一种铝合金表面处理方法

摘要

本发明提供了一种铝合金微弧氧化膜的封孔处理方法，所述方法可以有效的将微弧氧化膜表面的微孔封闭，通过填充氧化铝，有效的降低微弧氧化膜的孔隙率和粗糙度，明显提高了微弧氧化铝材的耐磨性和耐蚀性，拓宽了其应用范围，满足市场需求。

权利要求

1.一种铝合金表面处理方法，所述方法为铝合金微弧氧化陶瓷膜的封孔处理，其特征在于包括如下处理步骤:

（1）铝合金表面预处理；

（2）以经过表面预处理的铝合金为阳极，在电解液中进行微弧氧化，在铝合金表面形成微弧氧化膜；

（3）一次机械抛光除去微弧氧化膜表面的多孔表层；

（4）一次热处理；

（5）真空填充铝溶胶: 称取7‑8g拟薄水铝石在搅拌条件下分批加入到100‑120mL去离‑2 ‑4

子水中，加入1‑2M硝酸溶液，持续搅拌3‑4 h，在10 10 MPa真空泵条件下，将所述铝溶胶~

填充于微弧氧化膜的孔道内，然后50‑60℃干燥，干燥时间为36‑48h，重复填充2‑4次；

（6）二次热处理: 所述二次热处理为高温水蒸气热处理，115‑120℃过热水蒸气，时间为10‑15min；

（7）二次机械抛光；

（8）酸洗，水洗。

2.如权利要求1所述的一种铝合金表面处理方法，其特征在于所述铝合金表面预处理包括有喷砂‑水洗‑碱洗‑水洗‑酸洗‑水洗。

3.如权利要求2所述的一种铝合金表面处理方法，其特征在于所述喷砂：硬度为385HV的石英砂，所述石英砂的粒径2‑3mm，空气压力为0.3‑0.5Mpa;碱洗：NaOH 40‑50g/L，酒石酸钠2‑4g/L，温度40‑55℃，时间3‑5min；

酸洗：HNO3 250‑300g/L，温度25‑30℃，时间3‑5min。

4.如权利要求1所述的一种铝合金表面处理方法，其特征在于所述微弧氧化包括有1‑

2g/L氢氧化钠、8‑12g/L硅酸钠、3‑5ml/L丙三醇和2‑4g/L乙二胺四乙酸二钠，电流密度6‑2

10A/dm ，频率为450‑500Hz，占空比为30‑40%，正负脉冲比为1:1，时间为20‑40min，获得的微弧氧化膜的表面粗糙度为Ra=2‑3微米。

5.如权利要求1所述的一种铝合金表面处理方法，其特征在于所述机械抛光为人造金刚石砂轮，打磨厚度5‑8μm，金刚石的打磨速度为14‑16m/s，砂轮表面金刚石的粒径2‑5微米。

6.如权利要求1所述的一种铝合金表面处理方法，其特征在于所述一次热处理：2℃/min升至300‑320℃，惰性气氛下恒温1‑2h，自然冷却。

7.如权利要求1所述的一种铝合金表面处理方法，其特征在于所述二次机械抛光为含有α‑Al2O3的抛光液，所述α‑Al2O3的粒径为500‑800nm，抛光时间3‑5min，抛光厚度3‑5μm。

8.如权利要求1所述的一种铝合金表面处理方法，其特征在于所述酸洗为硝酸15‑

17vol.%，HF 1‑1.5vol.%，室温，5‑10min。

说明书

一种铝合金表面处理方法

技术领域

[0001] 本发明属于铝或铝合金材料表面处理技术领域，涉及一种封孔处理方法，具体涉及一种铝合金微弧氧化膜封孔方法。
技术背景

[0002] 微弧氧化技术是在硬质阳极氧化技术基础上发展起来的一种新技术，可直接在铝、镁、 钛、锆、铌等金属表面原位生长形成具有高耐蚀、高耐磨、高绝缘、耐热冲击等一系
列优良 性能的陶瓷膜。在航空、舰船、纺织、汽车等行业中获得广泛的应用。但是在微弧氧
化过程 中电弧的作用使表面形成的陶瓷膜发生熔化，在陶瓷膜表面形成气体的共同作用
下形成大量 微米级的微孔。这些微孔在陶瓷膜中大量存在，部分微孔与金属基体相连，使
液体容易通过 微孔达到金属基体，导致金属腐蚀，严重的会导致氧化膜龟裂、脱落，从而影
响微弧氧化膜 的性能。因此必须对微弧氧化膜进行封孔处理。

