其临近的N型半导体之间所形成的PN结均处于正向偏置状态，导致大量空穴从N
型漏柱注入器件，从而可显著提升器件的输出电流。
度，在器件反向阻断时，即栅极偏置在0V，漏极施加小于源极电势的低电势时，P型排柱中每
个长方形P柱与其临近的N型半导体之间均会形成反向偏置的PN结，这些PN结的高阻空间电
荷区会分担绝大部分的漏极电压，从而确保器件可实现高反向击穿电压；在器件正向导通
时，即栅极偏置电压大于阈值电压，漏极施加大于源极电势的高电势时，P型排柱中每个长
方形P柱与其临近的N型半导体之间所形成的PN结均处于正向偏置状态，导致大量空穴从N
型漏柱注入器件，从而可显著提升器件的输出电流。
[0069] 第四，本发明器件由于在钝化层16的上方采用了复合板17结构，可有效调制栅柱7与N型漏柱8之间势垒层内的电势分布，在器件正向阻断时，即栅极偏置在0V，漏极施加大于
源极电势的高电势时，可使势垒层内电势从栅柱7向N型漏柱8缓变增加，而在器件反向阻断
时，即栅极偏置在0V，漏极施加小于源极电势的低电势时，可使势垒层内电势从N型漏柱8向
栅柱7缓变增加。因此，在器件正向阻断或反向阻断时，这种复合板结构均可使栅柱7与N型
漏柱8之间势垒层内实现近似均匀的电场分布，充分发挥栅柱7与N型漏柱8之间势垒层的耐
压能力，显著提升器件的正向击穿电压和反向击穿电压。
源极电势的高电势时，可使势垒层内电势从栅柱7向N型漏柱8缓变增加，而在器件反向阻断
时，即栅极偏置在0V，漏极施加小于源极电势的低电势时，可使势垒层内电势从N型漏柱8向
栅柱7缓变增加。因此，在器件正向阻断或反向阻断时，这种复合板结构均可使栅柱7与N型
漏柱8之间势垒层内实现近似均匀的电场分布，充分发挥栅柱7与N型漏柱8之间势垒层的耐
压能力，显著提升器件的正向击穿电压和反向击穿电压。
附图说明
[0070] 图1是现有的GaN基HEMT功率开关器件的结构图；
[0071] 图2是本发明结型栅‑漏功率器件结构图；
[0072] 图3是本发明器件中栅柱沿自左向右的剖面图；
[0073] 图4是本发明器件中N型漏柱沿自左向右的剖面图；
[0074] 图5是本发明器件中阵列孔的俯视图；
[0075] 图6是本发明器件中阵列孔沿自左向右的剖面图；
[0076] 图7是本发明器件中阵列孔的立体图；
[0077] 图8是本发明制作结型栅‑漏功率器件的整体流程示意图；
[0078] 图9是对传统器件及本发明器件仿真所得的转移特性曲线图；
[0079] 图10是对传统器件及本发明器件仿真所得的击穿特性曲线图。
具体实施方式
[0080] 以下结合附图对本发明的实施例和效果作进一步详细描述。
[0081] 参照图2，本实例给出的结型栅‑漏功率器件包括：衬底1、过渡层2、势垒层3、栅槽4、漏槽5、P型层6、栅柱7、N型漏柱8、N型排柱9、P型排柱10、源极11、欧姆接触12、漏极13、台
面14、栅极15、钝化层16、复合板17、保护层18和阵列孔19。其中：
面14、栅极15、钝化层16、复合板17、保护层18和阵列孔19。其中：
[0082] 所述衬底1采用蓝宝石或碳化硅或硅材料；
[0083] 所述过渡层2位于衬底1的上部，由若干层相同或不同的GaN基宽禁带半导体材料组成，其厚度为1～10μm；
[0084] 所述势垒层3位于过渡层2的上部，是由若干层相同或不同的GaN基宽禁带半导体材料组成，其厚度为4～60nm；
[0085] 所述栅槽4和漏槽5分别位于势垒层3内的两侧，栅槽4的长度a1大于等于2nm，其深度z1小于势垒层3的厚度，且z1>0；漏槽5的长度a2大于等于2nm，深度为z2，z2>0；
[0086] 所述栅柱7由栅槽4内的P型层6和栅槽4上部的P型层6组成，且P型层6的下端完全填充在栅槽4内；栅柱7的长度大于等于4nm，其左边缘与栅槽4左边缘的间距为q1，其右边缘
与栅槽4右边缘的间距为q2，且q1＝q2，其内部注入有N型排柱9，如图3；
与栅槽4右边缘的间距为q2，且q1＝q2，其内部注入有N型排柱9，如图3；
[0087] 所述N型漏柱8的的掺杂浓度为1×1016～5×1020cm‑3，其下端完全填充在漏槽5内，其位于势垒层3以上的厚度h1为10～1200nm；N型漏柱8内部注入有P型排柱10，P型排柱10是
由w个等间隔且大小相同的长方形P柱组成，w>0，如图4；
由w个等间隔且大小相同的长方形P柱组成，w>0，如图4；
[0088] 所述P型排柱10的深度为u1，漏槽5的深度为z2，N型漏柱8位于漏槽5以上的厚度为h1，u10，每个长方形P柱
的宽度为O1，相邻两个长方形P柱的间距为O2，第一个长方形P柱的左边缘与N型漏柱8的左边
缘重合，第w个长方形P柱与N型漏柱8的右边缘间距为O3，漏槽5的长度为a2，O1＝O2＝O3，且满
16 20 ‑3
足(2w)×(O1)＝a2；P型排柱10的掺杂浓度为1×10 ～5×10 cm ，其掺杂浓度小于等于N型
漏柱8的掺杂浓度；
的宽度为O1，相邻两个长方形P柱的间距为O2，第一个长方形P柱的左边缘与N型漏柱8的左边
缘重合，第w个长方形P柱与N型漏柱8的右边缘间距为O3，漏槽5的长度为a2，O1＝O2＝O3，且满
16 20 ‑3
足(2w)×(O1)＝a2；P型排柱10的掺杂浓度为1×10 ～5×10 cm ，其掺杂浓度小于等于N型
漏柱8的掺杂浓度；
[0089] 所述N‑柱91与N+柱92的宽度相同，该宽度为x1，相邻两个N+柱92的间距为x2，第一个+ +
N柱92的左边缘与栅柱7的左边缘重合，第m个N柱92与栅柱7的右边缘间距为x3，栅槽4的长
度为a1，栅柱7左边缘与栅槽4左边缘的间距为q1，其右边缘与栅槽4右边缘的间距为q2，x1＝
‑ +
x2＝x3，且满足(2m)×x1＝q1+a1+q2；N柱91的深度为y1，N柱92的深度为y2，P型层6位于势垒
16
层3以上的厚度h2为20～1000nm，y1>0，y2>0,且y1+y220 ‑3 + 18 20 ‑3 ‑ 11
10 cm ，N 柱92的掺杂浓度为1×10 ～5×10 cm ，N 柱91的掺杂浓度为1×10 ～1×
18 ‑3 ‑ +
10 cm ，且N柱91的掺杂浓度均小于N柱92的掺杂浓度和P型层6的掺杂浓度；
N柱92的左边缘与栅柱7的左边缘重合，第m个N柱92与栅柱7的右边缘间距为x3，栅槽4的长
度为a1，栅柱7左边缘与栅槽4左边缘的间距为q1，其右边缘与栅槽4右边缘的间距为q2，x1＝
‑ +
x2＝x3，且满足(2m)×x1＝q1+a1+q2；N柱91的深度为y1，N柱92的深度为y2，P型层6位于势垒
16
层3以上的厚度h2为20～1000nm，y1>0，y2>0,且y1+y2
10 cm ，N 柱92的掺杂浓度为1×10 ～5×10 cm ，N 柱91的掺杂浓度为1×10 ～1×
18 ‑3 ‑ +
10 cm ，且N柱91的掺杂浓度均小于N柱92的掺杂浓度和P型层6的掺杂浓度；
[0090] 所述势垒层3内部在位于栅柱7左侧和N型漏柱8右侧的位置处均刻蚀有阵列孔19，阵列孔19由f×g个大小相同的孔组成，f>1，g>1；
[0091] 每个孔由上部的长方体孔柱191和下部的四棱锥192构成，相邻两个孔的间距k3为0.5～3μm，最外围孔与源极11或欧姆接触12的边界间距k1为1～4μm，如图5；
[0092] 孔柱191的上表面和下表面均为正方形，该正方形的边长k2为0.5～2μm，孔柱191的深度r为2～20nm，且孔柱191的下表面与四棱锥192的上表面重合，如图6；
[0093] 四棱锥192的深度e为1～35nm，四个侧面均相同，如图7；
[0094] 所述源极11位于栅柱7的左侧，欧姆接触12位于N型漏柱8的右侧，源极11与欧姆接触12完全填充阵列孔19，其长度均为LO，宽度均为WO，N型漏柱8与欧姆接触12的上部淀积有
漏极13，漏极13的长度为a2+LO，宽度为WO，N型漏柱8、欧姆接触12与漏极13彼此电气连接；
漏极13，漏极13的长度为a2+LO，宽度为WO，N型漏柱8、欧姆接触12与漏极13彼此电气连接；
