散热包层转让专利

申请号 : CN202011179425.5

文献号 : CN112751298B

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基本信息:

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法律信息:

相似专利:

发明人 : 彼得·苏罗夫卡

申请人 : 罗克韦尔自动化技术公司

摘要 :

一种用于散热的包层,其包括耗散带和颗粒涂层。耗散带包括耗散脊,耗散脊使红外辐射以耗散角耗散。颗粒涂层沉积在耗散带上。

权利要求 :

1.一种散热包层,包括:

耗散带,所述耗散带包括耗散脊,所述耗散脊使红外辐射以耗散角耗散;以及颗粒涂层,所述颗粒涂层沉积在所述耗散带上;

其中,所述耗散脊具有在30μm至60μm范围内的脊高度以及在50μm至90μm范围内的脊宽度。

2.根据权利要求1所述的散热包层,其中,所述耗散带在8微米(μm)至14微米的波长谱具有红外发射率。

3.根据权利要求1所述的散热包层,其中,所述耗散角在相对于所述耗散带的法向轴线成5度至35度的范围内。

4.根据权利要求1所述的散热包层,其中,所述耗散带使红外辐射以相对于所述耗散带的法向轴线的耗散矢量耗散。

5.根据权利要求1所述的包层,其中,所述耗散脊形成菲涅耳图案。

6.根据权利要求1所述的散热包层,其中,所述耗散脊具有5摄氏度/瓦至20摄氏度/瓦(℃/W)范围内的热导率。

7.根据权利要求1所述的散热包层,其中,所述耗散脊形成有基部并且基部脊高度在80μm至150μm的范围内。

8.根据权利要求7所述的散热包层,其中,所述耗散脊和所述基部是金属的。

9.根据权利要求1所述的散热包层,所述散热包层还包括箔基部,其中,所述箔基部选自包括聚酰亚胺膜、铝箔和铜箔的组。

10.根据权利要求9所述的散热包层,其中,所述箔基部具有在25μm至100μm范围内的箔厚度。

11.根据权利要求1所述的散热包层,其中,所述散热包层被布置在母线上;

所述散热包层还包括沉积在所述母线上的纳米涂料层;并且所述纳米涂料层的交叠距离被布置在所述散热包层与所述母线之间。

12.根据权利要求1所述的散热包层,其中,所述耗散脊具有热涂层,所述热涂层具有在

4μm至10μm范围内的涂层厚度。

13.根据权利要求12所述的散热包层,其中,所述热涂层是黑色的。

14.根据权利要求1所述的散热包层,其中,所述耗散带包括粘合材料,所述粘合材料具有在25μm至100μm范围内的粘合厚度。

15.根据权利要求1所述的散热包层,其中,所述颗粒涂层包括颗粒尺寸在100纳米(nm)至2500纳米范围内的颗粒。

16.根据权利要求1所述的散热包层,其中,所述颗粒涂层包括下述颗粒:质量百分数为

50%至70%的银以及质量百分数为30%至50%的铜、锌、氧化锌、金、镍、钯和/或铝。

17.根据权利要求1所述的散热包层,其中,所述颗粒涂层在80摄氏度至120摄氏度范围内的温度下烧结达2秒至20秒范围内的时间。

18.一种母线系统,包括:

母线;

耗散带,所述耗散带被布置在所述母线上并且包括耗散脊,所述耗散脊使红外辐射以耗散角耗散;以及颗粒涂层,所述颗粒涂层沉积在所述耗散带上;

其中,所述耗散脊具有在30μm至60μm范围内的脊高度以及在50μm至90μm范围内的脊宽度。

19.根据权利要求18所述的母线系统,其中,所述耗散带被应用于所述母线的两侧。

说明书 :

散热包层

技术领域

[0001] 本文公开的主题涉及散热包层。

背景技术

[0002] 母线可以分配高电流电力。因此,母线可以产生大量的热。

发明内容

[0003] 公开了用于散热的包层。该包层包括耗散带和颗粒涂层。耗散带包括耗散脊,耗散脊使红外辐射以耗散角耗散。颗粒涂层沉积在耗散带上。
[0004] 还公开了用于散热的系统。该系统包括母线、耗散带和颗粒涂层。耗散带被布置在母线上并且包括耗散脊,耗散脊使红外辐射以耗散角耗散。颗粒涂层沉积在耗散带上。