[0003] 目前对微弧氧化膜的封孔方法研究的较少，如采用沸水封孔、树脂喷涂固化封孔或阳极 氧化膜的封孔剂等方法进行封孔。由于微弧氧化膜的孔径较大，部分孔洞贯穿整个
氧化膜， 沸水封孔难以实现对微弧氧化膜的有效封孔；树脂喷涂固化封孔设备投入较多，
成本较高； 阳极氧化膜封孔剂的种类较多，没有进行相应的微弧氧化膜封孔试验，严重影
响微弧氧化膜 封孔质量。

[0004] 如CN201210357957西南石油大学，一种常温微弧氧化膜封孔方法，采用硅酸钠、镍盐、溶剂与促进剂配制的溶液作为封孔剂，封孔剂静置至少2小时后在常温下对微弧氧化膜
采用浸泡的方式进行封孔，封孔后封孔剂在微弧氧化膜表面的微孔中形成吸附结晶填充物
而达到封孔的目的。所述溶剂为去离子水，硅酸钠、镍盐、促进剂的配比为：硅酸钠5‑15g/L，
镍盐2‑8g/L，促进剂0.1‑2g/L。所述硅酸钠为五水硅酸钠或九水硅酸钠，所述镍盐为氟化
镍、醋酸镍或其混合物，所述促进剂为硼酸、硫脲、氟锆酸钾或其混合物。本发明封孔剂溶液
不需加热，在常温下即可操作，封孔效果好，简单易行，对陶瓷膜的硬度没有影响，同时可提
高陶瓷膜的耐腐蚀性，上述封孔的方法存在明显的技术缺陷，需要引入Ni金属，而本领域技
术人员知晓的，在某些特定领域，会明显限定Ni金属的使用量，如人体渗镍中毒等。

[0005] 如CN 201811114851一种铝合金型材表面微弧氧化改性方法及表面改性铝合金型材，所述方法包括：a)前处理：铝合金型材经吹扫除灰、清洗除油、水洗、干燥，完成前处理；
b)微弧氧化处理：将铝合金型材置于电解液中进行微弧氧化，电解液包含以下组分：
Na2SiO3、Na2B4O7、KOH、丙三醇、Na2MoO4、EDTA‑2Na；微弧氧化完成后取出；c)后处理：对铝
合金型材进行清洗、干燥后，采用聚偏氟乙烯树脂对微弧氧化膜层表面进行封孔处理。本发
明所得表面改性铝合金型材，在微弧氧化处理之后用聚偏氟乙烯树脂进行封孔处理，封孔
效果好且表面致密平整，具有优异的耐磨性、耐蚀性和电绝缘性能，极大地提高了铝合金型
材的综合性能，上述存在的缺陷为聚偏氟乙烯树脂于微弧氧化的孔为物理吸附，吸附力有
限，极容易发生基材与树脂的剥离，且本领域技术人员知晓的微弧氧化陶瓷膜的孔隙率极
低，通常不会高于10%，在如此低的孔隙率条件下，聚偏氟乙烯树脂对于微弧氧化陶瓷膜的
封孔率极差，与其所上述专利耐磨性、耐蚀性和电绝缘性能优良，还不如说聚偏氟乙烯树贴
合在氧化膜表面，是聚偏氟乙烯树本身的性质，与封孔没有直接关系。

[0006] 又如CNCN201110288402公开的微弧氧化陶瓷膜的封闭处理方法，首先用丙酮对待封闭的铝合金微弧氧化试样表面去污除油，再采用50℃‑60℃蒸馏水超声震动清洗；接着采
用有机硅原液与质量浓度为95％以上的酒精真空浸渗；最后放入保温炉中保温，完成封闭
处理，所述微弧氧化陶瓷膜的封闭处理方法，能够大幅提高微弧氧化膜层的耐磨耐蚀性能，
有效降低氧化膜层的沾染性，提高氧化膜层的电绝缘性能，提高膜层韧性，简而言之，上述
专利通过真空吸附有机硅原液，然后将浸渗后的试样放入保温炉中在120℃‑150℃下保温
15‑30min，发生封闭，而本领域技术人员知晓的通过后续的热处理，在有机硅原液变为硅化
物的过程中，必然发生收缩，导致氧化化物封孔剂与微弧氧化膜的孔道之间存在分析，降低
微弧氧化膜的耐腐蚀性能。