[0095] 所述漏极13采用多层金属组合，且最下层金属的功函数大于5eV，该最下层金属与P型排柱10中每个长方形P柱接触形成的势垒高度小于其与N型漏柱8接触形成的势垒高度；
[0096] 所述台面14位于势垒层3的两个边缘，该台面深度大于势垒层3的厚度；
[0097] 所述栅极15位于栅柱7上，其长度等于栅柱7的长度，其采用多层金属组合，且最下层金属的功函数小于5eV，该最下层金属与N型排柱9中每个长方形N柱接触形成的势垒高度
小于其与P型层6接触形成的势垒高度；
小于其与P型层6接触形成的势垒高度；
[0098] 所述钝化层16，厚度大于等于100nm，其完全覆盖栅柱7、N型漏柱8、源极11、漏极13、栅极15的上部及其外围区域，该钝化层16采用SiO2、SiN、Al2O3、Sc2O3、HfO2、TiO2中的任
意一种或其它绝缘介质材料；
意一种或其它绝缘介质材料；
[0099] 所述栅柱7与N型漏柱8之间的钝化层16上设有2n+1个凹槽，n≥1，各凹槽大小相同，每个凹槽的深度d均大于0μm，且小于钝化层16的厚度，宽度a3为0.1～4μm；栅柱7与N型
漏柱8以第n+1个凹槽为对称轴，在对称轴左侧，栅柱7与第一个凹槽的间距为b1，且0μm(L‑a3)，第一个凹槽与第二个凹槽的间距为c1，以此类推，第n个凹槽与第n+1个凹槽间距为
cn，且c11个凹槽与第2个凹槽的间距为i1，以此类推，第n个凹槽与第n+1个凹槽间距为in，i1
漏柱8以第n+1个凹槽为对称轴，在对称轴左侧，栅柱7与第一个凹槽的间距为b1，且0μm
cn，且c1
[0100] 所述复合板17位于钝化层16的上部，其由左调制板、右调制板和2n‑1个大小相同的独立金属块构成，且下端完全填充在2n+1个凹槽内，该左调制板与源极11电气连接，右调
制板与漏极13电气连接，各独立金属块彼此悬空；左调制板与栅极15在水平方向上交叠，右
调制板与漏极13在水平方向上交叠；左调制板和右调制板以第n个独立金属块为中心呈左
右对称分布，n≥1。以第n个独立金属块为对称轴，在对称轴左侧，左调制板与其第一个独立
金属块的间距为S1，第一个独立金属块与第二个独立金属块的间距为S2，以此类推，第n‑1个
独立金属块与第n个独立金属块的间距为Sn，S1个独立金属块的间距为U1，第1个独立金属块与第2个独立金属块的间距为U2，以此类推，第
n‑1个独立金属块与第n个独立金属块的间距为Un，U1Un，n≥1；左调制板、右调制板和每个独立金属块的厚度均相同，每个独立金属块的长度t均
为0.5～5μm，左调制板右边缘与栅柱7右边缘之间的距离等于右调制板左边缘与N型漏柱8
左边缘之间的距离，该距离为L。
制板与漏极13电气连接，各独立金属块彼此悬空；左调制板与栅极15在水平方向上交叠，右
调制板与漏极13在水平方向上交叠；左调制板和右调制板以第n个独立金属块为中心呈左
右对称分布，n≥1。以第n个独立金属块为对称轴，在对称轴左侧，左调制板与其第一个独立
金属块的间距为S1，第一个独立金属块与第二个独立金属块的间距为S2，以此类推，第n‑1个
独立金属块与第n个独立金属块的间距为Sn，S1
n‑1个独立金属块与第n个独立金属块的间距为Un，U1
为0.5～5μm，左调制板右边缘与栅柱7右边缘之间的距离等于右调制板左边缘与N型漏柱8
左边缘之间的距离，该距离为L。
[0101] 所述保护层18位于钝化层16和复合板17的外围区域，其采用SiO2、SiN、Al2O3、Sc2O3、HfO2、TiO2中的任意一种或其它绝缘介质材料。
[0102] 参照图8，本发明制作的结型栅‑漏功率器件给出如下三种实施例。
[0103] 实施例一：制作P型层6位于势垒层3以上的厚度h2为20nm，P型层6的掺杂浓度为520 ‑3 20 ‑3
×10 cm ，栅柱7的长度为4nm，N型漏柱8的掺杂浓度为5×10 cm ，其位于势垒层3以上的
20 ‑3
厚度h1为10nm，P型排柱10的深度为u1为7nm、掺杂浓度为5×10 cm ，长方形P柱的数目w为1
‑ 18 ‑3 +
个，N 柱91深度y1为10nm、掺杂浓度为1×10 cm ，N 柱92的深度y2为8nm、掺杂浓度为5×
20 ‑3
10 cm ，长方形N柱的数目m为1个，阵列孔19由2×2个大小相同的孔组成，凹槽的数目为3
个、独立金属块的数目为1个的结型栅‑漏功率器件。
×10 cm ，栅柱7的长度为4nm，N型漏柱8的掺杂浓度为5×10 cm ，其位于势垒层3以上的
20 ‑3
厚度h1为10nm，P型排柱10的深度为u1为7nm、掺杂浓度为5×10 cm ，长方形P柱的数目w为1
‑ 18 ‑3 +
个，N 柱91深度y1为10nm、掺杂浓度为1×10 cm ，N 柱92的深度y2为8nm、掺杂浓度为5×
20 ‑3
10 cm ，长方形N柱的数目m为1个，阵列孔19由2×2个大小相同的孔组成，凹槽的数目为3
个、独立金属块的数目为1个的结型栅‑漏功率器件。
[0104] 步骤1.在蓝宝石衬底1上外延GaN材料制作过渡层2，如图8a。
[0105] 1a)使用金属有机物化学气相淀积技术在蓝宝石衬底1上外延厚度为30nm的GaN材料，其工艺条件为：温度为530℃，压强为45Torr，氢气流量为4400sccm，氨气流量为
4400sccm，镓源流量为22μmol/min；
4400sccm，镓源流量为22μmol/min；
[0106] 1b)使用金属有机物化学气相淀积技术在GaN材料上外延厚度为0.97μm的GaN材料，形成未掺杂过渡层2，其工艺条件为：温度为960℃，压强为45Torr，氢气流量为
4400sccm，氨气流量为4400sccm，镓源流量为120μmol/min。
4400sccm，氨气流量为4400sccm，镓源流量为120μmol/min。
[0107] 步骤2.在未掺杂GaN过渡层2上淀积未掺杂的Al0.3Ga0.7N制作势垒层3，如图8b。
[0108] 使用金属有机物化学气相淀积技术在GaN过渡层2上淀积厚度为4nm，且铝组分为0.3的未掺杂Al0.3Ga0.7N势垒层3，其工艺条件为：温度为980℃，压强为45Torr，氢气流量为
4400sccm，氨气流量为4400sccm，镓源流量为35μmol/min，铝源流量为7μmol/min。
4400sccm，氨气流量为4400sccm，镓源流量为35μmol/min，铝源流量为7μmol/min。
[0109] 步骤3.在势垒层3上制作栅槽4和漏槽5，如图8c。
[0110] 3a)在Al0.3Ga0.7N势垒层3上第一次制作掩膜，利用该掩膜使用反应离子刻蚀技术在势垒层3内进行刻蚀，形成栅槽4，栅槽4刻蚀深度z1为3nm、长度a1为2nm；
[0111] 刻蚀栅槽4采用的工艺条件为：Cl2流量为15sccm，压强为10mTorr，功率为50W。
[0112] 3b)在Al0.3Ga0.7N势垒层3和栅槽4上第二次制作掩膜，利用该掩膜使用反应离子刻蚀技术在势垒层3内进行刻蚀，形成漏槽5，漏槽5刻蚀深度z2为3nm、长度a2为2nm；
[0113] 刻蚀漏槽5采用的工艺条件为：Cl2流量为15sccm，压强为10mTorr，功率为50W。
[0114] 步骤4.在势垒层3上外延P型层6，如图8d。
[0115] 使用分子束外延技术，在势垒层3上外延厚度h2为20nm、掺杂浓度为5×1020cm‑3的p型GaN半导体材料，并填充栅槽4和漏槽5，形成P型层6。
[0116] 分子束外延采用的工艺条件是：真空度小于等于1.0×10‑10mbar，射频功率为400W，反应剂采用N2、高纯Ga源。
[0117] 步骤5.制作栅柱7和N型漏柱8，如图8e。
[0118] 5a)在P型层6上第三次制作掩膜，利用该掩膜使用反应离子刻蚀技术在P型层6的两侧进行刻蚀，漏槽5外刻蚀至势垒层3的上表面为止，漏槽5内刻蚀至其底部，形成长度为
4nm的栅柱7，栅柱7左边缘与栅槽4左边缘的间距q1为1nm，其右边缘与栅槽4右边缘的间距q2