附图说明

[0005] 为了使本发明的实施方式的优点将容易地被理解,将通过参考附图中示出的特定实施方式来对上面简要描述的实施方式进行更具体的描述。要理解的是,这些附图仅描绘了一些实施方式并且因此不应被认为是对范围的限制,将通过使用附图以附加的特征和细节来描述和解释实施方式,在附图中:
[0006] 图1是根据实施方式的母线系统的前视示意图;
[0007] 图2A是根据实施方式的耗散带的侧视图;
[0008] 图2B是根据替选实施方式的耗散带的侧视图;
[0009] 图2C是根据实施方式的耗散带的侧视截面示意图;
[0010] 图2D是根据实施方式的耗散带的立体图;
[0011] 图3A是根据实施方式的具有颗粒涂层的耗散带的侧视示意图;以及
[0012] 图3B是根据实施方式的颗粒的侧视示意图。

具体实施方式

[0013] 在整个说明书中,对“一个实施方式”、“实施方式”或者类似语言的引用意指结合实施方式描述的具体特征、结构或特性包括在至少一个实施方式中。因此,除非另外明确说明,否则在本说明书中,短语“在一个实施方式中”、“在实施方式中”和类似语言的出现可以但不一定都指代相同的实施方式,而是意指“一个或更多个但不是所有的实施方式”。除非另外明确说明,否则术语“包含(including)”、“包括(comprising)”、“具有(having)”及其变型意指“包括但不限于”。除非另外明确说明,否则列举的项目的列表并不暗指任何项目或者所有项目是相互排斥的和/或相互包含的。除非另外明确说明,否则术语“一(a)”、“一个(an)”和“该(the)”也指“一个或更多个”。术语“和/或”指示一个或更多个所列元件的实施方式,其中“A和/或B”指示单独的元件A、单独的元件B或者合起来的元件A和元件B的实施方式。
[0014] 对每个附图中的元件的描述可以参考先前附图的元件。在所有附图中,相同的附图标记指代相同的元件,包括相同元件的替选实施方式。
[0015] 图1是母线系统100的前视示意图。母线系统100可以在设备柜内分配电力。在所描绘的实施方式中,母线系统100包括母线111和布置在母线111上的包层113。母线111可以分配高电流电力。因此,母线111可以产生大量的热。热可能会降低母线111的性能。
[0016] 实施方式提供了增强母线111的散热的包层113。包层113包括用以增强红外辐射耗散的耗散带,该耗散带使红外辐射以耗散角耗散。此外,包层113可以包括沉积在耗散带上的颗粒涂层,将在下文描述。因此,可以降低母线111的工作温度,并且可以提高母线111的效率和安全性。
[0017] 包层113和/或耗散带101可以被应用于母线111的一侧。此外,包层113和/或耗散带101可以被应用于母线111的两侧。在某实施方式中,包层113和/或耗散带101被应用于母线111的每个表面。
[0018] 图2A是耗散带101的侧视图。在所描绘的实施方式中,耗散带101包括耗散脊103,耗散脊103使红外辐射315以耗散角317耗散。耗散角317可以是相对于耗散带101的法向轴线313测量的。耗散角317可以在相对于耗散带101的法向轴线313成5度至35度的范围内。在某实施方式中,耗散角317是最小耗散角317。例如,耗散角317可以从耗散带101的中心向耗散带101的边缘增加。在替选示例中,耗散角317可以从耗散带101的边缘向耗散带101的中心增加。
[0019] 通过使红外辐射以耗散角317耗散,可以更有效地从母线111辐射热。例如,耗散角317可以将红外辐射引导到更有效地去除热的体积,例如空气流动的区域。
[0020] 耗散脊103可以沿着耗散带101纵向形成。在一个实施方式中,耗散脊103形成菲涅耳(fresnel)图案。耗散带101可以在8微米(μm)至14微米的波长谱具有红外发射率。在某实施方式中,耗散脊103具有5摄氏度/瓦(℃/W)至20摄氏度/瓦范围内的热导率。
[0021] 图2B是耗散带101的侧视图。在所描绘的实施方式中,耗散带101使红外辐射315以相对于耗散带101的法向轴线313的耗散矢量319耗散。耗散矢量319可以是从耗散带110耗散的红外辐射315的矢量的平均矢量。因此,耗散带101可以引导红外辐射315与法向轴线313成平均角321。
