一种彩膜基板及其制备方法、显示面板

摘要

本发明提供一种彩膜基板及其制备方法、显示面板。该彩膜基板包括显示区和围设于显示区外围的非显示区；彩膜基板包括基底，彩膜基板还包括边缘区，边缘区在基底上的正投影不超出非显示区在基底上的正投影；边缘区设置有遮光结构，遮光结构在基底上的正投影与边缘区重合。该彩膜基板通过在边缘区设置遮光结构，且使遮光结构在基底上的正投影与边缘区重合，能够完全遮挡边缘区的漏光，从而完全消除边缘区漏光以及边缘区金属亮边现象，提升用户体验。

权利要求

1.一种彩膜基板，包括显示区和围设于所述显示区外围的非显示区；

所述彩膜基板包括基底，其特征在于，所述彩膜基板还包括边缘区，所述边缘区在所述基底上的正投影不超出所述非显示区在所述基底上的正投影；

所述边缘区设置有遮光结构，所述遮光结构在所述基底上的正投影与所述边缘区重合；

彩膜基板还包括黑矩阵和色阻层，所述黑矩阵和所述色阻层设置在所述基底上，且位于所述显示区；

所述色阻层包括多个阵列排布且间隔设置的色阻，所述黑矩阵设置于任意相邻所述色阻之间的间隔区；

所述色阻层包括多个不同颜色的色阻；

所述遮光结构包括第一遮光层，所述第一遮光层设置于所述基底上方，所述第一遮光层与所述色阻层采用相同材料；

所述第一遮光层至少包括两个不同颜色的子层，各所述子层相互叠置，且各所述子层在所述基底上的正投影重合；

所述遮光结构还包括第二遮光层，所述第二遮光层设置在所述第一遮光层与所述基底之间；

所述第二遮光层与所述黑矩阵同层同材料设置；

所述第二遮光层包括多个子部，多个所述子部彼此间隔排布；

各所述子层中至少有两个所述子层在所述基底上的正投影覆盖所述子部之间的间隔区在所述基底上的正投影。

2.根据权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述边缘区沿远离所述显示区方向的宽度范围为180～300μm。

3.一种显示面板，其特征在于，包括权利要求1‑2任意一项所述的彩膜基板，还包括阵列基板，所述阵列基板与所述彩膜基板对盒设置。

4.一种如权利要求1‑2任意一项所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，包括：在基底上对应边缘区的区域制备遮光结构，所述遮光结构在所述基底上的正投影与所述边缘区重合。

5.根据权利要求4所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，还包括在所述基底上制备黑矩阵和色阻层，所述黑矩阵和所述色阻层制备于显示区；

制备所述色阻层包括制备不同颜色的色阻。

6.根据权利要求5所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，制备遮光结构包括在所述基底上制备第一遮光层；

所述第一遮光层与所述色阻层采用相同材料且同时形成。

7.根据权利要求6所述的彩膜基板的制备方法，其特征在于，制备遮光结构还包括在制备所述第一遮光层之前，在所述基底上制备第二遮光层；

所述第二遮光层与所述黑矩阵采用相同材料且同时形成。

说明书

一种彩膜基板及其制备方法、显示面板

技术领域

[0001] 本发明属于显示技术领域，具体涉及一种彩膜基板及其制备方法、显示面板。

背景技术

[0002] 液晶显示面板中，彩膜基板在制造过程中，用于遮光的黑矩阵(BM)带有碳颗粒，所以具有一定的导电能力，为了避免彩膜基板与阵列基板对盒形成显示面板后边缘切割时产生的静电通过黑矩阵传导至显示面板内部，以避免静电对显示面板内部造成影响，通常不会将黑矩阵涂覆至彩膜基板的待切割边缘区。一般来说，黑矩阵与彩膜基板边缘之间会预留切割公差的距离，这就导致显示面板边缘无黑矩阵覆盖的区域是透光的，对于无边框(Borderless)面板产品来说，显示面板边缘漏光导致的玻璃白边(即边缘亮线)、金属亮边等不良将大大影响用户体验。金属亮边指由阵列基板显示区延伸至显示面板边缘无黑矩阵覆盖区域的金属线对照射至其上的光线进行反射，在显示面板边缘无黑矩阵覆盖的区域反射光出射呈现金属亮边的现象。

