利用旧义齿制作有个性化磨光面的全口义齿的方法

摘要

本发明公开了一种利用旧义齿制作有个性化磨光面的全口义齿的方法，包括以下具体步骤：准备患者的旧上颌义齿和旧下颌义齿；用旧上颌义齿作为个别托盘，进行终印模的制取和磨光面整塑；利用旧下颌义齿作为个别托盘，进行终印模的制取，并同时进行磨光面整塑；扫描具有个性化磨光面的上颌终印模和下颌终印模，得STL文件；将牙列从STL文件上分离下来；用CAD/CAM的方法将分离下来的上牙列和下牙列用树脂块切削下来；将切削下来的牙列复位到已包埋好后的阴模腔内，进行充胶注塑，完成全口义齿的制作。本发明制作更加准确、简单；避免了自凝树脂直接成型个性化磨光面所导致的成型不充分的缺点；减少了戴牙时调牙合的时间，使患者能快速适应新的全口义齿。

权利要求

1.一种利用旧义齿制作有个性化磨光面的全口义齿的方法，其特征在于，包括以下具体步骤：

准备患者的旧上颌义齿和旧下颌义齿；

利用旧上颌义齿作为个别托盘，用聚醚硅橡胶进行终印模的制取，并同时进行磨光面整塑，形成具有个性化磨光面的上颌终印模；

利用旧下颌义齿作为个别托盘，用聚醚硅橡胶进行终印模的制取，并同时进行磨光面整塑，形成具有个性化磨光面的下颌终印模；

扫描制取完成的上颌终印模和下颌终印模，并获取相应的STL文件；

从获得的STL文件上将上牙列和下牙列分离下来；

用CAD/CAM的方法将分离下来的上牙列和下牙列用树脂块切削下来；

将形成上颌终印模的旧上颌义齿包埋成型阴模腔，然后将切削下来的与上颌终印模相对应的上牙列复位到阴模腔内，然后进行充胶注塑，完成上颌义齿的制作；

将形成下颌终印模的旧下颌义齿包埋成型阴模腔，然后将切削下来的与下颌终印模相对应的下牙列复位到阴模腔内然后进行充胶注塑，完成下颌义齿的制作；

对制作完成的上颌义齿和下颌义齿进行抛光打磨，以完成完全具有个性化磨光面的全口义齿。

2.根据权利要求1所述的利用旧义齿制作有个性化磨光面的全口义齿的方法，其特征在于，在制取终印模之前，若旧上颌义齿和旧下颌义齿边缘较短，进行边缘整塑以延长过短的边缘。

3.根据权利要求1所述的利用旧义齿制作有个性化磨光面的全口义齿的方法，其特征在于，扫描具有个性化磨光面的上颌终印模和下颌终印模时，利用3shape三维扫描仪进行扫描。

4.根据权利要求1所述的利用旧义齿制作有个性化磨光面的全口义齿的方法，其特征在于，所述的STL文件包括上颌STL文件和下颌STL文件，上颌STL文件通过扫描具有个性化磨光面的上颌终印模获得，下颌STL文件通过扫描具有个性化磨光面的下颌终印模获得。

说明书

利用旧义齿制作有个性化磨光面的全口义齿的方法

技术领域

[0001] 本发明属于义齿制作技术领域，具体涉及一种利用旧义齿制作有个性化磨光面的全口义齿的方法。

背景技术

[0002] 为牙列缺失患者制作的义齿称为全口义齿。全口义齿的稳定受口腔内周围神经肌肉系统的影响。口腔功能，比如发音、咀嚼、吞咽、微笑、和大笑由舌、唇、颊及口底肌肉的共
同参与，这个过程非常复杂且具有个性化。而对于佩戴全口义齿的患者而言，神经肌肉的控
制对义齿的稳定是关键。Fish在1993年首次提出全口义齿中性区的概念，其定义为唇、颊、
舌肌之间围绕义齿的潜在间隙，理论上在中性区，颊肌或唇肌与舌肌的力量是平衡的。而全
口义齿与唇颊舌肌接触的面是义齿磨光面。研究表明，选择形态大小合适的人工牙，且将其
排列在中性区，同时磨光面形态与中性区相适应可以使唇、颊、舌肌的力量达到平衡，这有
利于全口义齿的固位与稳定，特别是对于牙槽嵴吸收严重的病例，其更有意义。同时磨光面
可以减少食物堆积并且帮助颊部肌肉推食物至咬合面上，使咀嚼过程变得更容易。因此，个
性化磨光面的制作非常重要。尽管如此，与全口义齿组织面及咬合面相比，大部分牙医的重
视程度较低。这是由于制作个性化磨光面需要额外制取印模并且技工室流程复杂，所以大
部分牙医将其交与技师完成，但并非个性化的。

