一种存储器CMOS电路转让专利
申请号 : CN202011336570.X
文献号 : CN112349333B
文献日 : 2021-11-09
发明人 : 赵利川
申请人 : 长江存储科技有限责任公司
摘要 :
权利要求 :
1.一种存储器CMOS电路,其特征在于,所述存储器CMOS电路包括:高压功能电路,包括至少一个MOS管,其中一所述MOS管的源极端或漏极端接入输入高压;用于实现在使能信号有效时,其输出电压逐渐增大并达到最大值;
辅助钳位电路,设于所述输入高压和所述MOS管的源极端或漏极端之间,用于在所述输出电压上升阶段,对输入所述MOS管源极端或漏极端的电压进行钳位,以使钳位电压小于所述输入高压;
其中,所述辅助钳位电路包括:第一耗尽型高压NMOS管及第二耗尽型高压NMOS管,所述第一耗尽型高压NMOS管的第一连接端与所述第二耗尽型高压NMOS管的第一连接端相连并接入所述输入高压,所述第一耗尽型高压NMOS管的第二连接端与所述第二耗尽型高压NMOS管的第二连接端相连并接入所述MOS管的源极端或漏极端,所述第一耗尽型高压NMOS管的栅极端接入预设电压,所述第二耗尽型高压NMOS管的栅极端连接于所述高压功能电路的输出端;其中,所述预设电压小于所述输入高压,所述第二耗尽型高压NMOS管的阈值电压小于
0。
2.根据权利要求1所述的存储器CMOS电路,其特征在于,所述预设电压等于所述输入高压的一半。
3.根据权利要求1所述的存储器CMOS电路,其特征在于,所述第一耗尽型高压NMOS管的阈值电压小于0。
4.根据权利要求1所述的存储器CMOS电路,其特征在于,所述辅助钳位电路还包括:至少一个第三耗尽型高压NMOS管,所述第三耗尽型高压NMOS管的第一连接端与所述第一耗尽型高压NMOS管的第一连接端相连,所述第三耗尽型高压NMOS管的第二连接端与所述第一耗尽型高压NMOS管的第二连接端相连,所述第三耗尽型高压NMOS管的栅极端接入另一预设电压;其中,接入所述第三耗尽型高压NMOS管栅极端的预设电压小于接入所述第一耗尽型高压NMOS管栅极端的预设电压。
5.根据权利要求4所述的存储器CMOS电路,其特征在于,在所述第三耗尽型高压NMOS管的数量大于1个时,多个所述第三耗尽型高压NMOS管的第一连接端与所述第一耗尽型高压NMOS管的第一连接端相连,多个所述第三耗尽型高压NMOS管的第二连接端与所述第一耗尽型高压NMOS管的第二连接端相连,多个所述第三耗尽型高压NMOS管的栅极端分别接入一预设电压,此时各所述预设电压的数值逐次递增,且数值最大的所述预设电压小于接入所述第一耗尽型高压NMOS管栅极端的预设电压。
6.根据权利要求4或5所述的存储器CMOS电路,其特征在于,接入所述第一耗尽型高压NMOS管栅极端的预设电压等于所述输入高压的一半。
7.根据权利要求4或5所述的存储器CMOS电路,其特征在于,所述第一耗尽型高压NMOS管的阈值电压小于0,所述第三耗尽型高压NMOS管的阈值电压小于0。
8.根据权利要求1所述的存储器CMOS电路,其特征在于,所述高压功能电路包括开关电路或电平转换电路中的一种。
说明书 :
一种存储器CMOS电路
技术领域
背景技术
等优点,因而在微机、自动化控制等多项领域得到了广泛的应用。为了进一步提高闪存存储
器的位密度(Bit Density),同时减少位成本(Bit Cost),三维的闪存存储器(3D NAND)技
术得到了迅速发展。
子注入效应恶化的问题,从而导致此类高压功能电路存在可靠性风险。现有技术中,为了解
决这一技术问题,通常采用具有更高耐压性能的MOS器件来设计此类高压功能电路,从而导
致此类高压功能电路具有较大的面积和较小的电流。
发明内容
于所述输入高压。
相连并接入所述输入高压,所述第一耗尽型高压NMOS管的第二连接端与所述第二耗尽型高
压NMOS管的第二连接端相连并接入所述MOS管的源极端或漏极端,所述第一耗尽型高压
NMOS管的栅极端接入预设电压,所述第二耗尽型高压NMOS管的栅极端连接于所述高压功能
电路的输出端;其中,所述预设电压小于所述输入高压,所述第二耗尽型高压NMOS管的阈值
