一种浸没式光刻机浸液温控装置转让专利
申请号 : CN202010994847.1
文献号 : CN112034689B
文献日 : 2021-10-08
发明人 : 李小平 , 曹迪
申请人 : 华中科技大学 , 武汉智能装备工业技术研究院有限公司
摘要 :
权利要求 :
1.一种浸没式光刻机浸液温控装置,其特征在于,包括:第一级温控模块和第二级温控模块;
所述第一级温控模块包括工艺冷却水PCW循环回路和超纯水UPW循环回路,从浸没式光刻机中回收的UPW流入所述UPW循环回路,所述第一级温控模块通过调节PCW循环回路中PCW的温度,并通过将PCW循环回路和UPW循环回路热交换来调节从光刻机中回收的UPW的温度,使从浸没式光刻机中回收的UPW的温度达到稳定的设定值;所述第一级温控模块通过对PCW循环回路的加热功率和流量控制,实现对PCW的温度控制;
所述UPW循环回路中流通UPW液体,其通路的部件包括:第二循环泵和热交换器;所述第二循环泵的输出端连接所述热交换器的第三端,所述第二循环泵的输入端连接所述热交换器的第四端;从浸没式光刻机中回收的UPW流入所述热交换器的第三端;所述第二循环泵用于稳定所述UPW循环回路的流量,并使经过热交换器温控之后的部分UPW流回热交换器第三端,以提高流回热交换器第三端的UPW和热交换器第三端处的UPW混合液的温度稳定性;所述热交换器用于实现PCW循环回路和UPW循环回路之间的热交换;
所述PCW循环回路中流通PCW液体,其通路的部件包括:第一循环泵、热交换器、单向阀、第一流量传感器以及第一温度传感器;所述第一级温控模块还包括:第一流量伺服阀、第一加热器、第二温度传感器、第二流量传感器、第一控制器以及第三温度传感器;所述第一循环泵的输入端连接热交换器的第一端,输出端连接第一流量伺服阀的输入端;所述第一流量伺服阀的输出端输出PCW;厂务输入PCW端流入的PCW流入所述第一加热器的输入端,所述第一加热器的输出端连接所述热交换器的第二端;所述单向阀的输入端连接所述第一循环泵的输出端,所述单向阀的另一端连接所述加热器的输出端和所述热交换器的第二端;所述第一温度传感器用于检测所述PCW循环回路中PCW的温度,所述第二温度传感器用于检测流入所述第一加热器的PCW的温度是否保持稳定;所述第一循环泵用于调节PCW循环回路的流量;所述第一流量传感器用于检测PCW循环回路的流量,所述第二流量传感器用于检测流出所述PCW循环回路的流量;所述第一级温控模块还包括:第三温度传感器;所述第三温度传感器用于检测流出热交换器第四端的UPW温度;所述第一控制器用于结合第一温度传感器和第三温度传感器的检测结果控制第一加热器的加热功率,以及结合第一流量传感器和第二流量传感器检测的结果控制第一流量伺服阀,以控制流进流出PCW循环回路的PCW流量;通过结合加热功率和PCW流量的双重控制实现对PCW循环回路中PCW升温和降温的双向温度控制;
所述UPW循环回路的部件还包括:热缓冲罐;所述热缓冲罐的一端连接所述热交换器的第四端,所述热缓冲罐的另一端连接所述第二循环泵的输入端,且所述热缓冲罐的另一端作为所述UPW循环回路的输出端;所述热缓冲罐用于对UPW循环回路中流动的UPW进行充分混合,抑制UPW温度波动;