[0003] 在有旧义齿的情况下，利用旧义齿制作个性化磨光面的方法：方法一，用组织指示剂在旧义齿的磨光面通过嘱患者做边缘整塑的动作成型，并制作导板，复制义齿的磨光面，
完成新的义齿；方法二，在完成的义齿基托磨光面，放置自凝树脂，并嘱患者完成边缘整塑
的动作，形成个性化磨光面，最终抛光完成终义齿。

[0004] 如果是通过组织指示剂制作磨光面，并制作导板来复制磨光面，整个过程由手工完成，耗时，费力且准确性差。

[0005] 如果是通过在旧义齿的磨光面上放置自凝树脂，来直接制作个性化磨光面，由于直接放入患者口内成型，故会对黏膜有刺激作用，且由于自凝树脂的流动性很差，所以不能
形成理想的磨光面形态。

发明内容

[0006] 本发明的目的是提供一种利用旧义齿制作有个性化磨光面的全口义齿的方法，通过数字化扫描的方式获得通过硅橡胶直接成型的个性化磨光面的旧义齿的STL文件，再通
过将该STL文件中的牙列分离并通过CAD/CAM的方式切削树脂块，从而复制旧义齿的牙列。
将旧义齿作为蜡型直接包埋并形成阴模腔，并将切削好的树脂牙列直接复位于阴模腔内，
通过充胶注塑的方式完成义齿的制作。避免了传统方式制作导板耗时耗力的缺点，并且更
加准确、简单。同时也避免了自凝树脂直接成型个性化磨光面所导致的黏膜刺激以及流动
性差导致的成型不充分的缺点。同时也准确的复制了旧义齿稳定的咬合，减少了新义齿戴
牙时调牙合的时间，并使患者能快速适应新义齿。

[0007] 为了实现上述目的，本发明采用以下技术方案：

[0008] 一种利用旧义齿制作有个性化磨光面的全口义齿的方法，包括以下具体步骤：

[0009] 准备患者的旧上颌义齿和旧下颌义齿；

[0010] 利用旧上颌义齿作为个别托盘，用聚醚硅橡胶进行终印模的制取，并同时进行磨光面整塑，形成具有个性化磨光面的上颌终印模；

[0011] 利用旧下颌义齿作为个别托盘，用聚醚硅橡胶进行终印模的制取，并同时进行磨光面整塑，形成具有个性化磨光面的下颌终印模；

[0012] 扫描制取完成的上颌终印模和下颌终印模，并获取相应的STL文件；

[0013] 从获得的STL文件上将上牙列和下牙列分离下来；

[0014] 用CAD/CAM的方法将分离下来的上牙列和下牙列用树脂块切削下来；

[0015] 将形成上颌终印模的旧上颌义齿包埋成型阴模腔，然后将切削下来的与上颌终印模相对应的上牙列复位到阴模腔内，然后进行充胶注塑，完成上颌义齿的制作；

[0016] 将形成下颌终印模的旧下颌义齿包埋成型阴模腔，然后将切削下来的与下颌终印模相对应的下牙列复位到阴模腔内然后进行充胶注塑，完成下颌义齿的制作；

[0017] 对制作完成的上颌义齿和下颌义齿进行抛光打磨，以完成完全具有个性化磨光面的全口义齿。

[0018] 进一步优选的是，在制取终印模之前，若旧上颌义齿和旧下颌义齿边缘较短，进行边缘整塑以延长过短的边缘。

[0019] 更进一步优选的是，扫描具有个性化磨光面的上颌终印模和下颌终印模时，利用3shape三维扫描仪进行扫描。

[0020] 更进一步优选的是，所述的STL文件包括上颌STL文件和下颌STL文件，上颌STL文件通过扫描具有个性化磨光面的上颌终印模获得，下颌STL文件通过扫描具有个性化磨光
面的下颌终印模获得。