发明内容

[0003] 本发明针对目前液晶显示面板边缘漏光的问题，提供一种彩膜基板及其制备方法、显示面板。该彩膜基板通过在边缘区设置遮光结构，且使遮光结构在基底上的正投影与边缘区重合，能够完全遮挡边缘区的漏光，从而完全消除边缘区漏光以及边缘区金属亮边现象，提升用户体验。

[0004] 本发明提供一种彩膜基板，包括显示区和围设于所述显示区外围的非显示区；

[0005] 所述彩膜基板包括基底，所述彩膜基板还包括边缘区，所述边缘区在所述基底上的正投影不超出所述非显示区在所述基底上的正投影；

[0006] 所述边缘区设置有遮光结构，所述遮光结构在所述基底上的正投影与所述边缘区重合。

[0007] 可选地，还包括黑矩阵和色阻层，所述黑矩阵和所述色阻层设置在所述基底上，且位于所述显示区；

[0008] 所述色阻层包括多个阵列排布且间隔设置的色阻，所述黑矩阵设置于任意相邻所述色阻之间的间隔区；

[0009] 所述色阻层包括多个不同颜色的色阻。

[0010] 可选地，所述遮光结构包括第一遮光层，所述第一遮光层设置于所述基底上方，所述第一遮光层与所述色阻层采用相同材料。

[0011] 可选地，所述第一遮光层至少包括两个子层，各所述子层相互叠置，且各所述子层在所述基底上的正投影重合。

[0012] 可选地，所述遮光结构还包括第二遮光层，所述第二遮光层设置在所述第一遮光层与所述基底之间；

[0013] 所述第二遮光层与所述黑矩阵同层同材料设置；

[0014] 所述第二遮光层包括多个子部，多个所述子部彼此间隔排布。

[0015] 可选地，各所述子层中至少有两个所述子层在所述基底上的正投影至少覆盖所述子部之间的间隔区在所述基底上的正投影。

[0016] 可选地，所述边缘区沿远离所述显示区方向的宽度范围为180～300μm。

[0017] 本发明还提供一种显示面板，包括上述彩膜基板，还包括阵列基板，所述阵列基板与所述彩膜基板对盒设置。

[0018] 本发明还提供一种上述彩膜基板的制备方法，包括：在基底上对应边缘区的区域制备遮光结构，所述遮光结构在所述基底上的正投影与所述边缘区重合。

[0019] 可选地，还包括在所述基底上制备黑矩阵和色阻层，所述黑矩阵和所述色阻层制备于显示区；

[0020] 制备所述色阻层包括制备不同颜色的色阻。

[0021] 可选地，制备遮光结构包括在所述基底上制备第一遮光层；

[0022] 所述第一遮光层与所述色阻层采用相同材料且同时形成。

[0023] 可选地，制备遮光结构还包括在制备所述第一遮光层之前，在所述基底上制备第二遮光层；

[0024] 所述第二遮光层与所述黑矩阵采用相同材料且同时形成。

[0025] 本发明的有益效果：本发明所提供的彩膜基板，通过在边缘区设置遮光结构，且使遮光结构在基底上的正投影与边缘区重合，能够完全遮挡边缘区的漏光，从而完全消除边缘区漏光以及边缘区金属亮边现象，提升用户体验。

[0026] 本发明所提供的显示面板，通过采用上述彩膜基板，能够完全消除边缘区漏光以及边缘区金属亮边现象，提升用户体验。

附图说明

[0027] 图1为本发明一实施例中彩膜基板的结构俯视示意图；

[0028] 图2为图1中彩膜基板边缘区沿AA剖切线的结构剖视示意图；

[0029] 图3为本发明一实施例中彩膜基板的制备过程示意图；

[0030] 图4为本发明另一实施例中彩膜基板边缘区的结构剖视示意图；

[0031] 图5为本发明另一实施例中彩膜基板的制备过程示意图；

[0032] 图6为本发明又一实施例中彩膜基板边缘区的结构剖视示意图；

[0033] 图7为本发明又一实施例中彩膜基板的制备过程示意图。

[0034] 其中附图标记为：

[0035] 1、基底；2、遮光结构；21、第一遮光层；211、子层；22、第二遮光层；221、子部；101、显示区；102、边缘区；103、非显示区；3、黑矩阵；4、子像素；5、平坦层。