所述第二级温控模块用于将经所述第一级温控模块调节温度后的UPW液体分成两路UPW通路,并基于两路UPW通路热负载的差异调节两路UPW的温度使得两路UPW的温度均温度保持在所述设定值;所述第二级温控模块通过对两路UPW的加热功率和流量均进行控制,以控制两路UPW的温度均稳定保持在所述设定值;各路UPW通路热负载对应各路UPW通路的温度扰动量;所述第二级温控模块流出的两路UPW注入所述浸没式光刻机,一路UPW用于填充浸没式光刻机的UPW浸没流场,另一路UPW用于密封所述UPW浸没流场,使得所述浸没式光刻机能够基于所述UPW 浸没流场工作。
2.根据权利要求1所述的浸没式光刻机浸液温控装置,其特征在于,所述第二级温控模块包括:第一UPW通路、第二UPW通路、第三温度传感器、第四温度传感器、第三流量传感器、第四流量传感器以及第二控制器;
所述UPW循环回路输出端输出的UPW分别流入第一UPW通路和第二UPW通路;
所述第一UPW通路的部件包括:第二流量伺服阀、第二加热器、第三温度传感器以及第三流量传感器;
所述第二UPW通路的部件包括:第三流量伺服阀、第三加热器、第四温度传感器以及第四流量传感器;
所述第三温度传感器用于检测第一UPW通路中UPW的温度,所述第四温度传感器用于检测第二UPW通路中UPW的温度;所述第三流量传感器用于检测第一UPW通路中UPW的流量,所述第四流量传感器用于检测第二UPW通路中UPW的流量;
所述第二控制器用于结合第三温度传感器和第四温度传感器的检测结果确定第一UPW通路和第二UPW通路的热负载差异,并基于所述热负载差异以及第三流量传感器和第四流量传感器的检测值,控制第三加热器和第四加热器的加热功率,以使得第一UPW通路和第二UPW通路中UPW的温度均稳定保持在所述设定值。
3.根据权利要求1所述的浸没式光刻机浸液温控装置,其特征在于,所述UPW循环回路还包括:节流阀;
所述节流阀的一端连接第二循环泵的输出端,另一端连接热交换器的第三端;所述节流阀用于调节所述UPW循环回路的流量。
4.根据权利要求1所述的浸没式光刻机浸液温控装置,其特征在于,所述第一级温控模块还包括:减压阀;
所述减压阀为定值减压阀,所述减压阀输入端连接厂务输入PCW端,所述减压阀的输出端连接第一加热器的输入端,用于使得进入所述PCW循环回路的PCW压力保持稳定。
5.根据权利要求1至3任一项所述的浸没式光刻机浸液温控装置,其特征在于,所述从浸没式光刻机中回收的UPW流入所述UPW循环回路之前,要经过纯化处理。
说明书 :
一种浸没式光刻机浸液温控装置
技术领域
背景技术
分辨率由激光光源波长、工艺影响因子和数值孔径有关。 其中,k1表示
工艺影响因子;R表示光刻机的分辨率;λ表示激光光源的波长;NA表示光刻机的数值孔径;n
表示浸没介质折射率;θ表示光源的入射角;而介质的折射率会由于温度的波动而发生改
变,所以保持温度的稳定性是确保分辨率指标的关键。
发会带来硅片的热变形,都可能带来像差变化,所以影响液膜光学质量重要因素之一就是
浸没流场的温度。
水处理模块当中,基于光刻机内部工艺架构,浸液传输管路较长,经历的热负载复杂,且需
要适应相对恶劣的厂务输入条件,这些都给浸液的温度控制带来困难。光刻机作为高效率
高成本的半导体重要设备,需要保证设备具有长期运行的可靠性。所以研究出控制精度高,
长期运行,在各种常规扰动下鲁棒性出色的浸液温度控制系统是浸没式光刻一项重要的研
究。
浸没式光刻机对浸液要求极高,一般采用去离子和去气体的超纯水,采用热电制冷的机制
进行浸液温度控制不利于浸液的污染控制。中国专利201020596742.2通过利用热交换原
理,采用PFA材质的热交换器以及流量伺服阀对浸液进行精密温度控制,减少了对浸液的污
染;而且201020596742.2主要通过TCU对浸液进行温度控制,对末端浸液缺乏二次温控的能