为1nm，刻蚀采用的工艺条件是：Cl2流量为15sccm，压强为10mTorr，功率为100W。
4nm的栅柱7，栅柱7左边缘与栅槽4左边缘的间距q1为1nm，其右边缘与栅槽4右边缘的间距q2
为1nm，刻蚀采用的工艺条件是：Cl2流量为15sccm，压强为10mTorr，功率为100W。
[0119] 5b)在势垒层3和栅柱7上第四次制作掩膜，利用该掩膜使用选择性外延生长技术在漏槽5内外延N型GaN半导体材料，形成位于势垒层3以上的厚度h1为10nm、长度为2nm、掺
20 ‑3
杂浓度为5×10 cm 的N型漏柱8，选择性外延采用的工艺条件是：真空度小于等于1.0×10
‑10
mbar，射频功率为400W，反应剂采用N2、高纯Ga源。
20 ‑3
杂浓度为5×10 cm 的N型漏柱8，选择性外延采用的工艺条件是：真空度小于等于1.0×10
‑10
mbar，射频功率为400W，反应剂采用N2、高纯Ga源。
[0120] 步骤6.制作N型排柱9和P型排柱10，如图8f。
[0121] 6a)在势垒层3、栅柱7和N型漏柱8上第五次制作掩膜，利用该掩膜使用离子注入技18 ‑3 ‑
术在P型层6内掺入浓度为1×10 cm 的N型杂质,形成深度y1+y2为18nm、宽度为2nm的1个N
柱91，离子注入采用的工艺条件是：注入N型杂质为Si。
术在P型层6内掺入浓度为1×10 cm 的N型杂质,形成深度y1+y2为18nm、宽度为2nm的1个N
柱91，离子注入采用的工艺条件是：注入N型杂质为Si。
[0122] 6b)继续利用6a)中的掩膜，使用离子注入技术在P型层6内掺入浓度为5×1020cm‑3+ + ‑
的N型杂质，形成深度y2为8nm、宽度为2nm的1个N柱92，这1个N柱92与1个N柱91共同形成N
型排柱9，离子注入采用的工艺条件是：注入N型杂质为Si。
的N型杂质，形成深度y2为8nm、宽度为2nm的1个N柱92，这1个N柱92与1个N柱91共同形成N
型排柱9，离子注入采用的工艺条件是：注入N型杂质为Si。
[0123] 6c)在势垒层3、栅柱7和N型漏柱8上第六次制作掩膜，利用该掩膜使用离子注入技20 ‑3
术在N型漏柱8内掺入浓度为5×10 cm 的P型杂质，形成深度u1为7nm，宽度为1nm的1个长方
形P柱，该长方形P柱形成P型排柱10，离子注入采用的工艺条件是：注入P型杂质为Mg。
术在N型漏柱8内掺入浓度为5×10 cm 的P型杂质，形成深度u1为7nm，宽度为1nm的1个长方
形P柱，该长方形P柱形成P型排柱10，离子注入采用的工艺条件是：注入P型杂质为Mg。
[0124] 步骤7.制作阵列孔19，如图8g。
[0125] 7a)在厚度为4nm的Al0.3Ga0.7N势垒层3、栅柱7、N型漏柱8上第七次制作掩膜，该掩膜图形是由2×2个边长k2为0.5μm的正方形孔组成的阵列，相邻两个孔的间距k3为0.5μm，最
外围孔与源极11或欧姆接触12的边界间距k1为1μm；利用该掩膜采用反应离子刻蚀技术在
Al0.3Ga0.7N势垒层3上刻蚀制作2×2个长方体孔柱191，其中每个孔柱191的深度r均为2nm。
外围孔与源极11或欧姆接触12的边界间距k1为1μm；利用该掩膜采用反应离子刻蚀技术在
Al0.3Ga0.7N势垒层3上刻蚀制作2×2个长方体孔柱191，其中每个孔柱191的深度r均为2nm。
[0126] 刻蚀孔柱191采用的工艺条件是：Cl2/BCl3流量比为3:1，压强为30mTorr，功率为150W。
[0127] 7b)在厚度为4nm的Al0.3Ga0.7N势垒层3、栅柱7、N型漏柱8上第八次制作掩膜，利用该掩模在7a)形成的2×2个大小相同长方体孔柱191内采用反应离子刻蚀技术刻蚀制作相
同的四棱锥192，该2×2个大小相同的长方体孔柱191与其下部的四棱锥192共同构成阵列
孔19。这些四棱锥的上表面与孔柱191的下表面重合，四棱锥191的深度e为1nm，且四个侧面
均相同，Al0.3Ga0.7N势垒层3刻蚀后的厚度为1nm。
同的四棱锥192，该2×2个大小相同的长方体孔柱191与其下部的四棱锥192共同构成阵列
孔19。这些四棱锥的上表面与孔柱191的下表面重合，四棱锥191的深度e为1nm，且四个侧面
均相同，Al0.3Ga0.7N势垒层3刻蚀后的厚度为1nm。
[0128] 刻蚀四棱锥192采用的工艺条件为：BCl3流量为60sccm，压强为25mTorr，功率为150W。
[0129] 步骤8.制作源极11和漏极13，如图8h。
[0130] 8a)在势垒层3、栅柱7、N型漏柱8的上部第九次制作掩膜，利用该掩模在左右两边的势垒层3上使用电子束蒸发技术淀积金属，且完全填充阵列孔19，该金属采用Gd。
[0131] 淀积金属采用的工艺条件为：高纯度Gd源，真空度小于1.8×10‑3Pa，功率为400W，蒸发速率小于 ；
[0132] 8b)继续利用8a)中的掩膜，再次采用电子束蒸发技术淀积金属，并在N2气氛中进行快速热退火，制作源极11和欧姆接触12，其中所淀积的金属为Ti/Al/Ni/Au金属组合，即
自下而上分别为Ti、Al、Ni和Au，其厚度为0.018μm/0.135μm/0.046μm/0.052μm。
自下而上分别为Ti、Al、Ni和Au，其厚度为0.018μm/0.135μm/0.046μm/0.052μm。
[0133] 淀积金属采用的工艺条件为：真空度小于1.8×10‑3Pa，功率为400W，蒸发速率小于；快速热退火采用的工艺条件为：温度为850℃，时间为35s。
[0134] 8c)在势垒层3、栅柱7、N型漏柱8、源极11和欧姆接触12的上部第十次制作掩膜，利用该掩膜再次采用电子束蒸发技术淀积金属，该金属采用Au/Ti/Al/Pt，其厚度为0.018μm/
0.135μm/0.046μm/0.052μm，形成漏极13，N型漏柱8、欧姆接触12和漏极13彼此电气连接。
0.135μm/0.046μm/0.052μm，形成漏极13，N型漏柱8、欧姆接触12和漏极13彼此电气连接。
[0135] 淀积金属采用的工艺条件为：真空度小于1.8×10‑3Pa，功率为200W，蒸发速率小于；
[0136] 步骤9.在源极11左边与漏极13右边的势垒层3上进行刻蚀制作台面14，如图8i。
[0137] 在势垒层3、栅柱7、源极11和漏极13上第十一次制作掩膜，利用该掩膜在源极11左边与漏极13右边的势垒层3上使用反应离子刻蚀技术进行刻蚀，形成台面14，刻蚀深度为
80nm。
80nm。
[0138] 刻蚀采用的工艺条件为：Cl2流量为15sccm，压强为10mTorr，功率为100W。
[0139] 步骤10.制作栅极15，如图8j。
[0140] 在势垒层3、栅柱7、源极11、漏极13和台面14的上部第十二次制作掩膜，利用该掩+
膜在栅柱7上使用电子束蒸发技术淀积金属，制作栅极15，栅极15的下边缘与所有N柱92的
上边缘均有重合，其长度等于栅柱7的长度，其中所淀积的金属为Gd/Au金属组合，即下层为
Gd、上层为Au，其厚度为0.045μm/0.20μm。
膜在栅柱7上使用电子束蒸发技术淀积金属，制作栅极15，栅极15的下边缘与所有N柱92的
上边缘均有重合，其长度等于栅柱7的长度，其中所淀积的金属为Gd/Au金属组合，即下层为
Gd、上层为Au，其厚度为0.045μm/0.20μm。
[0141] 淀积金属采用的工艺条件为：真空度小于1.8×10‑3Pa，功率为200W，蒸发速率小于。
[0142] 步骤11.制作钝化层16，如图8k。
[0143] 在栅柱7、源极11、漏极13和栅极15的上部及其外围区域，采用等离子体增强化学气相淀积技术淀积厚度为100nm的SiO2钝化层16。
[0144] 淀积钝化层14采用的工艺条件为：N2O流量为850sccm，SiH4流量为200sccm，温度为250℃，RF功率为20W，压力为1100mT。
[0145] 步骤12.制作3个凹槽，如图8l。