发明内容

[0007] 基于上述现有技术存在的问题，本发明提供了一种铝合金表面处理方法，所述方法为铝合金微弧氧化陶瓷膜的封孔处理，在所述微弧氧化膜的孔道内填充铝溶胶，通过过
热水蒸气处理进行封孔，有效提高微弧氧化膜的耐腐蚀性、耐磨性，通过抛光降低表面粗糙
度。

[0008] 一种铝合金表面处理方法，所述方法为铝合金微弧氧化陶瓷膜的封孔处理，包括如下处理步骤：

[0009] （1）铝合金表面预处理；

[0010] （2）以经过表面预处理的铝合金为阳极，在电解液中进行微弧氧化，在铝合金表面形成微弧氧化膜；

[0011] （3）一次机械抛光除去微弧氧化膜表面的多孔表层；

[0012] （4）一次热处理；

[0013] （5）真空填充铝溶胶；

[0014] （6）二次热处理；

[0015] （7）二次机械抛光；

[0016] （8）酸洗，水洗。

[0017] 进一步的，所述铝合金表面预处理包括有喷砂‑水洗‑碱洗‑水洗‑酸洗‑水洗。

[0018] 进一步的，喷砂：硬度为385Hv的石英砂，所述石英砂的粒径2‑3mm，空气压力为0.3‑0.5Mpa。

[0019] 进一步的，碱洗：NaOH 40‑50g/L，酒石酸钠2‑4g/L，温度40‑55oC，时间3‑5min。

[0020] 进一步的，酸洗：HNO3 250‑300g/L，温度25‑30oC，时间3‑5min。

[0021] 进一步的，所述微弧氧化包括有1‑2g/L氢氧化钠、8‑12g/L硅酸钠、3‑5ml/L丙三2
醇、2‑4g/L乙二胺四乙酸二钠，电流密度6‑10A/dm ，频率为450‑500Hz，占空比为30‑40%，正
负脉冲比为1:1，时间为20‑40min，获得的微弧氧化膜的表面粗糙度为Ra=2‑3微米。

[0022] 进一步的，所述机械抛光为人造金刚石砂轮，打磨打磨厚度5‑8μm，金刚石的打磨速度为14‑16m/s，砂轮表面金刚石的粒径2‑5微米。

[0023] 进一步的，所述一次热处理用于处理微弧氧化膜热应力，2oC/min升至300‑320oC，惰性气氛下恒温1‑2h，自然冷却。

[0024] 进一步的，所述铝溶胶的制备方法为：称取7‑8g拟薄水铝石在搅拌条件下分批加‑2 ‑4
入到100‑120mL去离子水中，加入1‑2M硝酸溶液，持续搅拌3‑4 h，在10 10 MPa真空泵条
o ~
件下，将所述铝溶胶填充于微弧氧化膜的孔道内，然后50‑60C干燥，重复填充2‑4次。

[0025] 进一步的，所述二次热处理为高温水蒸气热处理，115‑120oC过热水蒸气。

[0026] 进一步的，所述二次机械抛光为含有α‑Al2O3的抛光液，所述α‑Al2O3的粒径为500‑800nm，抛光时间3‑5min，抛光厚度3‑5μm。

[0027] 进一步的，所述酸洗为硝酸15‑17vol.%，HF 1‑1.5vol.%，室温，5‑10min。

[0028] 对于本发明一种铝合金微弧氧化膜封孔方法的制备过程和原理做出如下的阐述：

[0029] （A）铝合金的预处理：无论何种表面处理工艺，要获得好效果，清洁表面是首要的条件。因为送到表面处理车间的部件表面通常会存在各种磨痕、凹坑、毛刺、划伤等缺陷，带
有润滑油迹或不同程度地覆盖着磨料和一些脏物，而通过有效的预处理可以保证微弧氧化
膜具有良好的耐腐蚀性能，并保证微弧氧化膜与基体表面具有良好的结合力。

[0030] 本发明采用的预处理工艺包括有喷砂‑水洗‑碱洗‑水洗‑酸洗‑水洗。

[0031] 其中喷砂：硬度为385Hv的石英砂，所述石英砂的粒径2‑3mm，空气压力为0.3‑0.5Mpa，用于初步除去基材表面明显的氧化膜，平整基体板金件凸凹不平的明显缺陷，提高
工件表面粗糙度。

