显示面板的制造方法及显示面板

摘要

本申请实施例提供了一种显示面板的制造方法及显示面板，其中，该显示面板的制造方法包括提供一衬底；在所述衬底上依次形成阳极层和保护层；在所述保护层上形成像素界定层；图案化所述像素界定层，以暴露所述保护层；去除所述保护层，以暴露所述阳极层；在所述阳极层上依次形成有机功能层、阴极层和封装层。本方案通过在阳极层上形成一保护层，对阳极层进行保护，避免了阳极层与像素界定层接触，并在图案化像素界定层后将该保护层去除，从而解决显示面板在发光时，出现发光不均、亮点或暗点的显示不均的问题。

权利要求

1.一种显示面板的制造方法，其特征在于，包括：提供一衬底；

在所述衬底上形成阳极层；

在所述阳极层上涂覆预设溶液；

对所述预设溶液进行第一加热处理，以去除所述预设溶液的有机溶剂，得到保护层；

在所述保护层上形成像素界定层；

图案化所述像素界定层，以暴露所述保护层；

对所述保护层进行第二加热处理，以暴露所述阳极层；

在所述阳极层上依次形成有机功能层、阴极层和封装层。

2.如权利要求1所述的显示面板的制造方法，其特征在于，所述预设溶液为二苯醚溶液，所述有机溶剂为丙酮。

3.如权利要求1所述的显示面板的制造方法，其特征在于，所述第一加热处理的加热温度为120℃‑180℃。

4.如权利要求1所述的显示面板的制造方法，其特征在于，所述第二加热处理的加热温度为200℃‑300℃。

5.如权利要求1所述的显示面板的制造方法，其特征在于，在所述图案化所述像素界定层，以暴露所述保护层之后，还包括：对所述像素界定层和所述阳极层进行烘烤。

6.如权利要求1所述的显示面板的制造方法，其特征在于，图案化后的所述像素界定层的侧面设置有亲水性材料膜层，图案化后的所述像素界定层的顶面设置有疏水性材料膜层。

7.一种显示面板，其特征在于，包括：衬底；

阳极层，所述阳极层设置于所述衬底上；

像素界定层，所述像素界定层设置于所述衬底上，所述像素界定层具有像素开口，所述像素开口暴露所述阳极层；

有机功能层，所述有机功能层设置于所述像素开口，所述有机功能层是通过在所述阳极层上涂覆预设溶液，对所述预设溶液进行第一加热处理，以去除所述预设溶液的有机溶剂，得到保护层，再在所述保护层上形成像素界定层，然后图案化所述像素界定层，以形成暴露所述保护层的所述像素开口，然后对所述保护层进行第二加热处理以暴露所述阳极层，最后在所述阳极层上打印有机功能材料形成的；

阴极层，所述阴极层设置于所述有机功能层上；

封装层，所述封装层覆盖所述阴极层和所述像素界定层。

说明书

显示面板的制造方法及显示面板

技术领域

[0001] 本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板的制造方法及显示面板。

背景技术

[0002] 喷墨打印技术的制程包括在阳极层上制备具有像素开口的像素界定层，以通过该像素开口暴露阳极层。在通过喷墨打印技术形成有机功能层的过程中，阳极层表面有部分
有像素界定层材料残留，使得有机功能墨水材料铺展不开，从而引起显示面板在发光时，出
现发光不均、亮点或暗点的显示不均(mura)问题，严重影响了显示面板的显示效果。

发明内容

[0003] 本申请实施例提供了一种显示面板的制造方法及显示面板，可以提高阳极层表面的洁净程度，从而解决显示面板在发光时，出现发光不均、亮点或暗点的显示不均的问题。