电压小于0。
耗尽型高压NMOS管的第二连接端与所述第一耗尽型高压NMOS管的第二连接端相连,所述第
三耗尽型高压NMOS管的栅极端接入另一预设电压;其中,接入所述第三耗尽型高压NMOS管
栅极端的预设电压小于接入所述第一耗尽型高压NMOS管栅极端的预设电压。
尽型高压NMOS管的第二连接端与所述第一耗尽型高压NMOS管的第二连接端相连,多个所述
第三耗尽型高压NMOS管的栅极端分别接入一预设电压,此时各所述预设电压的数值逐次递
增,且数值最大的所述预设电压小于接入所述第一耗尽型高压NMOS管栅极端的预设电压。
升阶段,将输入至高压功能电路中MOS管的电压钳位至小于输入高压的钳位电压,从而降低
该MOS管的漏源电压,降低其热载流子注入效应,提高电路的耐高压性能,实现以较小的面
积成本达到提高电路可靠性的目的,从而提高存储器性能。
附图说明
显示为实施例一所述存储器CMOS电路在使能信号下的输出电压波形图及在输出电压上升
阶段输入至MOS管的电压波形图。
具体实施方式
施方式加以实施或应用,本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用,在没有背离
本发明的精神下进行各种修饰或改变。
目、形状及尺寸绘制,其实际实施时各组件的形态、数量及比例可为一种随意的改变,且其
组件布局形态也可能更为复杂。
达到最大值HV;
钳位电压HV_clamp小于所述输入高压HV。
且MOS管M1的漏极端接入输入高压HV为例(具体如图1所示);当然,其它组成结构的电平转
换电路同样适用于本示例。
所述存储器CMOS电路适用于高压应用场景;而在其为高压MOS管时,通过所述辅助钳位电路
200的设计,可使本实施例所述存储器CMOS电路适用于更高电压的应用场景。
型高压NMOS管MN2的第一连接端相连并接入所述输入高压HV,所述第一耗尽型高压NMOS管
MN1的第二连接端与所述第二耗尽型高压NMOS管MN2的第二连接端相连并接入所述MOS管M1
的源极端或漏极端,所述第一耗尽型高压NMOS管MN1的栅极端接入预设电压HV1,所述第二
耗尽型高压NMOS管MN2的栅极端连接于所述高压功能电路100的输出端;其中,所述预设电
压HV1小于所述输入高压HV,所述第二耗尽型高压NMOS管MN1的阈值电压小于0。实际应用
中,所述第一耗尽型高压NMOS管MN1的第一连接端及所述第二耗尽型高压NMOS管MN2的第一
连接端可为漏极端,所述第一耗尽型高压NMOS管MN1的第二连接端及所述第二耗尽型高压
NMOS管MN2的第二连接端可为源极端。
电路可满足现有的绝大部分应用需求。当然,实际应用时,还需根据具体应用场景来设定预
设电压HV1的值,特别是对于一些特殊应用场景,此时预设电压HV1的值可以大于输入高压
HV的一半,也可以小于输入高压HV的一半。
紧密排布,有利于减小电路面积,同时也便于器件选型。
电压Vout的上升阶段,由于输入至MOS管M1漏极端的电压Vin为HV,故MOS管M1的最大漏源电
压Vds为(HV‑Vth_M1),其中Vth_M1为MOS管M1的阈值电压。可见,在输出电压Vout的上升阶
段,由于MOS管M1的漏源电压Vds较大,故其存在较为严重的热载流子注入效应,从而使得该
电平转换电路存在可靠性问题。需要注意的是,由于随着输出电压Vout不断增大,MOS管M1
的漏源电压Vds将不断减小,故因热载流子注入效应引起的电路可靠性问题主要发生在输
出电压Vout上升阶段的前半段时间,也即使能信号有效的初始阶段。
在输出电压Vout的上升阶段,由于本示例中辅助钳位电路200的设计,使得输入至MOS管M1
漏极端的电压Vin被钳位至钳位电压HV_clamp,故此时MOS管M1的最大漏源电压Vds为(HV_
clamp‑Vth_M1);具体的,在输出电压Vout上升阶段的前半段时间,由于输出电压Vout较小,
此时辅助钳位电路200中的第一耗尽型高压NMOS管MN1起钳位作用,并将输入至MOS管M1漏
极端的电压钳位在(HV1‑Vth_MN1);而在输出电压Vout上升阶段的后半段时间,也即输出电