具体实施方式

[0036] 为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明一种彩膜基板及其制备方法、显示面板作进一步详细描述。

[0037] 为解决无边框液晶显示面板边缘漏光以及金属亮边问题，公开技术中是在彩膜基板的待切割边缘的空白玻璃区形成不连续分布的黑矩阵(BM)块，即马赛克状的黑矩阵，这样既能保证切割时产生的静电(ESD)无法通过不连续的黑矩阵块导入到显示面板内部，又能大大改善边缘漏光以及阵列基板边缘的金属膜层造成的金属亮边问题。然而由于马赛克状的黑矩阵块存在缝隙，无法将背光完全遮挡，所以仍无法完全消除边缘漏光。

[0038] 本发明实施例提供一种彩膜基板，如图1和图2所示，包括显示区101和围设于显示区101外围的非显示区103；彩膜基板包括基底1，彩膜基板还包括边缘区102，边缘区102在基底1上的正投影不超出非显示区103在基底1上的正投影；边缘区102设置有遮光结构2，遮光结构2在基底1上的正投影与边缘区102重合。

[0039] 其中，显示区101指彩膜基板和阵列基板对盒后用于显示的区域。非显示区103指彩膜基板和阵列基板对盒后不用于显示的区域。边缘区102位于非显示区103的远离显示区101的外侧区域；非显示区103内除了边缘区102以外，还有一部分位于非显示区103的靠近显示区101的内侧区域是被黑矩阵完全遮光的。本实施例中仅对非显示区103内未被黑矩阵完全遮光的边缘区102进行遮光改进，以使边缘区102不会发生漏光。无边框显示面板通常是由彩膜基板和阵列基板分别制备完成后对盒形成的母板切割而成，为了满足切割公差的要求，通常会设置一定宽度的边缘区102。

[0040] 该彩膜基板通过在边缘区102设置遮光结构2，且使遮光结构2在基底1上的正投影与边缘区102重合，能够完全遮挡边缘区102的漏光，从而完全消除边缘区102漏光以及边缘区102金属亮边现象，提升用户体验。

[0041] 本实施例中，彩膜基板还包括黑矩阵3和色阻层，黑矩阵3和色阻层设置在基底1上，且位于显示区101；色阻层包括多个阵列排布且间隔设置的色阻，黑矩阵3设置于任意相邻色阻之间的间隔区；色阻层包括多个不同颜色的色阻。

[0042] 其中，彩膜基板还包括多个不同颜色的子像素4，子像素4设置于基底1上，且位于显示区101；多个不同颜色的子像素4排布呈阵列，黑矩阵3设置于任意相邻子像素4之间的间隔区；子像素4包括色阻层，不同颜色的子像素4采用不同颜色的色阻层。可选地，子像素4包括红、绿、蓝三色子像素4，即构成子像素4的色阻层分别采用红、绿、蓝三种颜色色阻。一个红色子像素4、一个绿色子像素4和一个蓝色子像素4构成一个像素，能够实现彩膜基板与阵列基板对盒形成显示面板的彩色显示。黑矩阵3能够遮挡子像素4之间间隔区内的电路及走线，使其不影响显示。

[0043] 可选地，本实施例中，遮光结构2包括第一遮光层21，第一遮光层21设置于基底1上方，第一遮光层21与色阻层采用相同材料。如此设置，第一遮光层21与显示区101内的色阻层可以采用一次构图工艺同时形成，从而简化第一遮光层21的制备工艺。由于色阻层材料中不带有导电颗粒，所以即使将第一遮光层21延伸至整个边缘区102，彩膜基板与阵列基板对盒形成的显示面板切割时产生的静电也不会通过第一遮光层21传导至显示区101。另外，色阻层遮光的原理为：某种颜色的色阻层只能使相同颜色的光透过，而其他颜色的光都会被过滤掉，即无法透过，所以只要设置两种及两种以上颜色的色阻层，即可起到完全遮光的作用。