[0004] 第一方面，本申请实施例提供了一种显示面板的制造方法，包括：

[0005] 提供一衬底；

[0006] 在所述衬底上依次形成阳极层和保护层；

[0007] 在所述保护层上形成像素界定层；

[0008] 图案化所述像素界定层，以暴露所述保护层；

[0009] 去除所述保护层，以暴露所述阳极层；

[0010] 在所述阳极层上依次形成有机功能层、阴极层和封装层。

[0011] 在本申请实施例提供的显示面板的制造方法中，在所述衬底上依次形成阳极层和保护层，包括：

[0012] 在所述衬底上形成阳极层；

[0013] 在所述阳极层上涂覆预设溶液；

[0014] 对所述预设溶液进行第一加热处理，以去除所述预设溶液的有机溶剂，得到所述保护层。

[0015] 在本申请实施例提供的显示面板的制造方法中，所述预设溶液为二苯醚溶液，所述有机溶剂为丙酮。

[0016] 在本申请实施例提供的显示面板的制造方法中，所述第一加热处理的加热温度为120℃‑180℃。

[0017] 在本申请实施例提供的显示面板的制造方法中，所述去除所述保护层，以暴露所述阳极层，包括：

[0018] 对所述保护层进行升华处理，以暴露所述阳极层。

[0019] 在本申请实施例提供的显示面板的制造方法中，对所述保护层进行升华处理，以暴露所述阳极层，包括：

[0020] 对所述保护层进行第二加热处理，以暴露所述阳极层。

[0021] 在本申请实施例提供的显示面板的制造方法中，所述第二加热处理的加热温度为200℃‑300℃。

[0022] 在本申请实施例提供的显示面板的制造方法中，在所述图案化所述像素界定层，以暴露所述保护层之后，还包括：

[0023] 对所述像素界定层和所述阳极层进行烘烤。

[0024] 在本申请实施例提供的显示面板的制造方法中，图案化后的所述像素界定层的侧面具有亲水性材料膜层，图案化后的所述像素界定层的顶面设置有疏水性材料膜层。

[0025] 第二方面，本申请实施例提供了一种显示面板，包括：

[0026] 衬底；

[0027] 阳极层，所述阳极层设置于所述衬底上；

[0028] 像素界定层，所述像素界定层设置于所述衬底上，所述像素界定层具有像素开口，所述像素开口暴露所述阳极层；

[0029] 有机功能层，所述有机功能层设置于所述像素开口，所述有机功能层是通过在所述阳极层上设置保护层，再在所述保护层上形成像素界定层，然后图案化所述像素界定层，
以形成暴露所述保护层的所述像素开口，然后去除所述保护层以暴露所述阳极层，最后在
所述阳极层上打印有机功能材料形成的；

[0030] 阴极层，所述阴极层设置于所述有机功能层上；

[0031] 封装层，所述封装层覆盖所述阴极层和所述像素界定层。

[0032] 由上，本申请实施例提供的显示面板的制造方法包括提供一衬底；在所述衬底上依次形成阳极层和保护层；在所述保护层上形成像素界定层；图案化所述像素界定层，以暴
露所述保护层；去除所述保护层，以暴露所述阳极层；在所述阳极层上依次形成有机功能
层、阴极层和封装层。本方案通过在阳极层上形成一保护层，对阳极层进行保护，避免了阳
极层与像素界定层接触，并在图案化像素界定层后将该保护层升华，从而解决显示面板在
发光时，出现发光不均、亮点或暗点的显示不均的问题。

附图说明

[0033] 为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于
本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附
图。

[0034] 图1是本申请实施例提供的显示面板的制造方法的流程示意图。

[0035] 图2‑图6为本申请实施例提供的显示面板的制造方法的示意图。

具体实施方式

[0036] 下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于
本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施
例，都属于本申请保护的范围。

[0037] 在本申请的描述中，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第
二”、“第三”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。

[0038] 本申请实施例提供了一种显示面板的制造方法及显示面板，以下将分别进行详细说明。

[0039] 请参阅图1，图1是本申请实施例提供的显示面板的制造方法的流程示意图。通过该显示面板的制造方法可以形成如图6所示的显示面板100。该显示面板的制造方法的具体
流程可以如下：