[0021] 有益效果：本发明通过数字化扫描的方式获得通过硅橡胶利用旧义齿直接成型的个性化磨光面STL文件，再通过将该STL文件中的牙列分离并通过CAD/CAM的方式切削树脂
块，从而复制旧义齿的牙列。将旧义齿作为蜡型直接包埋并形成阴模腔，并将切削好的树脂
牙列直接复位于阴模腔内，通过充胶注塑的方式完成义齿的制作。避免了传统方式制作导
板耗时耗力的缺点，并且更加准确、简单。同时也避免了自凝树脂直接成型个性化磨光面所
导致的黏膜刺激以及流动性差导致的成型不充分的缺点。同时也准确的复制了旧义齿稳定
的咬合，减少了新义齿戴牙时调牙合的时间，并使患者能快速适应新的全口义齿。

附图说明

[0022] 通过结合附图考虑以下对本发明的优选实施方式的详细说明，本发明的各种目标，特征和优点将变得更加显而易见。附图仅为本发明的示范性图解，并非一定是按比例绘
制。在附图中，同样的附图标记始终表示相同或类似的部件。其中：

[0023] 图1为本发明准备的患者的旧上颌义齿；

[0024] 图2为本发明准备的患者的旧下颌义齿；

[0025] 图3为本发明中形成的具有个性化磨光面的上颌终印模图；

[0026] 图4为本发明中形成的具有个性化磨光面的下颌终印模图；

[0027] 图5为本发明中对STL文件进行截图得到的上颌印模截图和下颌印模截图；

[0028] 图6为本发明中将上牙列和下牙列从STL文件上分离下来时的示意图；

[0029] 图7为本发明中用CAD/CAM的方法将分离下来的上牙列和下牙列用树脂块切削下来的示意图；

[0030] 图8为本发明中将切削下来的上牙列复位到旧上颌义齿被包埋后成型的阴模腔内的示意图，以及将切削下来的下牙列复位到旧下颌义齿被包埋后成型的阴模腔内的示意
图；

[0031] 图9为本发明中完成制作的全口义齿。

具体实施方式

[0032] 体现本发明特征与优点的典型实施例将在以下的说明中详细叙述。应理解的是本发明能够在不同的实施例上具有各种的变化，其皆不脱离本发明的范围，且其中的说明及
附图在本质上是作说明之用，而非用以限制本发明。

[0033] 在对本发明的不同示例性实施方式的下面描述中，参照附图进行，附图形成本发明的一部分，并且其中以示例方式显示了可实现本发明的多个方面的不同示例性结构，系
统和步骤。应理解的是，可以使用部件，结构，示例性装置，系统和步骤的其他特定方案，并
且可在不偏离本发明范围的情况下进行结构和功能性修改。而且，虽然本说明书中可使用
术语“之上”，“之间”，“之内”等来描述本发明的不同示例性特征和元件，但是这些术语用于
本文中仅出于方便，例如根据附图中的示例的方向。本说明书中的任何内容都不应理解为
需要结构的特定三维方向才落入本发明的范围内。

[0034] 实施例一：

[0035] 如图1‑9所示，本实施例提供了一种利用旧义齿制作有个性化磨光面的全口义齿的方法，包括以下具体步骤：

[0036] 准备患者提供的旧上颌义齿和旧下颌义齿，旧上颌义齿和旧下颌义齿的咬合较稳定且颌位关系正确，义齿边缘伸展基本到位；如图1和图2所示，其中，图1中的附图标记1指
向的是旧上颌义齿的磨光面形态，附图标记2指向的是旧上颌义齿的牙列，可见其磨光面形
态为人工制作，并非个性化形态，其牙列轻度磨耗；其中，图2中的附图标记3指向的是旧下
颌义齿的磨光面形态，附图标记4指向的是旧下颌义齿的牙列，附图标记5指向的是旧下颌
义齿的舌侧翼缘区，可见其磨光面形态为人工制作，并非个性化形态，其牙列轻度磨耗，且
其舌侧翼缘区轻度伸展不足。

