一种蚀刻喷架，属于蚀刻喷架相关技术领域，所述蚀刻喷架包括基座以及通过立板固定在所述基座的上方且与之平行的横板，还包括喷头，所述喷头通过摆动机构活动设置在所述横板的下方，用于向电路基板上喷射蚀刻液，所述摆动机构用于驱动所述喷头往复摆动，在使用时，驱动机构工作，带动输送机构工作，从而输送机构对多个并列的待蚀刻电路基板进行输送，同时，驱动机构带动摆动机构运动，摆动机构驱动喷头往复性地摆动，如此一来，实现了喷架摆动式的工作方式，有效防止了板子边缘比板子中心部位蚀刻速度快的问题，提升了最终板面蚀刻的均匀性，且由于喷架工作的自动性，大大提升了蚀刻处理工作的效率。
1.一种蚀刻喷架，所述蚀刻喷架包括基座(1)以及通过立板(2)固定在所述基座(1)的上方且与之平行的横板(3)，其特征在于，还包括：喷头(4)，所述喷头(4)通过摆动机构活动设置在所述横板(3)的下方，用于向电路基板上喷射蚀刻液，所述摆动机构用于驱动所述喷头(4)往复摆动；
驱动机构，所述驱动机构安装在所述横板(3)上且与所述摆动机构连接，还与安装在所述基座(1)上的输送机构连接，所述输送机构用于对待蚀刻处理的电路基板进行输送；
所述驱动机构包括安装在所述横板(3)上的驱动装置(6)以及连接所述驱动装置(6)输出端的蜗杆(7)以及转动安装在所述横板(3)底部且与所述蜗杆(7)啮合的蜗轮(8)；
所述蜗杆(7)同所述摆动机构连接，所述蜗轮(8)同所述输送机构连接；
所述摆动机构包括安装在所述横板(3)下部的传动组件以及同所述传动组件连接用于带动所述喷头(4)摆动的往复组件，所述喷头(4)则安装在所述往复组件上；
所述横板(3)的下部固定安装有一个与之垂直的固定板(10)；
所述往复组件包括转动安装在所述固定板(10)侧部上的摆动板(17)以及转动安装在所述横板(3)的下方的圆盘(15)，所述圆盘(15)的转动轴同所述传动组件连接；
所述圆盘(15)的偏心处固定安装有一个固定柱(18)，所述固定柱(18)通过固定在所述摆动板(17)侧部上的两个限位板(16)与之配合，所述喷头(4)则设置在所述摆动板(17)的底部。
2.根据权利要求1所述的一种蚀刻喷架，其特征在于：所述摆动板(17)上开设有一个通孔，所述通孔中安装有同所述喷头(4)连接的蚀刻液输送管，所述蚀刻液输送管通过软管(19)与安装在所述横板(3)上的储液罐(5)连接，所述储液罐(5)用于盛装蚀刻液。
3.根据权利要求1所述的一种蚀刻喷架，其特征在于：所述传动组件包括转动安装在所述横板(3)上的传动轴(13)，所述传动轴(13)的一端通过锥齿轮组(14)与所述圆盘(15)转动轴的末端连接，另一端则通过齿轮组同所述蜗杆(7)连接；
所述齿轮组包括固定在所述蜗杆(7)上的第一齿轮(11)以及固定在所述传动轴(13)处于所述横板(3)上部的一端上的第二齿轮(12)，且二者相互啮合。
4.根据权利要求1所述的一种蚀刻喷架，其特征在于：所述输送机构包括转动安装在所述基座(1)上的两个驱动轮(20)以及滚动连接两个所述驱动轮(20)的传输带(21)；
其中一个所述驱动轮(20)通过传动带(9)与所述蜗轮(8)连接。
5.根据权利要求1所述的一种蚀刻喷架，其特征在于：所述立板(2)设置有四个，且两端分别通过螺栓同所述基座(1)与所述横板(3)固定。
一种蚀刻喷架
技术领域
[0001] 本发明属于蚀刻喷架相关技术领域，具体是涉及一种蚀刻喷架。
背景技术
[0002] 在电路板生产的湿制程中，需要将蚀刻液喷射在电路基板上进行蚀刻，将电路基板上不需要的铜箔去除，得到需要的电路板线路，在这一加工流程中，蚀刻喷架是必不可少的一个装置。