压Vout接近预设电压HV1后,辅助钳位电路200中的第二耗尽型高压NMOS管MN2起钳位作用,
并将输入至MOS管M1漏极端的电压钳位在(Vout‑Vth_MN2),此时钳位电压HV_clamp跟随输
出电压Vout变化,但由于辅助钳位电路200受控于输入高压HV,故其最大钳位电压不会超过
输入高压HV,即HV_clamp=min(HV,Vout‑Vth_MN2),Vth_MN2<0;其中,Vth_MN1为第一耗尽
型高压NMOS管MN1的阈值电压,Vth_MN2为第二耗尽型高压NMOS管MN2的阈值电压。可见,在
输出电压Vout的上升阶段,由于辅助钳位电路200将输入至MOS管M1漏极端的电压钳位至小
于输入高压HV的钳位电压HV_clamp,从而降低了MOS管M1的漏源电压Vds,降低了其热载流
子注入效应,提高了本示例电路的耐高压性能,实现以较小的面积成本达到提高电路可靠
性的目的,同时也使本示例电路可应用于更高工作电压的环境。需要注意的是,在所述高压
功能电路100的输出电压Vout达到最大值HV时,对应MOS管M1的漏源电压Vds很小,此时所述
辅助钳位电路200可看作没有电压损失;也即在输出电压Vout的上升阶段,本示例所述辅助
钳位电路200对输入至MOS管M1的电压进行钳位,而在输出电压Vout达到最大值HV后,其没
有电压损失。而且,由于本示例所述辅助钳位电路200仅在输出电压Vout上升阶段起作用,
故其对高压功能电路100所造成的延时很小,可忽略不计,即其对高压功能电路的性能几乎
没有影响。
与所述第一耗尽型高压NMOS管MN1的第一连接端相连,所述第三耗尽型高压NMOS管MN3的第
二连接端与所述第一耗尽型高压NMOS管MN1的第二连接端相连,所述第三耗尽型高压NMOS
管MN3的栅极端接入另一预设电压HV2;其中,接入所述第三耗尽型高压NMOS管MN3栅极端的
预设电压HV2小于接入所述第一耗尽型高压NMOS管MN1栅极端的预设电压HV1。
接端相连,多个所述第三耗尽型高压NMOS管MN3的第二连接端与所述第一耗尽型高压NMOS
管MN1的第二连接端相连,多个所述第三耗尽型高压NMOS管MN3的栅极端分别接入一预设电
压(HV2‑HVn),此时各所述预设电压(HV2‑HVn)的数值逐次递增,且数值最大的所述预设电
压HVn小于接入所述第一耗尽型高压NMOS管MN1栅极端的预设电压HV1。实际应用中,所述第
一耗尽型高压NMOS管MN1的第一连接端、所述第二耗尽型高压NMOS管MN2的第一连接端及所
述第三耗尽型高压NMOS管MN3的第一连接端可为漏极端,所述第一耗尽型高压NMOS管MN1的
第二连接端、所述第二耗尽型高压NMOS管MN2的第二连接端及所述第三耗尽型高压NMOS管
MN3的第二连接端可为源极端。本示例通过至少一个第三耗尽型高压NMOS管MN3的设计,达
到可精确控制钳位电压HV_clamp的目的;当然,设计中第三耗尽型高压NMOS管MN3的数量越
多,钳位电压HV_clamp的控制精度越高,即钳位电压HV_clamp越接近真实值。
其可靠性,以使此种设定的存储器CMOS电路可满足现有的绝大部分应用需求。当然,实际应
用时,还需根据具体应用场景来设定预设电压HV1的值,特别是对于一些特殊应用场景,此
时预设电压HV1的值可以大于输入高压HV的一半,也可以小于输入高压HV的一半。
NMOS管MN2及所述第三耗尽型高压NMOS管MN3完全相同,从而使得三者在版图设计中可紧密
排布,有利于减小电路面积,同时也便于器件选型。
升阶段,将输入至高压功能电路中MOS管的电压钳位至小于输入高压的钳位电压,从而降低
该MOS管的漏源电压,降低其热载流子注入效应,提高电路的耐高压性能,实现以较小的面
积成本达到提高电路可靠性的目的,从而提高存储器性能。所以,本发明有效克服了现有技
术中的种种缺点而具高度产业利用价值。
此,举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本发明所揭示的精神与技术思想下所完
成的一切等效修饰或改变,仍应由本发明的权利要求所涵盖。