[0037] 利用旧上颌义齿作为个别托盘，用聚醚硅橡胶进行终印模的制取，并同时进行磨光面整塑，形成具有个性化磨光面的上颌终印模；如图3所示，其中，附图标记6指定的是形
成的具有个性化磨光面的上颌终印模的个性化磨光面。

[0038] 利用旧下颌义齿作为个别托盘，用聚醚硅橡胶进行终印模的制取，并同时进行磨光面整塑，形成具有个性化磨光面的下颌终印模；如图4所示，其中，附图标记7指定的是形
成的具有个性化磨光面的下颌终印模的个性化磨光面。

[0039] 利用3shape三维扫描仪扫描具有个性化磨光面的上颌终印模和具有个性化磨光面的下颌终印模，得STL文件，此时可以对STL文件进行截图，得如图5所示的上颌截图8和下
颌截图9；而扫描具有个性化磨光面的上颌终印模和具有个性化磨光面的下颌终印模时，可
以分别扫描具有个性化磨光面的上颌终印模和具有个性化磨光面的下颌终印模，得到的
STL文件也包括分别扫描得到的上颌STL文件和下颌STL文件，对上颌STL文件进行截图，得
上颌截图8，对下颌STL文件进行截图，得下颌截图9。

[0040] 从获得的STL文件上将上牙列和下牙列分离下来，如图6所示；

[0041] 用CAD/CAM的方法将分离下来的上牙列和下牙列用树脂块切削下来，如图7所示；

[0042] 如图8所示，将形成上颌终印模的旧上颌义齿包埋并成型阴模腔，然后将切削下来的与上颌终印模相对应的上牙列复位到阴模腔内，然后进行充胶注塑，完成上颌义齿的制
作；将形成下颌终印模的旧下颌义齿包埋并成型阴模腔，然后将切削下来的与下颌终印模
相对应的下牙列复位到阴模腔内然后进行充胶注塑，完成下颌义齿的制作；

[0043] 对制作完成的上颌义齿和下颌义齿进行抛光打磨，以完成复制成型好的个性化磨光面，如图9所示，实际已对制作完成的全口义齿进行了抛光打磨，已完成复制成型好的个
性化磨光面，完成完全具有个性化磨光面的全口义齿。

[0044] 本发明通过数字化扫描的方式获得通过硅橡胶直接成型的个性化磨光面的旧义齿的STL文件，再通过将该STL文件中的牙列分离并通过CAD/CAM的方式切削树脂块，从而复
制旧义齿的牙列。将旧义齿作为蜡型直接包埋并形成阴模腔，并将切削好的树脂牙列直接
复位于阴模腔内，通过充胶注塑的方式完成义齿的制作。避免了传统方式制作导板耗时耗
力的缺点，并且更加准确、简单。同时也避免了自凝树脂直接成型个性化磨光面所导致的黏
膜刺激以及流动性差导致的成型不充分的缺点。同时也准确的复制了旧义齿稳定的咬合，
减少了新义齿戴牙时调牙合的时间，并使患者能快速适应新的全口义齿。

[0045] 实施例二：

[0046] 本实施例是在实施例一基础上做出的进一步改进，本实施例与实施例一的具体区别是：

[0047] 本实施例中需要进一步明说明的是，在制取终印模之前，若旧上颌义齿和旧下颌义齿边缘较短，进行边缘整塑以延长过短的边缘，如本例中的舌侧翼缘区，避免旧下颌义齿
舌侧翼缘区太短，从而破坏患者新的全口义齿的固位效果。

[0048] 本发明针对牙槽嵴条件较差并且通过传统的方式已经制作了全口义齿的患者，可能无法达到理想的修复效果，固位与稳定可能无法满足患者的需求，针对这一种特殊情况，
可通过制作患者的个性化磨光面来增加肌肉的夹持力，从而提高义齿的固位与稳定，但传
统的制作个性化磨光面的方式繁琐且费时，若患者有旧义齿且咬合稳定，可利用旧义齿制
作个性化磨光面并通过数字化的方式复制其稳定的咬合，从而实现高效，准确获得具有个
性化磨光面且咬合稳定的全口义齿，从而达到大大提高全口义齿固位与稳定的目的。

[0049] 最后应说明的是：以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明的保护范围。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含
在本发明的保护范围之内。