[0040] 101、提供一衬底10。

[0041] 其中，该衬底10可以包括基板和设置于基板上的多个薄膜晶体管。该基板可以为柔性基板，比如聚酰亚胺柔性基板等。该薄膜晶体管可以是底栅型或顶栅型结构，以底栅型
薄膜晶体管为例，其可包括依次层叠的栅极、栅绝缘层、有源层、介电层和源漏层，源漏层包
括源极和漏极。

[0042] 102、在所述衬底10上依次形成阳极层20和保护层30。

[0043] 具体的，可以在衬底10上形成阳极层20；在阳极层10上涂覆预设溶液；对所述预设溶液进行第一加热处理，以去除预设溶液的有机溶剂，得到所述保护层30。

[0044] 其中，阳极层20可以通过溅射镀膜的方式形成。该阳极层20的材料为氧化铟锡(Indium Tin Oxides，ITO)。

[0045] 其中，该预设溶液可以通过将预设溶质溶解在有机溶剂中得到。该预设溶质可以为二苯醚。即是，该预设溶液为二苯醚溶液。该有机溶剂可以为丙酮或其它能溶解二苯醚的
溶剂。

[0046] 其中，该第一加热处理的加热温度为120℃‑180℃。比如，第一加热处理的温度可以为120℃、130℃、140℃、180℃等等。

[0047] 103、在所述保护层30上形成像素界定层40。

[0048] 具体可以如图2所示，通过喷墨打印技术在保护层30上形成像素界定层40。

[0049] 104、图案化所述像素界定层40，以暴露所述保护层30。

[0050] 具体可以如图3所示，通过黄光制程对像素界定层40进行图案化处理。

[0051] 其中，黄光制程包括像素界定层40上涂布光阻、曝光、显影、刻蚀像素界定层40等步骤。

[0052] 在一些实施例中，在步骤“图案化所述像素界定层40，以暴露所述保护层30”之后，还可以包括：

[0053] 对所述像素界定层40和所述阳极层30进行烘烤。

[0054] 通过烘烤可以将像素界定层40进行固化，还可以将阳极层20中的非晶态的ITO转化为结晶态的ITO。

[0055] 在本申请实施例中，图案化后的像素界定层40的侧面41设置有亲水性材料膜层，图案化后的像素界定层40的顶面42设置有疏水性材料膜层。其中，该亲水性材料膜层的材
料为刚性聚合物。该刚性聚合物可以为主链中含有烷基的聚合物和主链中含有环状刚性结
构的聚合物中的一种或多种。比如，聚酰亚胺、双酚A聚碳酸酯。该疏水性材料膜层的材料为
柔性聚合物，比如含氟的聚烯烃、含氟的聚环氧烷烃和聚硅氧烷中的一种或多种。在一些实
施例中，该阳极层20的表面设置有亲水性材料膜层。

[0056] 具体的，可以将亲水性材料溶液分别涂覆于像素界定层40的侧面41和阳极层20的表面，然后将疏水性材料涂覆于像素界定层40的顶面42，形成亲水性材料膜层和疏水性材
料膜层，从而使得在通过喷墨打印形成有机功能层50时，有机功能材料不在像素界定层40
的顶面堆积，并在阳极层20上均匀平铺。

[0057] 105、去除所述保护层30，以暴露所述阳极层20。

[0058] 具体可以如图4所示，对该保护层30进行升华处理，以暴露阳极层20。

[0059] 具体的，可以通过热传导的方式对该保护层30进行第二加热处理，以暴露阳极层20。

[0060] 在一实施方式中，通过热传导的方式对保护层30进行第二加热处理具体可以包括：将形成有阳极层20、保护层30和像素界定层40的衬底10置于加热装置上，利用加热装置
对保护层30进行加热。通过加热装置向衬底10传导热量，从而间接的向对保护层30进行加
热，使保护层30发生升华。其中，该加热装置可为加热盘，采用电加热的方式进行加热，其形
状可以是圆形、矩形等。

[0061] 在一些实施例中，还可以将形成有阳极层20、保护层30和像素界定层40的衬底10置于一烘烤箱内，通过烘烤箱进行烘烤，向保护层30传导热量，使其升华。当然，还可以采用
其它直接或间接的对保护层30进行热传导的方式，在此不再一一赘述。