[0146] 在钝化层16上第十三次制作掩膜，利用该掩膜在栅柱7与N型漏柱8之间的钝化层16内使用反应离子刻蚀技术进行刻蚀，以制作相同深度、相同宽度的3个凹槽，凹槽的宽度
a3为0.1μm，深度d为50nm。栅柱7与N型漏柱8以第2个凹槽为对称轴，在对称轴左侧，栅柱7与
第一个凹槽的间距b1为0.5μm，第一个凹槽与第二个凹槽的间距c1为0.5μm；在对称轴右侧，N
型漏柱8与第1个凹槽的间距b2为0.5μm，第1个凹槽与第2个凹槽的间距i1为0.5μm。
a3为0.1μm，深度d为50nm。栅柱7与N型漏柱8以第2个凹槽为对称轴，在对称轴左侧，栅柱7与
第一个凹槽的间距b1为0.5μm，第一个凹槽与第二个凹槽的间距c1为0.5μm；在对称轴右侧，N
型漏柱8与第1个凹槽的间距b2为0.5μm，第1个凹槽与第2个凹槽的间距i1为0.5μm。
[0147] 刻蚀采用的工艺条件为：CF4流量为45sccm，O2流量为5sccm，压强为15mTorr，功率为250W。
[0148] 步骤13.制作左调制板、1个独立金属块和右调制板，如图8m。
[0149] 在钝化层16和3个凹槽的上部第十四次制作掩膜，利用该掩膜在3个凹槽内、栅柱7与N型漏柱8之间的钝化层16上使用电子束蒸发技术淀积金属制作左调制板、1个独立金属
块和右调制板，并将左调制板与源极11电气连接，将右调制板与漏极13电气连接，独立金属
块悬空，左调制板与栅极15在水平方向上交叠，右调制板与漏极13在水平方向上交叠，左调
制板和右调制板以第1个独立金属块为中心呈左右对称分布，形成复合板17，所淀积的金属
为Ti/Au金属组合，即下层为Ti、上层为Au，其厚度为0.1μm/0.05μm。其中所淀积金属要完全
填充3个凹槽，左调制板与其第一个独立金属块的间距S1为0.1μm，右调制板与其第1个独立
金属块的间距U1为0.1μm，独立金属块的长度t为0.5μm，左调制板右边缘与栅柱7右边缘之
间的距离等于右调制板左边缘与N型漏柱8左边缘之间的距离，该距离L为0.8μm。
块和右调制板，并将左调制板与源极11电气连接，将右调制板与漏极13电气连接，独立金属
块悬空，左调制板与栅极15在水平方向上交叠，右调制板与漏极13在水平方向上交叠，左调
制板和右调制板以第1个独立金属块为中心呈左右对称分布，形成复合板17，所淀积的金属
为Ti/Au金属组合，即下层为Ti、上层为Au，其厚度为0.1μm/0.05μm。其中所淀积金属要完全
填充3个凹槽，左调制板与其第一个独立金属块的间距S1为0.1μm，右调制板与其第1个独立
金属块的间距U1为0.1μm，独立金属块的长度t为0.5μm，左调制板右边缘与栅柱7右边缘之
间的距离等于右调制板左边缘与N型漏柱8左边缘之间的距离，该距离L为0.8μm。
[0150] 淀积金属采用的工艺条件为：真空度小于1.8×10‑3Pa，功率为200W，蒸发速率小于。
[0151] 步骤14.在钝化层16和复合板17的外围区域，淀积SiO2制作保护层18，如图8n。
[0152] 使用等离子体增强化学气相淀积技术在钝化层16和复合板17的外围区域淀积SiO2以制作保护层18，其厚度为0.56μm，从而完成整个器件的制作。
[0153] 淀积保护层采用的工艺条件为：N2O流量为850sccm，SiH4流量为200sccm，温度为250℃，RF功率为20W，压强为1100mTorr。
[0154] 实施例二：制作P型层6位于势垒层3以上的厚度h2为200nm，P型层6的掺杂浓度为119 ‑3 19 ‑3
×10 cm ，栅柱7的长度为1800nm，N型漏柱8的掺杂浓度为5×10 cm ，其位于势垒层3以上
19 ‑3
的厚度h1为200nm，P型排柱10的深度为u1为80nm、掺杂浓度为1×10 cm ，长方形P柱的数目
‑ 17 ‑3 +
w为3个，N柱91深度y1为100nm、掺杂浓度为1×10 cm ，N柱92的深度y2为80nm、掺杂浓度为
19 ‑3
5×10 cm ，长方形N柱的数目m为3个，阵列孔19由5×5个大小相同的孔组成，凹槽的数目
为5个、独立金属块的数目为3个的结型栅‑漏功率器件。
×10 cm ，栅柱7的长度为1800nm，N型漏柱8的掺杂浓度为5×10 cm ，其位于势垒层3以上
19 ‑3
的厚度h1为200nm，P型排柱10的深度为u1为80nm、掺杂浓度为1×10 cm ，长方形P柱的数目
‑ 17 ‑3 +
w为3个，N柱91深度y1为100nm、掺杂浓度为1×10 cm ，N柱92的深度y2为80nm、掺杂浓度为
19 ‑3
5×10 cm ，长方形N柱的数目m为3个，阵列孔19由5×5个大小相同的孔组成，凹槽的数目
为5个、独立金属块的数目为3个的结型栅‑漏功率器件。
[0155] 步骤一.在碳化硅衬底1上自下而上外延AlN与GaN材料制作过渡层2，如图8a。
[0156] 1.1)使用金属有机物化学气相淀积技术在温度为1000℃，压强为45Torr，氢气流量为4600sccm，氨气流量为4600sccm，铝源流量为5μmol/min的工艺条件下，在碳化硅衬底1
上外延厚度为100nm的未掺杂的AlN材料；
上外延厚度为100nm的未掺杂的AlN材料；
[0157] 1.2)使用金属有机物化学气相淀积技术在温度为1000℃，压强为45Torr，氢气流量为4600sccm，氨气流量为4600sccm，镓源流量为120μmol/min的工艺条件下，在AlN材料上
外延厚度为4.9μm的GaN材料，完成过渡层2的制作。
外延厚度为4.9μm的GaN材料，完成过渡层2的制作。
[0158] 步骤二.在GaN过渡层2上淀积未掺杂的Al0.2Ga0.8N制作势垒层3，如图8b。
[0159] 使用金属有机物化学气相淀积技术在温度为980℃，压强为45Torr，氢气流量为4500sccm，氨气流量为4500sccm，镓源流量为36μmol/min，铝源流量为7μmol/min的工艺条
件下，在GaN过渡层2上淀积厚度为20nm，铝组分为0.2的未掺杂Al0.2Ga0.8N势垒层3。
件下，在GaN过渡层2上淀积厚度为20nm，铝组分为0.2的未掺杂Al0.2Ga0.8N势垒层3。
[0160] 步骤三.在势垒层3上制作栅槽4和漏槽5，如图8c。
[0161] 3.1)在Al0.2Ga0.8N势垒层3上第一次制作掩膜，使用反应离子刻蚀技术在Cl2流量为15sccm，压强为10mTorr，功率为50W的工艺条件下，在势垒层3内进行刻蚀，形成栅槽4，栅
槽4刻蚀深度z1为14nm、长度a1为1400nm；
槽4刻蚀深度z1为14nm、长度a1为1400nm；
[0162] 3.2)在Al0.2Ga0.8N势垒层3和栅槽4上第二次制作掩膜，使用反应离子刻蚀技术在Cl2流量为15sccm，压强为10mTorr，功率为50W的工艺条件下，在势垒层3内进行刻蚀，形成
刻蚀深度z2为22nm、长度a2为1200nm的漏槽5。
刻蚀深度z2为22nm、长度a2为1200nm的漏槽5。
[0163] 步骤四.在势垒层3上外延P型层6，如图8d。
[0164] 使用分子束外延技术在以真空度小于等于1.0×10‑10mbar，射频功率为450W，反应19
剂采用N2、高纯Ga源的工艺条件下，在势垒层3上外延厚度h2为200nm、掺杂浓度为1×10 cm
‑3
的p型GaN半导体材料，并填充栅槽4和漏槽5，形成P型层6。
剂采用N2、高纯Ga源的工艺条件下，在势垒层3上外延厚度h2为200nm、掺杂浓度为1×10 cm
‑3
的p型GaN半导体材料，并填充栅槽4和漏槽5，形成P型层6。
[0165] 步骤五.制作栅柱7和N型漏柱8，如图8e。
[0166] 5.1)在P型层6上第三次制作掩膜，使用反应离子刻蚀技术在Cl2流量为15sccm，压强为10mTorr，功率为100W的工艺条件下，在P型层6的两侧进行刻蚀，漏槽5外刻蚀至势垒层
3的上表面为止，漏槽5内刻蚀至其底部，形成长度为1800m的栅柱7，栅柱7左边缘与栅槽4左
边缘的间距q1为200nm，其右边缘与栅槽4右边缘的间距q2为200nm；