[0044] 可选地，本实施例中，遮光结构2还包括第二遮光层22，第二遮光层22设置在第一遮光层21与基底1之间；第二遮光层22与黑矩阵3同层同材料设置；第二遮光层22包括多个子部221，多个子部221彼此间隔排布。即第二遮光层22间断设置。第二遮光层22与黑矩阵3可以采用一次构图工艺同时形成，从而简化第二遮光层22的制备工艺。采用黑矩阵3材料的第二遮光层22能遮挡光线，使光线无法透过。另外，第二遮光层22的多个子部221间隔排布，能够避免在切割时产生的静电通过黑矩阵的碳颗粒传导至显示面板内部，从而避免静电对显示面板内部造成影响。

[0045] 由于第二遮光层22的多个子部221间隔排布，所以其间断区域还会有光线射出，通过相互叠置的第一遮光层21和第二遮光层22，将边缘区102进行完全遮挡，能够进一步消除边缘区102漏光，从而进一步改善甚至完全消除边缘区102漏光以及边缘区102金属亮边现象。各子部221的形状任意。可选地，相邻两子部221之间的间隔距离范围为10～15μm。该距离范围能够确保切割产生的静电不会使相邻的子部221连电导通，从而避免静电传导至显示区101。

[0046] 本实施例中，第一遮光层21至少包括两个子层211，各子层211相互叠置，且各子层211在基底1上的正投影重合。不同子层211的颜色不同。第一遮光层21的遮光原理为：各子层211只能使与其颜色相同的光透过，而其他颜色的光都会被过滤掉，即无法透过，所以通过设置两种及两种以上颜色的子层211，即可起到完全遮光的作用。需要说明的是，叠置子层211的数量越多，透过的光线越少，遮光效果也越好。

[0047] 可选地，第一遮光层21可以采用红、绿子层211叠置，红、蓝子层211叠置，绿、蓝子层211叠置，红、绿、蓝子层211叠置中的任意一种组合构成。

[0048] 可选地，各子层211中至少有两个子层211在基底1上的正投影至少覆盖子部221之间的间隔区在基底1上的正投影。如此设置，叠置的子层211能够将子部221未遮挡区域进行遮挡，防止光线从子部221未遮挡区域透过，从而实现对边缘区102漏光的完全遮挡。

[0049] 可选地，本实施例中，各子层211在基底1上的正投影重合。如此设置，子层211的数量越多，其遮光效果越好。

[0050] 可选地，本实施例中，各子层211在基底1上的正投影覆盖整个边缘区102。

[0051] 可选地，本实施例中，子层211设置有两个。

[0052] 可选地，边缘区102沿远离显示区101方向的宽度范围为180～300μm。该宽度范围为在满足切割公差要求的情况下，彩膜基板上设置的边缘区102的最小宽度。该宽度范围基本能实现显示面板的无边框。

[0053] 可选地，本实施例中，彩膜基板还包括平坦层5，平坦层5由显示区101延伸至边缘区102。平坦层5设置于遮光结构2的背离基底1的一侧。平坦层5能使彩膜基板的与阵列基板对盒的表面平坦。

[0054] 另外，彩膜基板还包括支撑隔垫物。支撑隔垫物用于对对盒的阵列基板和彩膜基板形成支撑。

[0055] 基于彩膜基板的上述结构，本实施例还提供一种该彩膜基板的制备方法，包括：在基底上对应边缘区的区域制备遮光结构，遮光结构在基底上的正投影与边缘区重合。

[0056] 该制备方法还包括在基底上制备黑矩阵和色阻层，黑矩阵和色阻层制备于显示区；制备色阻层包括制备不同颜色的色阻。

[0057] 本实施例中，制备遮光结构包括在基底上制备第一遮光层；第一遮光层与色阻层采用相同材料且同时形成。制备遮光结构还包括在制备第一遮光层之前，在基底上制备第二遮光层；第二遮光层与黑矩阵采用相同材料且同时形成。

[0058] 本实施例中，彩膜基板的制备方法具体包括：如图3所示。

[0059] 步骤S1：在基底1上，通过掩膜曝光工艺，在显示区形成黑矩阵，同时在边缘区102形成子部221的图案。边缘区102的宽度需满足切割公差(约100μm)；通常边缘区102宽度预留300μm。