力,缺乏温控的灵活性。
环境,输入端的温度有可能高于目标温度值,且厂务工艺冷却水(PCW,Process Cooling
Water)的温度低于受控液体UPW温度所以该装置只能满足降温调温的能力,对厂务端超纯
水(UPW,Ultra Pure Water)的温度范围要求苛刻。
液(例如可以是UPW)通过热交换器进行换热从而控制浸液温度。由于其针对温度控制的部
分没有设置回路,使得其温度控制精度不高,由于仅采用调节通入热交换器冷却液的流量
来控制浸液的温度,冷却液温度普遍低于浸液,所以仅能起到降温控温的作用,不能满足高
于输入温度值的控制目标。
发明内容
的问题。
回路中PCW的温度,并通过将PCW循环回路和UPW循环回路热交换来调节从光刻机中回收的
UPW的温度,使从浸没式光刻机中回收的UPW的温度达到稳定的设定值;所述第一级温控模
块通过对PCW循环回路的加热功率和流量控制,实现对PCW的温度控制;
度保持在所述设定值;所述第二级温控模块通过对两路UPW的加热功率和流量均进行控制,
以控制两路UPW的温度均稳定保持在所述设定值;各路UPW通路热负载对应各路UPW通路的
温度扰动量;所述第二级温控模块流出的两路UPW注入所述浸没式光刻机,一路UPW用于填
充浸没式光刻机的UPW浸没流场,另一路UPW用于密封所述UPW浸没流场,使得所述浸没式光
刻机能够基于所述UPW浸没流场工作。
UPW混合液的温度稳定性;所述热交换器用于实现PCW循环回路和UPW循环回路之间的热交
换。
热器的输入端,所述第一加热器的输出端连接所述热交换器的第二端;所述单向阀的输入
端连接所述第一循环泵的输出端,所述单向阀的另一端连接所述加热器的输出端和所述热
交换器的第二端;
量伺服阀,以控制流进流出PCW循环回路的PCW流量;通过结合加热功率和PCW流量的双重控
制实现对PCW循环回路中PCW升温和降温的双向温度控制。
量,所述第四流量传感器用于检测第二UPW通路中UPW的流量;
四流量传感器的检测值,控制第三加热器和第四加热器的加热功率,以使得第一UPW通路和
第二UPW通路中UPW的温度均稳定保持在所述设定值。
和制冷双功能调节,保证在不同厂务输入条件和温度设定值情况下的温控能力;本发明的
热缓冲罐用于对高频温度波动进行抑制;本发明的两路UPW注液的分别用加热器温控以实
现浸没光刻中对浸液稳定的精确稳定的控制,提高温控精度。
的PCW温度扰动对热交换的影响,提高了初级控制中热交换的稳定性,并通过引入伺服阀和
加热器来分别控制PCW的流量和温度来实现双向更大范围的温度控制,以适应不同的UPW、
PCW输入温度和目标温度值,提高了产品对不同厂务条件的适应度。并在最后两分支管路分
别通过加热器补偿两路热负载的差异,使最终输出的两路注液能够同步达到温度设定值。
附图说明
控制器、4为二级控制器、5为热交换器、6为第一流量伺服阀、7为第一加热器、8为第一循环
泵、9为热缓冲罐、10为第二加热器、11为第三加热器、12为第五温度传感器、13为第一温度
传感器、14为第三温度传感器、15为第四温度传感器、16为第一节流阀、17为第二循环泵、18
为第二流量伺服阀、19为第三流量伺服阀、20为第二节流阀、21为UPW的第二输出端、22为开
关阀、23为第一单向阀、24为第一过滤器、25为压力传感器、26为第六温度传感器、27为第二
过滤器、28为减压阀、29为第二流量传感器、30为第二温度传感器、31为PCW输出端、32为第
二单向阀、33为第一流量传感器、34为第三流量传感器、35为第四流量传感器、36为UPW的第