[0032] 其中碱洗：NaOH 40‑50g/L，酒石酸钠2‑4g/L，温度40‑55oC，时间3‑5min，所述碱洗有两个目的：（1）脱脂：主要通过皂化反应除去金属表面的油脂：(C17H35COO)3C3H5+3NaOH→
3C17H35COONa+C3H5(OH)3 ；（2）除去氧化膜：Al2O3+2NaOH→2NaAlO2+H2O，在除去氧化膜的过程
中，难免会发生氢氧化钠与铝基的反应，为了避免铝材与氢氧化换反应，需要严控碱洗时
间，同时本领域技术人员知晓的NaAlO2会明显发生水解反应：NaAlO2+2H2O→Al(OH)3+ 
NaOH，因此为了避免水解，需要增加酒石酸钠等类似络合剂，所述络合剂可以明显的一致
NaAlO2的水解反应。

[0033] 其中酸洗：HNO3 250‑300g/L，温度25‑30oC，时间3‑5min，所述酸洗的目的在于除去金属表面的灰色物质，所述灰色物质可能为偏铝酸钠水解后的沉淀，也可能为铝合金中
Cu等金属的形成的氧化铜，所述灰色物质必须除去，否则对于后续微弧氧化的影响较大，因
此酸洗为不可或缺处理步骤。

[0034] （B）微弧氧化：微弧氧化由于在实施过程中氧化膜表面会出现辉光放电、火花放电等现象，因此又称为电火花放电，使非晶结构的氧化层发生了相和结构的变化，并伴随有α‑
Al2O3和γAl2O3形成，对于典型的微弧氧化膜结构通常包括有，有基材‑过渡层‑低密度硬度
层‑多孔表层，其中最表面的多孔表层的孔隙率较高，通常可以达到10‑15%，γ‑Al2O3，由于
所述多孔成的孔隙率较高，因此其硬度较低，通常为400‑500Hv，因此所述多孔层对于微弧
氧化膜的高耐磨性或耐腐蚀性时没有技术贡献的，因此需要打磨除去，所述多孔层的厚度
大约为30μm左右，越接触表层的微弧氧化膜，其孔隙率越高，硬度越低，需要后续打磨处理。

[0035] 第二层为低密度硬度层，所述层为微弧氧化膜的主要技术贡献层，其主要成分为前述的α‑Al2O3和少量γ‑Al2O3，所述低密度硬度层的厚度为100‑300μm范围内，孔隙率通常
维持在2‑5%，依据微弧氧化的电解参数而定，所述低密度硬度层对微弧氧化膜的硬度贡献
为1500‑2000Hv。

[0036] 离基材最近的为过渡层，厚度大约为2‑5μm与基材相互咬合，孔隙率一般高于低密度硬度层，低于多孔表层。

[0037] 本发明的微弧氧化包括有1‑2g/L氢氧化钠、8‑12g/L硅酸钠、3‑5ml/L丙三醇、2‑2
4g/L乙二胺四乙酸二钠，电流密度6‑10A/dm ，频率为450‑500Hz，占空比为30‑40%，正负脉
冲比为1:1，时间为20‑40min。

[0038] 微弧氧化膜层的性能和其成分和相结构有关，而膜层的成分和相结构又和试验所用的电解液成分和基体有很大的关系，其中1‑2g/L氢氧化钠为基础成分， 8‑12g/L硅酸钠
为钝化剂，所述钝化剂可促进阻挡型氧化膜的形成，更容易使基体金属被钝化，从而发生击
‑
穿现象开始微弧氧化，其中丙三醇OH为导电剂可提高溶液的电导率，同时丙三醇可提高微
弧氧化液的分散性，乙二胺四乙酸二钠稳定剂可提高溶液以及溶液pH值的稳定性，同时用
于络合电解液中的金属离子。

[0039] 电流密度6‑10A/dm2：电流密度是微弧氧化过程的重要参数，并且对微弧氧化膜层的结构与形貌有很大影响。例如，电流密度严重影响微弧氧化膜层厚度的增加，随着电流密
度的增加，氧化膜及其致密层的增厚速度均加快，但致密层所占的比例逐渐降低，在恒流模
式下，当电流密度较大时火花放电强度逐渐增加但是火花数量逐渐降低，因此形成的膜层
相对粗糙。