3的上表面为止，漏槽5内刻蚀至其底部，形成长度为1800m的栅柱7，栅柱7左边缘与栅槽4左
边缘的间距q1为200nm，其右边缘与栅槽4右边缘的间距q2为200nm；
[0167] 5.2)在势垒层3和栅柱7上第四次制作掩膜，使用选择性外延生长技术在真空度小‑10
于等于1.0×10 mbar，射频功率为450W，反应剂采用N2、高纯Ga源的工艺条件下，外延N型
GaN半导体材料，形成位于势垒层3以上的厚度h1为200nm，长度为1200nm、掺杂浓度为5×
19 ‑3
10 cm 的N型漏柱8。
于等于1.0×10 mbar，射频功率为450W，反应剂采用N2、高纯Ga源的工艺条件下，外延N型
GaN半导体材料，形成位于势垒层3以上的厚度h1为200nm，长度为1200nm、掺杂浓度为5×
19 ‑3
10 cm 的N型漏柱8。
[0168] 步骤六.制作N型排柱9和P型排柱10，如图8f。
[0169] 6.1)在势垒层3、栅柱7和N型漏柱8上第五次制作掩膜，使用离子注入技术在注入N17 ‑3
型杂质为Si的工艺条件下，在P型层6内掺入浓度为1×10 cm 的N型杂质，形成深度y1+y2为
‑
180nm、宽度为300nm的3个N柱91；
型杂质为Si的工艺条件下，在P型层6内掺入浓度为1×10 cm 的N型杂质，形成深度y1+y2为
‑
180nm、宽度为300nm的3个N柱91；
[0170] 6.2)继续利用6.1)中的掩膜，使用离子注入技术在注入N型杂质为Si的工艺条件19 ‑3 +
下，在P型层6内掺入浓度为5×10 cm 的N型杂质，形成深度y2为80nm、宽度为300nm的3个N
+ ‑
柱92，这3个N柱92与3个N柱91共同形成N型排柱9。
下，在P型层6内掺入浓度为5×10 cm 的N型杂质，形成深度y2为80nm、宽度为300nm的3个N
+ ‑
柱92，这3个N柱92与3个N柱91共同形成N型排柱9。
[0171] 6.3)在势垒层3、栅柱7和N型漏柱8上第六次制作掩膜，使用离子注入技术在注入P19 ‑3
型杂质为Mg的工艺条件下，在N型漏柱8内掺入浓度为1×10 cm 的P型杂质，形成深度u1为
80nm，宽度为200nm的3个长方形P柱，这3个长方形P柱形成P型排柱10。
型杂质为Mg的工艺条件下，在N型漏柱8内掺入浓度为1×10 cm 的P型杂质，形成深度u1为
80nm，宽度为200nm的3个长方形P柱，这3个长方形P柱形成P型排柱10。
[0172] 步骤七.制作阵列孔19，如图8g。
[0173] 7.1)在厚度为20nm的Al0.2Ga0.8N势垒层3、栅柱7、N型漏柱8上第七次制作掩膜，该掩膜图形是由5×5个边长k2为1μm的正方形孔组成的阵列，相邻两个孔的间距k3为1μm，最外
围孔与源极11或欧姆接触12的边界间距k1为2μm；利用该掩膜采用反应离子刻蚀技术在Cl2/
BCl3流量比为3:1，压强为30mTorr，功率为150W的工艺条件下，在Al0.2Ga0.8N势垒层3上刻蚀
制作5×5个长方体孔柱191，其中每个孔柱191的深度r均为8nm；
围孔与源极11或欧姆接触12的边界间距k1为2μm；利用该掩膜采用反应离子刻蚀技术在Cl2/
BCl3流量比为3:1，压强为30mTorr，功率为150W的工艺条件下，在Al0.2Ga0.8N势垒层3上刻蚀
制作5×5个长方体孔柱191，其中每个孔柱191的深度r均为8nm；
[0174] 7.2)在厚度为20nm的Al0.2Ga0.8N势垒层3、栅柱7、N型漏柱8上第八次制作掩膜，利用该掩模在7.1)形成的5×5个大小相同长方体孔柱191内采用反应离子刻蚀技术在BCl3流
量为60sccm，压强为25mTorr，功率为150W的工艺条件下，刻蚀制作相同的四棱锥192，该5×
5个大小相同长方体孔柱191与其下部的四棱锥192共同构成阵列孔19。这些四棱锥的上表
面与孔柱191的下表面重合，四棱锥191的深度e为8nm，且四个侧面均相同，Al0.2Ga0.8N势垒
层3刻蚀后的厚度为4nm。
量为60sccm，压强为25mTorr，功率为150W的工艺条件下，刻蚀制作相同的四棱锥192，该5×
5个大小相同长方体孔柱191与其下部的四棱锥192共同构成阵列孔19。这些四棱锥的上表
面与孔柱191的下表面重合，四棱锥191的深度e为8nm，且四个侧面均相同，Al0.2Ga0.8N势垒
层3刻蚀后的厚度为4nm。
[0175] 步骤八.制作源极11和漏极13，如图8h。
[0176] 8.1)在势垒层3、栅柱7、N型漏柱8的上部第九次制作掩膜，利用该掩模在左右两边‑3
的势垒层3上使用电子束蒸发技术在高纯度Zr源，真空度小于1.8×10 Pa，功率为400W，蒸
发速率小于 的工艺条件下，淀积金属Zr，且完全填充阵列孔19；
的势垒层3上使用电子束蒸发技术在高纯度Zr源，真空度小于1.8×10 Pa，功率为400W，蒸
发速率小于 的工艺条件下，淀积金属Zr，且完全填充阵列孔19；
[0177] 8.2)继续利用8.1)中的掩膜，再次采用电子束蒸发技术在真空度小于1.8×10‑3
Pa，功率为400W，蒸发速率小于 的工艺条件下，淀积金属，并在温度为850℃，时间为
35s的工艺条件下，在N2气氛中进行快速热退火，制作源极11和欧姆接触12，其中所淀积的
金属为Ti/Al/Mo/Au金属组合，即自下而上分别为Ti、Al、Mo与Au，其厚度为0.015μm/0.132μ
m/0.048μm/0.056μm；
Pa，功率为400W，蒸发速率小于 的工艺条件下，淀积金属，并在温度为850℃，时间为
35s的工艺条件下，在N2气氛中进行快速热退火，制作源极11和欧姆接触12，其中所淀积的
金属为Ti/Al/Mo/Au金属组合，即自下而上分别为Ti、Al、Mo与Au，其厚度为0.015μm/0.132μ
m/0.048μm/0.056μm；
[0178] 8.3)在势垒层3、栅柱7、N型漏柱8、源极11和欧姆接触12的上部第十次制作掩膜，‑3
再次采用电子束蒸发技术在真空度小于1.8×10 Pa，功率为600W，蒸发速率小于 的工
艺条件下，淀积Ni/Al/Mo/Au金属组合，即自下而上分别为Ni、Al、Mo与Au，其厚度为0.015μ
m/0.132μm/0.048μm/0.056μm，形成漏极13，N型漏柱8、欧姆接触12和漏极13彼此电气连接。
再次采用电子束蒸发技术在真空度小于1.8×10 Pa，功率为600W，蒸发速率小于 的工
艺条件下，淀积Ni/Al/Mo/Au金属组合，即自下而上分别为Ni、Al、Mo与Au，其厚度为0.015μ
m/0.132μm/0.048μm/0.056μm，形成漏极13，N型漏柱8、欧姆接触12和漏极13彼此电气连接。
[0179] 步骤九.在源极11左边与漏极13右边的势垒层3上进行刻蚀制作台面14，如图8i。
[0180] 在势垒层3、栅柱7、源极11和漏极13上第十一次制作掩膜，利用该掩膜在源极11左边与漏极13右边的势垒层上使用反应离子刻蚀技术在Cl2流量为15sccm，压强为10mTorr，
功率为100W的工艺条件下，向下垂直刻蚀200nm，以形成台面14。
功率为100W的工艺条件下，向下垂直刻蚀200nm，以形成台面14。
[0181] 步骤十.制作栅极15，如图8j。
[0182] 在势垒层3、栅柱7、源极11、漏极13和台面14的上部第十二次制作掩膜，利用该掩‑3
膜在栅柱7上使用电子束蒸发技术在真空度小于1.8×10 Pa，功率为600W，蒸发速率小于
+
的工艺条件下，淀积金属，制作栅极15，栅极15的下边缘与所有N 柱92的上边缘均有重
合，其长度等于栅柱7的长度，其中所淀积的金属为Zr/Pt金属组合，即下层为Zr、上层为Pt，
其厚度为0.18μm/0.32μm。
膜在栅柱7上使用电子束蒸发技术在真空度小于1.8×10 Pa，功率为600W，蒸发速率小于
+
的工艺条件下，淀积金属，制作栅极15，栅极15的下边缘与所有N 柱92的上边缘均有重
