一种抗拉强度高的感光材料薄膜

摘要

一种抗拉强度高的感光材料薄膜，其包括以下重量份的原料组分：酸改性双酚酚醛清漆型环氧树脂110‑150份、米淀粉30‑40份、纳米蒙脱土9‑12份、花生油1‑2份、具有烯键式不饱和基团的光聚合性单体60‑80份、含反应性官能团的有机表面助剂5‑10份、有机溶剂210‑230份、钛酸四丁酯10‑20份、酸改性环氧树脂10‑20份、聚乙烯醇30‑35份。本发明提供的材料能够生产出感光薄膜用于各种领域，同时其薄膜本申请具有很高的抗拉强度，有利于运输储存和实际使用，降低其相关防护的成本。

权利要求

1.一种抗拉强度高的感光材料薄膜，其特征在于，其包括以下重量份的原料组分：酸改性双酚酚醛清漆型环氧树脂110-150份、米淀粉30-40份、纳米蒙脱土9-12份、花生油1-2份、具有烯键式不饱和基团的光聚合性单体60-80份、含反应性官能团的有机表面助剂5-10份、有机溶剂210-230份、钛酸四丁酯10-20份、酸改性环氧树脂10-20份、聚乙烯醇30-35份。

2.根据权利要求1所述的一种抗拉强度高的感光材料薄膜，其特征在于，具有烯键式不饱和基团的光聚合性单体含有具有三环癸烷结构和氨基甲酸酯键的光聚合性单体。

3.根据权利要求1所述的一种抗拉强度高的感光材料薄膜，其特征在于，还包括纳米二氧化钛7-9份、丙三醇20-30份、天然胶乳5-7份。

说明书

一种抗拉强度高的感光材料薄膜

技术领域

[0001] 本发明涉及感光材料领域，具体是一种抗拉强度高的感光材料薄膜。

背景技术

[0002] 感光材料是指一种具有光敏特性的半导体材料，因此又称之为光导材料或是光敏半导体。目前复印机上常用的感光材料有：有机感光鼓(OPC)、无定形硅感光鼓、硫化镉感光鼓和硒感光鼓。另外感光材料在照相时常被用到，而目前的感光材料的的形式一般都是塑料片状或者薄膜状，其中薄膜状的材料其抗拉强度低，容易在外力作用下变形，从而影响使用，故而在运输和使用的过程中需要特殊的防护和操作规范，增加了成本。

发明内容

[0003] 为解决上述问题，本发明提供一种抗拉强度高的感光材料薄膜，其包括以下重量份的原料组分：酸改性双酚酚醛清漆型环氧树脂110-150份、米淀粉30-40份、纳米蒙脱土9-12份、花生油1-2份、具有烯键式不饱和基团的光聚合性单体60-80份、含反应性官能团的有机表面助剂5-10份、有机溶剂210-230份、钛酸四丁酯10-20份、酸改性环氧树脂10-20份、聚乙烯醇30-35份。

[0004] 作为本发明的进一步方案：具有烯键式不饱和基团的光聚合性单体含有具有三环癸烷结构和氨基甲酸酯键的光聚合性单体。

[0005] 作为本发明的进一步方案：还包括纳米二氧化钛7-9份、丙三醇20-30份、天然胶乳5-7份。

[0006] 本发明相对于现有技术，其有益效果为：本发明提供的材料能够生产出感光薄膜用于各种领域，同时其薄膜本申请具有很高的抗拉强度，有利于运输储存和实际使用，降低其相关防护的成本。

具体实施方式

[0007] 下面通过具体实例对本发明进行详细说明。

[0008] 一种抗拉强度高的感光材料薄膜，其包括以下重量份的原料组分：酸改性双酚酚醛清漆型环氧树脂110-150份、米淀粉30-40份、纳米蒙脱土9-12份、花生油1-2 份、具有烯键式不饱和基团的光聚合性单体60-80份、含反应性官能团的有机表面助剂5-10份、有机溶剂210-230份、钛酸四丁酯10-20份、酸改性环氧树脂10-20份、聚乙烯醇30-35份。

[0009] 作为本发明的进一步方案：具有烯键式不饱和基团的光聚合性单体含有具有三环癸烷结构和氨基甲酸酯键的光聚合性单体。

[0010] 作为本发明的进一步方案：还包括纳米二氧化钛7-9份、丙三醇20-30份、天然胶乳5-7份。

[0011] 本发明提供的材料能够生产出感光薄膜用于各种领域，同时其薄膜本申请具有很高的抗拉强度，有利于运输储存和实际使用，降低其相关防护的成本。