[0040] 频率为450‑500Hz：低频率代表着单个周期内脉冲能量持续的时间较长，火花放电的时间增加，膜层的生长速度较快，如频率越高，膜层微孔数量越多，分布越均匀，且孔径随
着频率的升高而减小。

[0041] 占空比为30‑40%：占空比的增加可以提高火花放电能量，使膜层的孔隙率提升，孔隙率的提升会降低阳极氧化膜的强度，如在低占空比下微弧火花的数量较多，生成的膜层
微孔都较小；在高占空比下火花放电变得剧烈，的膜层也相对粗糙。

[0042] 时间为20‑40min：微弧氧化的时间主要是影响微弧氧化膜的粗糙度和厚度，如一定时间范围内，时间长，厚度厚，粗糙度明显提升。

[0043] （C）一次机械抛光除去微弧氧化膜表面的多孔表层：人造金刚石砂轮，打磨打磨厚度5‑8μm，金刚石的打磨速度为14‑16m/s，砂轮表面金刚石的粒径2‑5微米，如前所述，微弧
氧化膜的表层的多孔层的硬度低、孔隙率高，因此需要打磨除去，从而更进一步的提高为弧
氧化膜的硬度和耐磨性，现有技术中通过控制电解液和电解参数，可以有效的控制所述多
孔的厚度和孔隙率，因此不需要对微弧氧化膜做进一步的后续抛光处理，在不需要露出中
间低密度硬度层的条件下，所述微弧氧化膜的耐磨性和耐腐蚀性已经满足市场需求了，但
是本申请需要对所述微弧氧化膜进行封孔处理，进一步提高微弧氧化膜的耐磨性、耐腐蚀
性，降低表面粗糙度，因此需要进行抛光处理，所述抛光打磨处理除去多孔层的厚度为2‑5
微米。

[0044] （D）一次热处理：2oC/min升至300‑320oC，惰性气氛下恒温1‑2h，自然冷却，所述热处理的主要目的在于除去热应力，本领域技术人员知晓的，微弧氧化膜的表层是由直径为
几十微米的大颗粒与大量几微米的小颗粒组成，每个大颗粒中间残留一个几微米大小的放
电气孔，类似火山口形貌，在微弧氧化过程中，所述火山口孔道附近会发生液体气化，形成
高温区域，即会造成微弧氧化膜存在明显热应力，通过前述的抛光过程中，抛光温度也较
高，所述局部的热量会造成阳极氧化膜与基材的结合力降低，需要进行热处理除去应力。

[0045] （E）真空填充铝溶胶: 所述铝溶胶的制备方法为：称取7‑8g拟薄水铝石在搅拌条‑2 ‑
件下分批加入到100‑120mL去离子水中，加入1‑2M硝酸溶液，持续搅拌3‑4 h，在10 10
~
4 o
MPa真空泵条件下，将所述铝溶胶填充于微弧氧化膜的孔道内，然后50‑60C干燥，重复填充
2‑4次。在真空抽吸辅助条件下，所述铝溶胶进入微弧氧化膜的孔道内，然后通过干燥加热
处理，脱水形成非晶态的氧化铝，所述非晶态的氧化铝主要作为后续填充封孔的主要来源，
和本发明的关键成分。

[0046] （F）二次热处理：高温水蒸气热处理，115‑120oC过热水蒸气。如上所述，在微弧氧化膜的孔道内填充了非晶态的氧化铝，所述非晶态的氧化在干燥过程中从铝溶胶变为氧化
铝，会明显的发生收缩，类似于在CNCN201110288402中为微弧氧化孔道中填充有机硅一样，
一旦发生干燥，氧化硅与微弧氧化孔道必然发生分离，实际上是达不到封孔效果的，本发明
采用高温水蒸气去处理，使用非晶态氧化铝转化为勃姆体的水合氧化铝，形成 Al2O3H2O
（AlOOH），所述其反应为：Al2O3+nH2O→Al2O3+nH2O，类似于阳极氧化膜的封孔，这里就会存在
这样一个技术问题，为何不采用类似微弧氧化膜的封孔手段，直接对微弧氧化膜进行蒸汽
封孔，这里需要作出如下解释，阳极氧化膜的孔道均匀，且孔径时非常小的，通常不高于
100nm，通过简单的水热，氧化铝与水化合成勃姆体型的水合氧化铝，由于水合氧化铝的密
3 3
度(3014kg/m)比氧化铝(3420kg/m)的体积增大30％左右，完全可以堵塞了氧化膜的孔隙，
但是微弧氧化的氧化铝孔道的孔径为微米级，单纯通过氧化膜自身的氧化铝是无法做到水
热封孔的，因此，本发明需要在微弧氧化膜的孔道内填充非晶态氧化铝，然后在通过膨胀作
用，实现微弧氧化膜的封孔。