三输出端、37为UPW的第四输出端、38为浸没温控装置、39为UPW回收装置、40为UPW预处理装
置、41为投影物镜、42为浸没单元、43为硅片、44为工件台、45为浸没流场、46为PCW循环回
路,47为UPW循环回路。
具体实施方式
不用于限定本发明。
温度相对于最终设定值的高低不一,为了适配更多的厂务条件,需要设备具备双向温控并
保证稳定性的能力。浸没式光刻机的厂务端提供的用于UPW热交换的冷媒PCW温度波动较
大,为了适配恶劣的厂务条件,需要设备具备对PCW波动的缓冲能力。基于浸没单元的工艺
结构正常工作时,两路UPW注液流量和热负载不同,需要确保两路输出温度稳定在设定值。
镜和硅片间的介质。该系统包括:用于浸液流动的浸液管路,待温控的浸液通过一管路进口
进入该浸液管路,温控处理后通过浸液管路的出口,分两路输出具有稳定温度的浸液;用于
对所述浸液进行冷却或加热的工艺冷却液回路,工艺冷却液在该回路中循环流动;工艺冷
却液的温度可以由输入工艺冷却液回路的流量伺服阀和加热器调节。并利用热交换器分别
依次完成工艺冷却液和浸液之间的热交换。在热交换器之后添加缓冲罐对温度波动进行抑
制,并结合该热交换器采用浸液回路,以获得具有稳定温度的浸液。并对浸没式光刻需要的
两路注液分别进行加热器控制。本发明的装置系统采用浸液和冷却液双回路与热交换器相
结合,实现对浸液温度稳定性控制,并对冷却液回路进行加热和制冷双功能调节,保证在不
同厂务输入条件和温度设定值情况下的温控能力,缓冲罐用于对高频温度波动进行抑制,
两路注液的分别用加热器温控以实现浸没光刻中对浸液稳定的精确稳定的控制,提高温控
精度。
度的波动进行抑制,在通往浸没头的两路注液口前各采用加热器控制来补偿两路UPW注液
流量调节带来的不稳定热负载,最终达到浸没流场所需温度稳定性。在给定的厂务浸液和
冷却液输入温度范围条件下,该装置在稳定状态的工况下能满足在20℃~24℃任取设定
值,达到短时≤5mK/30s,≤12mK/15min,长时间±0.01℃的稳定性。
调节。
口管路,流量伺服阀置于PCW的出口管路。
支持系统的串级控制抑制内环内的快速扰动。
测的温度值反馈给对应的温度控制器,以用于该温度控制器控制对应的所述电液伺服阀和
加热器,对输入工艺冷却液回路的冷却液进行流量控制和温度控制,实现精确的浸液温度
控制。
制进入PCW回路的流量和温度大小来调节第一级UPW的输出温度,并通过直接加热的方式实
现第二级两路UPW浸液的流量和温度控制。
调节温度。控制器3通过调节100中进入PCW冷却液回路中的流量和加热器功率实现100向
200输出温度,流量稳定在特定值的UPW。控制器4通过分别控制两个注液支路的加热器来弥
补两路注液流量不同导致的热负载的区别,进一步提高温控精度。
过滤器24、27,开关阀22、减压阀28、多个分接点,这些分接点为各传感器的接入点,用于测
量对应点的温度(传感器12、13、26、30)、压力(传感器25)及流量(传感器29、33),其中温度
传感器12、13为精密温度传感器,其他温度传感器为普通精度温度传感器。
点,这些分接点为各传感器的接入点,用于测量对应点的温度(传感器14、15)、及流量(传感
器34、35),其中温度传感器14、15为精密温度传感器。
的温控,最后循环回到UPW入口过滤器24之后位置,以改善温控前UPW水温度与流量状态,回
路没有流量损失。在实际使用过程中,经过本管道温控之后的UPW水,输送至第二级温控模