[0062] 第二加热处理的加热温度小于300℃，且大于200℃。

[0063] 在一些实施例中，该保护层30的厚度为10纳米‑1000纳米。比如，该保护层30的厚度可以为10纳米、20纳米、100纳米、200纳米、500纳米、1000纳米等等。该保护层30的厚度不
大于1000纳米，以防止厚度过大而使升华时间过长。同时，保护层30的厚度不小于10纳米，
以确保该保护层能阻隔阳极层20和图案化之前的像素界定层40。

[0064] 106、在所述阳极层20上依次形成有机功能层50、阴极层60和封装层70。

[0065] 具体可以如图5‑图6所示，通过喷墨打印技术在阳极层20上形成有机功能层50，然后再在有机层功能层50上依次形成阴极层60和封装层70。

[0066] 在一些实施例中，在形成该有机功能层50后，还可以对该有机功能层50进行干燥处理，以使该有机功能层50固化。干燥处理的具体方式可以为热平板干燥法(HPB)或真空干
燥法(VCD)等。

[0067] 该有机功能层50可包括多个发光器件，每个发光器件包括第一电极以及依次层叠于该第一电极上的空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层、电子注入层和第二
电极。各发光器件的第一电极通过一连接孔与衬底10的薄膜晶体管的漏极连接，从而可在
薄膜晶体管的驱动下，使有机功能层50的有机发光层发光。

[0068] 其中，该封装层70可以为透明绝缘材料。该封装层70可以为单层或多层结构。

[0069] 本申请实施例中的显示面板100可以是顶发光或者底发光，当显示面板100为顶发光时，显示面板100的出射光线从与阳极层20相对的阴极层60透出，此时阳极层20为反射电
极，阴极层60为透明电极。当显示面板100为底发光时，显示面板100的出射光线从阳极层20
透出，此时阳极层20为透明电极，阴极层60是反射电极。

[0070] 由上，本申请实施例提供的显示面板的制造方法包括提供一衬底10；在所述衬底10上依次形成阳极层20和保护层30；在所述保护层30上形成像素界定层40；图案化所述像
素界定层40，以暴露所述保护层30；去除所述保护层30，以暴露所述阳极层20；在所述阳极
层20上依次形成有机功能层50、阴极层60和封装层70。本方案通过在阳极层20上形成一保
护层30，对阳极层20进行保护，避免了阳极层20与像素界定层40接触，并在图案化像素界定
层40后将该保护层30升华，从而提高了阳极层20表面的洁净程度，减少了像素界定层材料
的残留，使得有机功能墨水可以在阳极层20上均匀铺展，从而解决显示面板100在发光时，
出现发光不均、亮点或暗点的显示不均问题，提高显示面板的显示效果。

[0071] 请参阅图5，图5是本申请实施例提供的显示面板的结构示意图。该显示面板100包括衬底10、阳极层20、像素界定层40、有机功能层50、阴极层60和封装层70。

[0072] 其中，阳极层20设置于衬底10上。像素界定层40设置于衬底10上，该像素界定层40具有像素开口43，该像素开口43暴露阳极层20。有机功能层50设置于像素开口43，该有机功
能层50是通过在阳极层20上设置保护层30，再在保护层30上形成像素界定层40，然后图案
化像素界定层40，以形成暴露保护层20的像素开口43，然后去除保护层20以暴露阳极层20，
最后在阳极层20上打印有机功能材料形成的。该阴极层60设置于有机功能层50上。该封装
层70覆盖阴极层60和像素界定层40。

[0073] 在上述实施例中，对各个实施例的描述都各有侧重，某个实施例中没有详述的部分，可以参见其他实施例的相关描述。

[0074] 以上对本申请实施例所提供的一种显示面板的制造方法及显示面板进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本申请的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明
只是用于帮助理解本申请的技术方案及其核心思想；本领域的普通技术人员应当理解：其
依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同
替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例的技术方案
的范围。