[0047] 此外，本领域技术人员知晓的，Al2O3+nH2O→Al2O3+nH2O封孔过程中，采用105oC蒸汽热封孔时，n≈1，一般温度高，n值越小，水合程度越低，其硬度和耐腐蚀性越强，本发明采
o
用过热蒸汽为115‑120C。

[0048] （G）二次机械抛光：如前述，通过填充‑热处理有效的封孔，但是在填充过程中，会有部分铝溶胶粘附为微弧氧化膜表面，而不是填充到孔道，经过后续处理，所述表面粘附的
氧化铝不会发生封孔作用，而以形成于微弧氧化膜粘合力极差的氧化皮层，所述彼此必须
除去，二次机械抛光为含有α‑Al2O3的抛光液，所述α‑Al2O3的粒径为500‑800nm，抛光时间3‑
5min，抛光厚度3‑5μm，并改善金属表面的粗糙度，满足市场手感需求，此外，采用小粒径的
氧化铝，是在微弧氧化膜表面不引入杂质的前提下，希望所述抛光液中部分破碎的小颗粒
氧化铝可以进一步的塞进如上述1%以下孔隙率的孔道内或者缝隙中。

[0049] （H）酸洗，水洗：硝酸15‑17vol.%，HF 1‑1.5vol.%，室温，5‑10min，腐蚀除去部分抛光无法除去的颗粒氧化铝。

[0050] 本发明所述方案具有以下有益效果：

[0051] （1）通过填充‑膨胀封孔处理微弧氧化膜，有效的提高了微弧氧化膜的表面的致密度，降低了表面微弧氧化的孔隙率。

[0052] （2）采用本发明处理微弧氧化膜，有效的提高微弧氧化膜的硬度、耐腐蚀性和降低了粗糙度。

具体实施方式

[0053] 实施例1

[0054] 一种铝合金表面处理方法，所述方法为铝合金微弧氧化陶瓷膜的封孔处理，如下处理步骤：

[0055] （1）铝合金表面预处理。

[0056] 喷砂：硬度为385Hv的石英砂，所述石英砂的粒径2mm，空气压力为0.3Mpa。

[0057] 碱洗：NaOH 40g/L，酒石酸钠2g/L，温度40oC，时间3min。

[0058] 酸洗：HNO3 250g/L，温度25oC，时间3min。

[0059] （2）以经过表面预处理的铝合金为阳极，在电解液中进行微弧氧化，在铝合金表面形成微弧氧化膜：微弧氧化参数：1g/L氢氧化钠、8g/L硅酸钠、3ml/L丙三醇、2g/L乙二胺四
2
乙酸二钠，电流密度6A/dm，频率为450Hz，占空比为30%，正负脉冲比为1:1，时间为20min。

[0060] （3）一次机械抛光除去微弧氧化膜表面的多孔表层：机械抛光为人造金刚石砂轮，金刚石的打磨速度为14m/s，砂轮表面金刚石的粒径2微米。

[0061] （4）一次热处理：2oC/min升至300oC，惰性气氛下恒温1h，自然冷却。

[0062] （5）真空填充铝溶胶：称取7g拟薄水铝石在搅拌条件下分批加入到100mL去离子水‑2
中，加入1M硝酸溶液，持续搅拌3 h，在10 MPa真空泵条件下，将所述铝溶胶填充于微弧氧化
o
膜的孔道内，然后50C干燥，干燥时间为36h，重复填充3次。