合，其长度等于栅柱7的长度，其中所淀积的金属为Zr/Pt金属组合，即下层为Zr、上层为Pt，
其厚度为0.18μm/0.32μm。
[0183] 步骤十一.制作钝化层16，如图8k。
[0184] 在栅柱7、源极11、漏极13和栅极15的上部及其外围区域，采用等离子体增强化学气相淀积技术在NH3流量为2.5sccm，N2流量为950sccm，SiH4流量为250sccm，温度为300℃，
RF功率为50W和压力为950mT的工艺条件下，淀积厚度为300nm的SiN钝化层16。
RF功率为50W和压力为950mT的工艺条件下，淀积厚度为300nm的SiN钝化层16。
[0185] 步骤十二.制作5个凹槽，如图8l。
[0186] 在钝化层16上第十三次制作掩膜，利用该掩膜在栅柱7与N型漏柱8之间的钝化层16内使用反应离子刻蚀技术在CF4流量为45sccm，O2流量为5sccm，压强为15mT，功率为250W
的工艺条件下，刻蚀制作深度相同、宽度相同的5个凹槽，凹槽的宽度a3为0.5μm，深度d为
250nm。栅柱7与N型漏柱8以第3个凹槽为对称轴，在对称轴左侧，栅柱7与第一个凹槽的间距
b1为1μm，第一个凹槽与第二个凹槽的间距为c1，第二个凹槽与第三个凹槽的间距为c2，且c1
i1，第2个凹槽与第3个凹槽的间距为i2，且i1
的工艺条件下，刻蚀制作深度相同、宽度相同的5个凹槽，凹槽的宽度a3为0.5μm，深度d为
250nm。栅柱7与N型漏柱8以第3个凹槽为对称轴，在对称轴左侧，栅柱7与第一个凹槽的间距
b1为1μm，第一个凹槽与第二个凹槽的间距为c1，第二个凹槽与第三个凹槽的间距为c2，且c1
[0187] 步骤十三.制作左调制板、3个独立金属块和右调制板，如图8m。
[0188] 在钝化层16和5个凹槽的上部第十四次制作掩膜，利用该掩膜在5个凹槽内、栅柱7‑3
与N型漏柱8之间的钝化层16上使用电子束蒸发技术在真空度小于1.8×10 Pa，功率为
600W，蒸发速率小于 的工艺条件下，淀积金属制作左调制板、3个独立金属块和右调制
板，并将左调制板与源极11电气连接，将右调制板与漏极13电气连接，3个独立金属块彼此
悬空，左调制板和右调制板以第3个独立金属块为中心呈左右对称分布，形成复合板17，所
淀积的金属为Ti/Au金属组合，即下层为Ti、上层为Au，其厚度为0.2μm/0.11μm。其中所淀积
金属要完全填充5个凹槽，以第2个独立金属块为对称轴，在对称轴左侧，左调制板与其第一
个独立金属块的间距S1为0.26μm，第一个独立金属块与第二个独立金属块的间距S2为0.52μ
m；右调制板与其第1个独立金属块的间距U1为0.26μm，第1个独立金属块与第2个独立金属
块的间距U2为0.52μm，独立金属块的长度t为2μm，左调制板右边缘与栅柱7右边缘之间的距
离等于右调制板左边缘与N型漏柱8左边缘之间的距离，该距离L为2.25μm。
与N型漏柱8之间的钝化层16上使用电子束蒸发技术在真空度小于1.8×10 Pa，功率为
600W，蒸发速率小于 的工艺条件下，淀积金属制作左调制板、3个独立金属块和右调制
板，并将左调制板与源极11电气连接，将右调制板与漏极13电气连接，3个独立金属块彼此
悬空，左调制板和右调制板以第3个独立金属块为中心呈左右对称分布，形成复合板17，所
淀积的金属为Ti/Au金属组合，即下层为Ti、上层为Au，其厚度为0.2μm/0.11μm。其中所淀积
金属要完全填充5个凹槽，以第2个独立金属块为对称轴，在对称轴左侧，左调制板与其第一
个独立金属块的间距S1为0.26μm，第一个独立金属块与第二个独立金属块的间距S2为0.52μ
m；右调制板与其第1个独立金属块的间距U1为0.26μm，第1个独立金属块与第2个独立金属
块的间距U2为0.52μm，独立金属块的长度t为2μm，左调制板右边缘与栅柱7右边缘之间的距
离等于右调制板左边缘与N型漏柱8左边缘之间的距离，该距离L为2.25μm。
[0189] 步骤十四.在钝化层16和复合板17的外围区域，淀积SiO2制作保护层18，如图8n。
[0190] 使用等离子体增强化学气相淀积技术在N2O流量为850sccm，SiH4流量为200sccm，温度为250℃，RF功率为50W，压强为1100mTorr的工艺条件下，在钝化层16和复合板17的外
围区域淀积SiO2以制作保护层18，其厚度为0.7μm，从而完成整个器件的制作。
围区域淀积SiO2以制作保护层18，其厚度为0.7μm，从而完成整个器件的制作。
[0191] 实施例三：制作P型层6位于势垒层3以上的厚度h2为400nm，P型层6的掺杂浓度为516 ‑3 16 ‑3
×10 cm ，栅柱7的长度为5000nm，N型漏柱8的掺杂浓度为1×10 cm ，其位于势垒层3以上
16 ‑3
的厚度h1为600nm，P型排柱10的深度为u1为550nm、掺杂浓度为1×10 cm ，长方形P柱的数
‑ 11 ‑3 +
目w为5个，N柱91深度y1为50nm、掺杂浓度为1×10 cm ，N柱92的深度y2为300nm、掺杂浓度
18 ‑3
为1×10 cm ，长方形N柱的数目m为5个，阵列孔19由10×10个大小相同的孔组成，凹槽的
数目为7个、独立金属块的数目为5个的结型栅‑漏功率器件。
×10 cm ，栅柱7的长度为5000nm，N型漏柱8的掺杂浓度为1×10 cm ，其位于势垒层3以上
16 ‑3
的厚度h1为600nm，P型排柱10的深度为u1为550nm、掺杂浓度为1×10 cm ，长方形P柱的数
‑ 11 ‑3 +
目w为5个，N柱91深度y1为50nm、掺杂浓度为1×10 cm ，N柱92的深度y2为300nm、掺杂浓度
18 ‑3
为1×10 cm ，长方形N柱的数目m为5个，阵列孔19由10×10个大小相同的孔组成，凹槽的
数目为7个、独立金属块的数目为5个的结型栅‑漏功率器件。
[0192] 步骤A.在硅衬底1上自下而上外延AlN与GaN材料制作过渡层2，如图8a。
[0193] 首先，使用金属有机物化学气相淀积技术在硅衬底1上外延厚度为400nm的AlN材料，其工艺条件为：温度为800℃，压强为40Torr，氢气流量为4000sccm，氨气流量为
4000sccm，铝源流量为25μmol/min的工艺条件；
4000sccm，铝源流量为25μmol/min的工艺条件；
[0194] 然后，使用金属有机物化学气相淀积技术在AlN材料上外延厚度为9.6μm的GaN材料，完成过渡层2制作，其工艺条件为：温度为980℃，压强为45Torr，氢气流量为4000sccm，
氨气流量为4000sccm，镓源流量为120μmol/min。
氨气流量为4000sccm，镓源流量为120μmol/min。
[0195] 步骤B.在GaN过渡层2上淀积未掺杂的Al0.1Ga0.9N制作势垒层3，如图8b。
[0196] 使用金属有机物化学气相淀积技术在GaN过渡层2上淀积厚度为60nm，且铝组分为0.1的未掺杂Al0.1Ga0.9N势垒层3；其淀积的工艺条件是：温度为980℃，压强为45Torr，氢气
流量为4600sccm，氨气流量为4600sccm，镓源流量为37μmol/min，铝源流量为7μmol/min。
流量为4600sccm，氨气流量为4600sccm，镓源流量为37μmol/min，铝源流量为7μmol/min。
[0197] 步骤C.在势垒层3上制作栅槽4和漏槽5，如图8c。
[0198] 首先，在Al0.1Ga0.9N势垒层3上第一次制作掩膜，利用该掩膜使用反应离子刻蚀技术在势垒层3内刻蚀深度z1为55nm、长度a1为3000nm的栅槽4；刻蚀栅槽4采用的工艺条件为：
Cl2流量为15sccm，压强为10mTorr，功率为50W。
Cl2流量为15sccm，压强为10mTorr，功率为50W。
[0199] 然后，在Al0.1Ga0.9N势垒层3上第二次制作掩膜，利用该掩膜使用反应离子刻蚀技术在势垒层3内刻蚀深度z2为60nm、长度a2为1800nm的漏槽5；刻蚀漏槽5采用的工艺条件为：