[0022] 图2C是耗散带101的侧视截面示意图。在所描绘的实施方式中,耗散带101布置在母线111上并且包括粘合材料107、箔基部106、基部105以及耗散脊103。在一个实施方式中,耗散带101包括热涂层109。
[0023] 在某实施方式中,包层113包括沉积在母线111上的纳米涂料层108。纳米涂料层108可以不沉积在整个耗散带101下方的母线111上。可以仅将纳米涂料层108的交叠距离
219布置在包层113和/或耗散带101与母线111之间。交叠距离219可以在50毫米(mm)至500毫米的范围内。
[0024] 粘合材料107可以具有粘合厚度211。粘合厚度211可以在25μm至100μm的范围内。在一个实施方式中,粘合厚度211是60μm。粘合材料107可以选自包括丙烯酸粘合剂和硅酮粘合剂的组。如果箔基部106是聚酰亚胺膜,则可以不包括粘合材料107。
[0025] 箔基部106可以选自包括聚酰亚胺膜、铝箔和铜箔的组。聚酰亚胺膜可以是卡普顿箔基部106可以具有25μm至100μm范围内的箔厚度217。对于聚酰亚胺膜,箔厚度217可以在15μm至35μm的范围内。在一个实施方式中,聚酰亚胺膜的箔厚度217是25μm。对于铝箔,箔厚度217可以在80μm至120μm的范围内。在某实施方式中,铝箔的箔厚度217是
100μm。对于铜箔,箔厚度217可以在80μm至120μm的范围内。在某实施方式中,铜箔的箔厚度
217是100μm。铝箔基部106可以与铝母线111一起使用。铜箔基部106可以与铜母线111一起使用。
[0026] 可以例如用冷锤对聚酰亚胺膜进行冲压。在一个实施方式中,铝箔和/或铜箔被切削。铝箔和/或铜箔可以被激光刻槽。
[0027] 耗散脊103可以形成有基部105。基部脊高度213可以在80μm至150μm的范围内。在一个实施方式中,基部脊高度213是115μm。基部高度203可以在50μm至90μm的范围内。耗散脊103和基部105可以是金属的。耗散脊103可以具有30μm至60μm范围内的脊高度207以及50μm至90μm范围内的脊宽度209。
[0028] 在一个实施方式中,耗散脊103可以包括带边界205。带边界205可以在5mm至500mm的范围内。带边界205可以垂直于法向轴线313。替选地,带边界205可以是倾斜的。
[0029] 在一个实施方式中,耗散脊103具有热涂层109。热涂层109可以具有在4μm至10μm范围内的涂层厚度215。热涂层109可以是黑色的。
[0030] 图2D是耗散带101的立体图。耗散带101可以形成为连续段。可以将耗散带101切割并且应用于母线111以形成包层113。
[0031] 图3A是耗散带101的侧视示意图。在描绘的实施方式中,示出了沉积在耗散带101上的颗粒涂层115。在一个实施方式中,颗粒涂层115包括颗粒。颗粒可以是质量百分数为50%至70%的银以及质量百分数为30%至50%的铜、锌、氧化锌、金、镍、钯和/或铝。可以将颗粒涂层115烧结到耗散带101上。在一个实施方式中,颗粒涂层115在80摄氏度至120摄氏度范围内的温度下被烧结达2秒至20秒范围内的时间。
[0032] 图3B是颗粒涂层115的颗粒305的侧视示意图。颗粒305可以具有在100纳米(nm)至2500纳米范围内的颗粒尺寸307。
[0033] 问题/解决方案
[0034] 母线111可以承载大量电流。因此,母线111的电阻可能产生大量的热。这些热必须从母线111耗散以避免损坏母线111以及提高母线111在分配电力时的效率。
[0035] 本文中所描述的实施方式包括包层113,其具有耗散带101和沉积在耗散带101上的颗粒涂层115。耗散带101可以包括耗散脊103,耗散脊103使红外辐射315以耗散角317耗散。耗散角317可以被选择成使红外辐射315更有效地从母线111耗散。此外,耗散带101可以包括沉积在耗散带101上的颗粒涂层115。颗粒涂层115可以进一步提高包层113从母线111散热的效率。
[0036] 本说明书使用示例来公开本发明,并且还使本领域的任何技术人员能够实践本发明,包括制造和使用任何装置或系统以及执行任何并入的方法。本发明的可取得专利的范围由权利要求限定并且可以包括本领域技术人员想到的其他示例。如果这些其他示例具有与权利要求的字面语言没有不同的结构元件,或者如果这些其他示例包括与权利要求的字面语言无实质性差异的等效结构元件,则这些其他示例旨在处于权利要求的范围内。