块200。第二条为PCW水回路,其是冷却水回路。温控的主要方式是通过调节进出PCW水回路
的流量和温度大小来实现的。本装置在PCW水回路中有热交换器5,并通过控制器3分别调节
电液伺服阀6和加热器7从而可实现加热制冷双向温度控制,具体过程如下:
通断逻辑功能,单向阀23防止UPW倒流,过滤器24过滤UPW确保后续工艺的洁净要求和热交
换器换热效率,节流阀16保证设定流量稳定,增压泵17提供UPW回路47循环动力,同时也防
止UPW水倒流。UPW管路中的UPW水经热交换器5换热,换热后的UPW水经过UPW管路输出至缓
冲罐9,缓冲罐出口一部分经过UPW回路47回流至UPW入口过滤器后,使温控前的UPW水的温
度在进入热交换器控制之前就得到很大的改善,以改善整个温控的效率,一部分作为浸液
输出至第二级温控模块200。换缓冲罐9后的UPW管路中还设置有温度传感器12,其与一控制
器3连接,其用于检测换热后的UPW水的温度。UPW入口处设置了压力和温度传感器25、26用
于实时监测输入的压力和温度是否满足可控输入条件。
5热交换器换热效率,PCW回路46内部包括热交换器5、泵8以及单向阀32。泵8保证回路46循
环流量稳定,单向阀32防止回路流向改变,PCW在热交换器5中与穿过换热器的UPW管路中的
UPW水进行热交换,从而完成热交换。热交换后的PCW水通过输出端31回收以进行循环利用。
制PCW回路进入热交换器的PCW水温度,以实现相应的温度调节。PCW回路内部设置有温度传
感器13,作为反馈控制的反馈点之一,流量传感器33,用于监测回路流量的稳定性。回路入
口的温度传感器30用于监测输入的PCW是否符合厂务输出标准,回路出口的流量传感器29
用来监测电液伺服阀控制的流量大小。
与对应的温度控制器3连接,并将检测的温度值反馈给对应的温度控制器3,从而可以根据
该温度值控制对应的电液伺服阀6和加热器7动作分别控制进入PCW回路的流量和温度,从
而控制PCW回路进入热交换器5的PCW水温度,实现对UPW水的精确温控,并通过缓冲罐9抑制
了温度波动。
进出PCW回路的流量,和加热器7以调整进入PCW回路46的温度,从而使换热后的温度与理论
值相近,温控之后的UPW水经过缓冲罐9进一步缩小温度波动,并在进入第二级温控模块200
前,缓冲罐9后,由泵17进行循环与温控前UPW水混合,以改善温控前UPW水温度与流量状态。
21用于其他功能接口,旁路21具备两个功能,一条支路流向超纯气体加湿装置用于超纯气
体加湿,一条支路用于在第一级注液温度,洁净度等各项指标达标之前,先从该路流出设
备,在第一级注液达标之后关闭,使液体切换到36、37两路注液;其中,第一级注液指的是第
一级温度控制模块中的UPW液体,节流阀20用于调节旁路流量。两路经流量温度控制的注液
管路布置有流量传感器34、35用来监测电液伺服阀控制18、19流量的稳定性,在加热器之后
布置有温度传感器14、15,用来检测输出的温度,将反馈信号传递给控制器以调节加热器功
率使输出达到温度设定值。
以根据该温差自动调整加热器10、11以调整最终输出的温度,使其与理论值相近,达到目标
温度精度。
的作用。工件台44上为硅片43,在投影物镜41、浸没单元42与硅片43之间充满经及浸液温控
装置38温控之后的UPW浸液形成的浸没流场45。浸没流场45吸收了投影光刻过程的热量后
被UPW回收装置39回收,再由UPW预处理装置40纯化后输出给浸液温控装置38,经浸液温控
装置38控制之后将UPW流量温度稳定的浸液提供给浸没单元42。
在本发明的保护范围之内。