一种浸没式光刻机的温度控制方法及装置转让专利
申请号 : CN202011513098.2
文献号 : CN112445084A
文献日 : 2021-03-05
发明人 : 李小平 , 曹迪
申请人 : 华中科技大学 , 武汉智能装备工业技术研究院有限公司
摘要 :
本发明提供一种浸没式光刻机的温度控制方法及装置,包括:通过热交换器使得PCW与光刻机UPW进行换热,以及利用加热器对UPW加热,以对UPW升温,对UPW温度进行粗调节时,基于检测的三个温度值和UPW温度控制目标确定UPW温度的轨迹、PCW的流量控制模型以及加热器的功率控制模型;采用模糊规则自适应修正PCW的流量控制模型以及加热器的功率控制模型;将粗调节后的UPW经过远传管路,通入光刻机内部经过半导体制冷片调节后分为两路UPW注液,通过两个加热器分别对两路UPW注液加热;对UPW温度进行精调节时,制冷片的调节量由两路UPW注液两个加热器的功率、两路UPW注液流量以及两路UPW注液的温度设定值确定。本发明提高了光刻机的温度控制精度。