[0060] 步骤S2：在完成步骤S1的基底1上通过掩膜曝光工艺，在显示区形成第一个色阻层，同时在边缘区102形成与第一个色阻层颜色相同的第一个子层211的图案。第一个子层211完全覆盖边缘区102。

[0061] 该步骤中，第一个子层211与第一个色阻层采用相同材料。

[0062] 步骤S3：在完成步骤S2的基底1上通过掩膜曝光工艺，在显示区形成第二个色阻层，同时在边缘区102形成与第二个色阻层颜色相同的第二个子层211的图案。第二个子层211完全覆盖边缘区102。

[0063] 该步骤中，第二个子层211与第二个色阻层采用相同材料。

[0064] 步骤S4：在完成步骤S3的基底1上通过掩膜曝光工艺，形成平坦层5。平坦层5从显示区延伸至边缘区102。

[0065] 步骤S5：在完成步骤S4的基底1上通过掩膜曝光工艺，形成支撑隔垫物。

[0066] 本发明实施例还提供一种彩膜基板，与上述实施例中不同的是，如图4所示，各子层211中至少有两个子层211在基底1上的正投影覆盖子部221之间的间隔区在基底1上的正投影。本实施例中，两个不同颜色的子层211在基底1上的正投影覆盖子部221之间的间隔区在基底1上的正投影，且两个不同颜色的子层211与间隔区两侧的子部221边缘重叠。如此设置，使子层211能够将子部221之间间隔区的光线遮挡住，从而实现对整个边缘区102的遮光。另外，如此设置，还能降低彩膜基板边缘区102的整体厚度。

[0067] 本实施例中彩膜基板的其他结构与上述实施例中相同，此处不再赘述。

[0068] 基于彩膜基板的上述结构，本实施例还提供一种该彩膜基板的制备方法，与上述实施例中彩膜基板的制备方法不同的是，如图5所示，形成于边缘区102的各子层211的图案为间隔设置的多块或者多条，且相互叠置的各子层211仅将子部221之间的间隔区遮挡住。制备过程中，将形成各子层211图案的掩膜板上的图形形状进行相应变换即可实现。

[0069] 彩膜基板制备方法的具体步骤与上述实施例中相同，此处不再赘述。

[0070] 本发明实施例还提供一种彩膜基板，与上述实施例中不同的是，如图6所示，遮光结构2中仅设置有第一遮光层21，未设置第二遮光层。其中，各子层211中至少有两个子层211在基底1上的正投影覆盖整个边缘区102。如此设置，通过在边缘区102设置第一遮光层
21即可实现对整个边缘区102的遮光作用，同时还能使彩膜基板边缘区的厚度相对于上述两个实施例中的方案进一步降低。

[0071] 本实施例中，第一遮光层21包括两个子层211，且两个子层211在基底1上的正投影覆盖整个边缘区102。如此可以实现对整个边缘区102的完全遮光。

[0072] 需要说明的是，子层211的数量越多，则第一遮光层21的遮光效果越好，即边缘区102越趋于更暗。

[0073] 本实施例中彩膜基板的其他结构与上述实施例中相同，此处不再赘述。

[0074] 基于彩膜基板的上述结构，本实施例还提供一种该彩膜基板的制备方法，与上述实施例中彩膜基板的制备方法不同的是，如图7所示，在边缘区102不形成第二遮光层，即在显示区形成黑矩阵时，对应将延伸至边缘区102的黑矩阵膜层全部曝光显影去除。第一遮光层中各子层211的制备与上述实施例中相同，此处不再赘述。

[0075] 本发明实施例所提供的彩膜基板，通过在边缘区设置遮光结构，且使遮光结构在基底上的正投影与边缘区重合，能够完全遮挡边缘区的漏光，从而完全消除边缘区漏光以及边缘区金属亮边现象，提升用户体验。

[0076] 本发明实施例还提供一种显示面板，包括上述任一实施例中的彩膜基板，还包括阵列基板，阵列基板与彩膜基板对盒设置。

[0077] 该显示面板通过采用上述任一实施例中的彩膜基板，能够完全消除边缘区漏光以及边缘区金属亮边现象，提升用户体验。

[0078] 可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。