[0063] （6）二次热处理：高温水蒸气热处理，115oC过热水蒸气，时间为10min；

[0064] （7）二次机械抛光：二次机械抛光为含有α‑Al2O3的抛光液，所述α‑Al2O3的粒径为500nm，抛光时间3min；

[0065] （8）酸洗，水洗，酸洗为硝酸15vol.%，HF 1vol.%，室温，5min。

[0066] 实施例2

[0067] 一种铝合金表面处理方法，所述方法为铝合金微弧氧化陶瓷膜的封孔处理，如下处理步骤：

[0068] （1）铝合金表面预处理。

[0069] 喷砂：硬度为385Hv的石英砂，所述石英砂的粒径2.5mm，空气压力为0.4Mpa。

[0070] 碱洗：NaOH 45g/L，酒石酸钠3g/L，温度47oC，时间4min。

[0071] 酸洗：HNO3 275g/L，温度27.5oC，时间4min。

[0072] （2）以经过表面预处理的铝合金为阳极，在电解液中进行微弧氧化，在铝合金表面形成微弧氧化膜：微弧氧化参数：1.5g/L氢氧化钠、10g/L硅酸钠、4ml/L丙三醇、3g/L乙二胺
2
四乙酸二钠，电流密度8A/dm ，频率为475Hz，占空比为35%，正负脉冲比为1:1，时间为
30min。

[0073] （3）一次机械抛光除去微弧氧化膜表面的多孔表层：机械抛光为人造金刚石砂轮，金刚石的打磨速度为15m/s，砂轮表面金刚石的粒径3.5微米。

[0074] （4）一次热处理：2oC/min升至310oC，惰性气氛下恒温1.5h，自然冷却。

[0075] （5）真空填充铝溶胶：称取7.5g拟薄水铝石在搅拌条件下分批加入到110mL去离子‑4
水中，加入1.5M硝酸溶液，持续搅拌3.5h，在10 MPa真空泵条件下，将所述铝溶胶填充于微
o
弧氧化膜的孔道内，然后55C干燥，干燥时间为42h，重复填充3次。

[0076] （6）二次热处理：高温水蒸气热处理， 120oC过热水蒸气，时间为13min；

[0077] （7）二次机械抛光：二次机械抛光为含有α‑Al2O3的抛光液，所述α‑Al2O3的粒径为700nm，抛光时间4min；

[0078] （8）酸洗，水洗，酸洗为硝酸16vol.%，HF 1.25vol.%，室温，7.5min。

[0079] 实施例3

[0080] 一种铝合金表面处理方法，所述方法为铝合金微弧氧化陶瓷膜的封孔处理，如下处理步骤：

[0081] （1）铝合金表面预处理。

[0082] 喷砂：硬度为385Hv的石英砂，所述石英砂的粒径3mm，空气压力为0.5Mpa。

[0083] 碱洗：NaOH50g/L，酒石酸钠4g/L，温度55oC，时间5min。

[0084] 酸洗：HNO3 300g/L，温度30oC，时间5min。

[0085] （2）以经过表面预处理的铝合金为阳极，在电解液中进行微弧氧化，在铝合金表面形成微弧氧化膜：微弧氧化参数：2g/L氢氧化钠、12g/L硅酸钠、5ml/L丙三醇、4g/L乙二胺四
2
乙酸二钠，电流密度10A/dm，频率为500Hz，占空比为40%，正负脉冲比为1:1，时间为40min。

[0086] （3）一次机械抛光除去微弧氧化膜表面的多孔表层：机械抛光为人造金刚石砂轮，金刚石的打磨速度为16m/s，砂轮表面金刚石的粒径5微米。

[0087] （4）一次热处理：，2oC/min升至320oC，惰性气氛下恒温2h，自然冷却。

[0088] （5）真空填充铝溶胶：称取8g拟薄水铝石在搅拌条件下分批加入到120mL去离子水‑4
中，加入2M硝酸溶液，持续搅拌4 h，在10 MPa真空泵条件下，将所述铝溶胶填充于微弧氧化
o
膜的孔道内，然后60C干燥，干燥时间为48h，重复填充2次。

[0089] （6）二次热处理：高温水蒸气热处理， 120oC过热水蒸气，时间为15min；

[0090] （7）二次机械抛光：二次机械抛光为含有α‑Al2O3的抛光液，所述α‑Al2O3的粒径为800nm，抛光时间5min；

[0091] （8）酸洗，水洗，酸洗为硝酸17vol.%，HF 1.5vol.%，室温，10min。

[0092] 通过本发明处理获得的封孔微弧氧化铝材的硬度范围2250‑2350HV，5%NaCl盐雾测试耐腐蚀性2657‑2821h，摩擦系数0.39±0.2。

[0093] 以上，虽然通过优选的实施例对本发明进行了例示性的说明，但本发明并不局限于这种特定的实施例，可以在记载于本发明的保护范围的范畴内实施适当的变更。