Cl2流量为15sccm，压强为10mTorr，功率为50W。
Cl2流量为15sccm，压强为10mTorr，功率为50W。
[0200] 步骤D.在势垒层3上外延P型层6，如图8d。
[0201] 使用分子束外延技术，在势垒层3上外延厚度h2为400nm、掺杂浓度为5×1016cm‑3的p型GaN半导体材料，并填充栅槽4和漏槽5，形成P型层6；
[0202] 分子束外延采用的工艺条件是：真空度小于等于1.0×10‑10mbar，射频功率为350W，反应剂采用N2、高纯Ga源。
[0203] 步骤E.制作栅柱7和N型漏柱8，如图8e。
[0204] 首先，在P型层6上第三次制作掩膜，利用该掩膜使用反应离子刻蚀技术在P型层6的两侧进行刻蚀，漏槽5外刻蚀至势垒层3的上表面为止，漏槽5内刻蚀至其底部，形成长度
为5000nm的栅柱7，栅柱7左边缘与栅槽4左边缘的间距q1为1000nm，其右边缘与栅槽4右边
缘的间距q2为1000nm，刻蚀采用的工艺条件是：Cl2流量为15sccm，压强为10mTorr，功率为
100W；
为5000nm的栅柱7，栅柱7左边缘与栅槽4左边缘的间距q1为1000nm，其右边缘与栅槽4右边
缘的间距q2为1000nm，刻蚀采用的工艺条件是：Cl2流量为15sccm，压强为10mTorr，功率为
100W；
[0205] 然后，在势垒层3和栅柱7上第四次制作掩膜，利用该掩膜使用选择性外延生长技术在漏槽5内外延N型GaN半导体材料，形成厚度h1为600nm，长度为1800nm、掺杂浓度为1×
16 ‑3 ‑10
10 cm 的N型漏柱8，选择性外延采用的工艺条件是：真空度小于等于1.0×10 mbar，射频
功率为350W，反应剂采用N2、高纯Ga源。
16 ‑3 ‑10
10 cm 的N型漏柱8，选择性外延采用的工艺条件是：真空度小于等于1.0×10 mbar，射频
功率为350W，反应剂采用N2、高纯Ga源。
[0206] 步骤F.制作N型排柱9和P型排柱10，如图8f。
[0207] 首先，在势垒层3、栅柱7和N型漏柱8上第五次制作掩膜，利用该掩膜使用离子注入11 ‑3
技术在P型层6内掺入浓度为1×10 cm 的N型杂质,形成深度y1+y2为350nm、宽度为500nm的
‑
5个N柱91，离子注入采用的工艺条件是：注入N型杂质为Si；
技术在P型层6内掺入浓度为1×10 cm 的N型杂质,形成深度y1+y2为350nm、宽度为500nm的
‑
5个N柱91，离子注入采用的工艺条件是：注入N型杂质为Si；
[0208] 其次，继续利用第五次制作的掩膜，利用该掩膜使用离子注入技术在P型层6内掺18 ‑3 + +
入浓度为1×10 cm 的N型杂质,形成深度y2为300nm、宽度为500nm的5个N柱92，这5个N 柱
‑
92与5个N柱91共同形成N型排柱9，离子注入采用的工艺条件是：注入N型杂质为S；
入浓度为1×10 cm 的N型杂质,形成深度y2为300nm、宽度为500nm的5个N柱92，这5个N 柱
‑
92与5个N柱91共同形成N型排柱9，离子注入采用的工艺条件是：注入N型杂质为S；
[0209] 然后，在势垒层3、栅柱7和N型漏柱8上第六次制作掩膜，利用该掩膜使用离子注入16 ‑3
技术在N型漏柱8内掺入浓度为1×10 cm 的P型杂质，形成深度u1为550nm，宽度为180nm的5
个长方形P柱，这5个长方形P柱形成P型排柱10，离子注入采用的工艺条件是：注入P型杂质
为Mg。
技术在N型漏柱8内掺入浓度为1×10 cm 的P型杂质，形成深度u1为550nm，宽度为180nm的5
个长方形P柱，这5个长方形P柱形成P型排柱10，离子注入采用的工艺条件是：注入P型杂质
为Mg。
[0210] 步骤G.制作阵列孔19，如图8g。
[0211] 首先，在厚度为60nm的Al0.1Ga0.9N势垒层3、栅柱7、N型漏柱8上第七次制作掩膜，该掩膜图形是由10×10个边长k2为2μm的正方形孔组成的阵列，相邻两个孔的间距k3为3μm，最
外围孔与源极11或欧姆接触12的边界间距k1为4μm；利用该掩膜采用反应离子刻蚀技术在
Al0.1Ga0.9N势垒层3上刻蚀制作10×10个长方体孔柱191，其中每个孔柱191的深度r均为
20nm，其刻蚀孔柱191采用的工艺条件：Cl2/BCl3流量比为3:1，压强为30mTorr，功率为150W；
外围孔与源极11或欧姆接触12的边界间距k1为4μm；利用该掩膜采用反应离子刻蚀技术在
Al0.1Ga0.9N势垒层3上刻蚀制作10×10个长方体孔柱191，其中每个孔柱191的深度r均为
20nm，其刻蚀孔柱191采用的工艺条件：Cl2/BCl3流量比为3:1，压强为30mTorr，功率为150W；
[0212] 然后，在厚度为60nm的Al0.1Ga0.9N势垒层3、栅柱7、N型漏柱8上第八次制作掩膜，利用该掩模在上述形成的10×10个大小相同长方体孔柱191内采用反应离子刻蚀技术刻蚀制
作相同的四棱锥192，该10×10个大小相同长方体孔柱191与其下部的四棱锥192共同构成
阵列孔19。这些四棱锥的上表面与孔柱191的下表面重合，四棱锥191的深度e为35nm，且四
个侧面均相同，Al0.1Ga0.9N势垒层3刻蚀后的厚度为5nm。刻蚀四棱锥192采用的工艺条件：
BCl3流量为60sccm，压强为25mTorr，功率为150W。
作相同的四棱锥192，该10×10个大小相同长方体孔柱191与其下部的四棱锥192共同构成
阵列孔19。这些四棱锥的上表面与孔柱191的下表面重合，四棱锥191的深度e为35nm，且四
个侧面均相同，Al0.1Ga0.9N势垒层3刻蚀后的厚度为5nm。刻蚀四棱锥192采用的工艺条件：
BCl3流量为60sccm，压强为25mTorr，功率为150W。
[0213] 步骤H.制作源极11和漏极13，如图8h。
[0214] 首先，在势垒层3、栅柱7、N型漏柱8的上部第九次制作掩膜，利用该掩模在左右两边的势垒层3上使用电子束蒸发技术淀积Ta金属，且完全填充阵列孔19。淀积金属采用的工
‑3
艺条件：高纯度Ta源，真空度小于1.8×10 Pa，功率为400W，蒸发速率小于 ；
‑3
艺条件：高纯度Ta源，真空度小于1.8×10 Pa，功率为400W，蒸发速率小于 ；
[0215] 其次，继续利用第九次制作的掩膜，再次采用电子束蒸发技术淀积金属，并在N2气氛中进行快速热退火，制作源极11和欧姆接触12，其中所淀积的金属为Ti/Al/Ti/Au金属组
合，即自下而上分别为Ti、Al、Ti与Au，其厚度依次为0.012μm/0.138μm/0.041μm/0.059μm。
‑3
淀积金属采用的工艺条件：真空度小于1.8×10 Pa，功率为1000W，蒸发速率小于 ；快速
热退火采用的工艺条件为：温度为850℃，时间为35s；
合，即自下而上分别为Ti、Al、Ti与Au，其厚度依次为0.012μm/0.138μm/0.041μm/0.059μm。
‑3
淀积金属采用的工艺条件：真空度小于1.8×10 Pa，功率为1000W，蒸发速率小于 ；快速
热退火采用的工艺条件为：温度为850℃，时间为35s；
[0216] 接着，在势垒层3、栅柱7、N型漏柱8、源极11和欧姆接触12的上部第十次制作掩膜，利用该掩膜再次采用电子束蒸发技术淀积金属，该金属采用Pd/Ni/Co/Ni金属组合，即自下
而上分别为Pd、Ni、Co与Ni，其厚度为0.012μm/0.138μm/0.041μm/0.059μm，形成漏极13，N型
漏柱8、欧姆接触12和漏极13彼此电气连接。淀积金属采用的工艺条件为：真空度小于1.8×
‑3
10 Pa，功率为1000W，蒸发速率小于 。
而上分别为Pd、Ni、Co与Ni，其厚度为0.012μm/0.138μm/0.041μm/0.059μm，形成漏极13，N型
漏柱8、欧姆接触12和漏极13彼此电气连接。淀积金属采用的工艺条件为：真空度小于1.8×
‑3
10 Pa，功率为1000W，蒸发速率小于 。
[0217] 步骤I.在源极11左边与漏极13右边的势垒层3上进行刻蚀制作台面14，如图8i。
[0218] 在势垒层3、栅柱7、源极11和漏极13上第十一次制作掩膜，利用该掩膜在源极11左边与漏极13右边的势垒层3上使用反应离子刻蚀技术进行刻蚀，形成刻蚀深度为400nm的台
面14；刻蚀采用的工艺条件是：Cl2流量为15sccm，压强为10mTorr，功率为100W。
面14；刻蚀采用的工艺条件是：Cl2流量为15sccm，压强为10mTorr，功率为100W。
[0219] 步骤J.制作栅极15，如图8j。
[0220] 在势垒层3、栅柱7、源极11、漏极13和台面14的上部第十二次制作掩膜，利用该掩+
膜在栅柱7上使用电子束蒸发技术淀积金属，制作栅极15，栅极15的下边缘与所有N柱92的
上边缘均有重合，其长度等于栅柱7的长度，其中所淀积的金属为Ta/Ni金属组合，即下层为
‑
Ta、上层为Ni，其厚度为0.25μm/0.38μm；淀积金属采用的工艺条件是：真空度小于1.8×10
3
Pa，功率为1000W，蒸发速率小于 。
膜在栅柱7上使用电子束蒸发技术淀积金属，制作栅极15，栅极15的下边缘与所有N柱92的
上边缘均有重合，其长度等于栅柱7的长度，其中所淀积的金属为Ta/Ni金属组合，即下层为
‑
Ta、上层为Ni，其厚度为0.25μm/0.38μm；淀积金属采用的工艺条件是：真空度小于1.8×10
3
Pa，功率为1000W，蒸发速率小于 。
[0221] 步骤K.制作钝化层16，如图8k。
[0222] 在栅柱7、源极11、漏极13和栅极15的上部及其外围区域，采用等离子体增强化学气相淀积技术淀积厚度为1000nm的SiO2钝化层16；淀积钝化层16采用的工艺条件是：N2O流
量为850sccm，SiH4流量为200sccm，温度为250℃，RF功率为100W，压力为1100mT。
量为850sccm，SiH4流量为200sccm，温度为250℃，RF功率为100W，压力为1100mT。
[0223] 步骤L.制作7个凹槽，如图8l。
[0224] 在钝化层16上第十三次制作掩膜，利用该掩膜在栅柱7与N型漏柱8之间的钝化层16内使用反应离子刻蚀技术进行刻蚀，以制作相同深度、相同宽度的7个凹槽，凹槽的宽度
a3为4μm，深度d为600nm。栅柱7与N型漏柱8以第4个凹槽为对称轴，在对称轴左侧，栅柱7与
第一个凹槽的间距b1为2μm，第一个凹槽与第二个凹槽的间距为c1，第二个凹槽与第三个凹
槽的间距为c2，第三个凹槽与第四个凹槽的间距为c3，且c1与第1个凹槽的间距b2为2μm，第1个凹槽与第2个凹槽的间距为i1，第2个凹槽与第3个凹槽的
间距为i2，第3个凹槽与第4个凹槽的间距为i3，且i1的工艺条件是：CF4流量为45sccm，O2流量为5sccm，压强为15mTorr，功率为250W。
a3为4μm，深度d为600nm。栅柱7与N型漏柱8以第4个凹槽为对称轴，在对称轴左侧，栅柱7与
第一个凹槽的间距b1为2μm，第一个凹槽与第二个凹槽的间距为c1，第二个凹槽与第三个凹
槽的间距为c2，第三个凹槽与第四个凹槽的间距为c3，且c1
间距为i2，第3个凹槽与第4个凹槽的间距为i3，且i1
[0225] 步骤M.制作左调制板、5个独立金属块和右调制板，如图8m。
[0226] 在钝化层16和7个凹槽的上部第十次制作掩膜，利用该掩膜在7个凹槽内、栅柱7与N型漏柱8之间的钝化层上使用电子束蒸发技术淀积金属制作左调制板、5个独立金属块和
右调制板，并将左调制板与源极11电气连接，将右调制板与漏极13电气连接，5个独立金属
块彼此悬空，左调制板和右调制板以第3个独立金属块为中心呈左右对称分布，形成复合板
17，其中所淀积的金属为Ti/Au金属组合，即下层为Ti、上层为Au，其厚度依次为0.35μm/
0.28μm，且所淀积的金属要完全填充7个凹槽；
右调制板，并将左调制板与源极11电气连接，将右调制板与漏极13电气连接，5个独立金属
块彼此悬空，左调制板和右调制板以第3个独立金属块为中心呈左右对称分布，形成复合板
17，其中所淀积的金属为Ti/Au金属组合，即下层为Ti、上层为Au，其厚度依次为0.35μm/
0.28μm，且所淀积的金属要完全填充7个凹槽；
[0227] 独立金属块与调制板之间及这些独立金属块之间的间距为：以第3个独立金属块为对称轴，在对称轴左侧，左调制板与其第一个独立金属块的间距S1为0.35μm；第一个独立
金属块与第二个独立金属块的间距S2为0.56μm；第二个独立金属块与第三个独立金属块的
间距S3为0.97μm；右调制板与其第1个独立金属块的间距U1为0.35μm；第1个独立金属块与第
2个独立金属块的间距U2为0.56μm；第2个独立金属块与第3个独立金属块的间距U3为0.97μ
m；独立金属块的长度t为5μm，左调制板右边缘与栅柱7右边缘之间的距离等于右调制板左
边缘与N型漏柱8左边缘之间的距离，该距离L为6.5μm；淀积金属采用的工艺条件：真空度小
‑3
于1.8×10 Pa，功率为1000W，蒸发速率小于 。
金属块与第二个独立金属块的间距S2为0.56μm；第二个独立金属块与第三个独立金属块的
间距S3为0.97μm；右调制板与其第1个独立金属块的间距U1为0.35μm；第1个独立金属块与第
2个独立金属块的间距U2为0.56μm；第2个独立金属块与第3个独立金属块的间距U3为0.97μ
m；独立金属块的长度t为5μm，左调制板右边缘与栅柱7右边缘之间的距离等于右调制板左
边缘与N型漏柱8左边缘之间的距离，该距离L为6.5μm；淀积金属采用的工艺条件：真空度小
‑3
于1.8×10 Pa，功率为1000W，蒸发速率小于 。
[0228] 步骤N.在钝化层16和复合板17的外围区域，淀积SiO2制作保护层18，如图8n。
[0229] 在反应室通入流量为850sccm的N2O，流量为200sccm的SiH4，设温度为250℃，在RF功率为100W，压强为1100mTorr的工艺条件下，使用等离子体增强化学气相淀积技术在钝化
层16和复合板17的外围区域淀积SiO2以制作保护层18，其厚度为1μm，从而完成整个器件的
制作；
层16和复合板17的外围区域淀积SiO2以制作保护层18，其厚度为1μm，从而完成整个器件的
制作；
[0230] 本发明的效果可通过以下仿真进一步说明。
[0231] 一、仿真参数
[0232] 设置传统GaN基HEMT功率开关器件与本发明器件采用相同的主体结构参数，本发明器件采用11个独立金属块，每个独立金属块长度均为1.6μm。
[0233] 二、仿真内容
[0234] 仿真1：对传统器件和本发明器件分别进行转移特性仿真，结果如图9。
[0235] 由图9可以看出，传统器件的阈值电压为1V，而本发明器件的阈值电压为13.5V，说明本发明器件的阈值电压明显大于传统器件的阈值电压。
[0236] 仿真2：对传统器件和本发明器件分别进行击穿特性仿真，结果如图10。
[0237] 由图10可以看出，传统器件只能实现正向阻断，且器件发生击穿，即漏极电流迅速增加，时的漏源电压为296V，而本发明器件可实现正向阻断和反向阻断，且正向阻断时器件
的击穿电压为2520V，反向阻断时器件的击穿电压为2690V，说明本发明器件可实现双向阻
断特性，且击穿电压远大于传统器件。
的击穿电压为2520V，反向阻断时器件的击穿电压为2690V，说明本发明器件可实现双向阻
断特性，且击穿电压远大于传统器件。
[0238] 以上描述仅是本发明的三个具体实施例，并不构成对本发明的限制，显然对于本领域的专业人员来说，在了解了本发明内容和原理后，能够在不背离本发明的原理和范围
的情况下，根据本发明的方法进行形式和细节上的各种修正和改变，但是这些基于本发明
的修正和改变仍在本发明的权利要求保护范围之内。
的情况下，根据本发明的方法进行形式和细节上的各种修正和改变，但是这些基于本发明
的修正和改变仍在本发明的权利要求保护范围之内。