[0003] 现有的蚀刻喷架，设置在其上的喷头通常为固定设置，为保证蚀刻液喷射的全面性，往往需要同时设置多个喷头，如此一来，便存在不合理之处，不能有效保证蚀刻处理工作的效率
发明内容
[0004] 本发明主要是解决上述现有技术所存在的技术问题，提供一种蚀刻喷架。
[0005] 本发明的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的：一种蚀刻喷架，所述蚀刻喷架包括基座以及通过立板固定在所述基座的上方且与之平行的横板，还包括：
[0006] 喷头，所述喷头通过摆动机构活动设置在所述横板的下方，用于向电路基板上喷射蚀刻液，所述摆动机构用于驱动所述喷头往复摆动；
[0007] 驱动机构，所述驱动机构安装在所述横板上且与所述摆动机构连接，还与安装在所述基座上的输送机构连接，所述输送机构用于对待蚀刻处理的电路基板进行输送。
[0008] 作为优选，所述驱动机构包括安装在所述横板上的驱动装置以及连接所述驱动装置输出端的蜗杆以及转动安装在所述横板底部且与所述蜗杆啮合的蜗轮；
[0009] 所述蜗杆同所述摆动机构连接，所述蜗轮同所述输送机构连接。
[0010] 作为优选，所述摆动机构包括安装在所述横板下部的传动组件以及同所述传动组件连接用于带动所述喷头摆动的往复组件，所述喷头则安装在所述往复组件上。
[0011] 作为优选，所述横板的下部固定安装有一个与之垂直的固定板；
[0012] 所述往复组件包括转动安装在所述固定板侧部上的摆动板以及转动安装在所述横板的下方的圆盘，所述圆盘的转动轴同所述传动组件连接；
[0013] 所述圆盘的偏心处固定安装有一个固定柱，所述固定柱通过固定在所述摆动板侧部上的两个限位板与之配合，所述喷头则设置在所述摆动板的底部。
[0014] 作为优选，所述摆动板上开设有一个通孔，所述通孔中安装有同所述喷头连接的蚀刻液输送管，所述蚀刻液输送管通过软管与安装在所述横板上的储液罐连接，所述储液罐用于盛装蚀刻液。
[0015] 作为优选，所述传动组件包括转动安装在所述横板上的传动轴，所述传动轴的一端通
[0016] 过锥齿轮组与所述圆盘转动轴的末端连接，另一端则通过齿轮组同所述蜗杆连接；
[0017] 所述齿轮组包括固定在所述蜗杆上的第一齿轮以及固定在所述传动轴处于所述横板上部的一端上的第二齿轮，且二者相互啮合。
[0018] 作为优选，所述输送机构包括转动安装在所述基座上的两个驱动轮以及滚动连接两个所述驱动轮的传输带；
[0019] 其中一个所述驱动轮通过传动带与所述蜗轮连接。
[0020] 本发明具有的有益效果：本发明设计新颖，在使用时，所述驱动机构工作，带动输送机构工作，从而输送机构对多个并列的待蚀刻电路基板进行输送，同时，驱动机构带动摆动机构运动，摆动机构驱动喷头往复性地摆动，如此一来，实现了喷架摆动式的工作方式，有效防止了板子边缘比板子中心部位蚀刻速度快的问题，提升了最终板面蚀刻的均匀性，且由于喷架工作的自动性，大大提升了蚀刻处理工作的效率。
附图说明
[0021] 图1是本发明的一种结构示意图；
[0022] 图2是图1中A处的结构放大图；
[0023] 图3是本发明中基座、立板以及横板的连接状态示意图；
[0024] 图4是本发明中往复组件的结构示意图；
[0025] 图中：1、基座；2、立板；3、横板；4、喷头；5、储液罐；6、驱动装置；7、蜗杆；8、蜗轮；9、传动带；10、固定板；；11、第一齿轮；12、第二齿轮；13、传动轴；14、锥齿轮组；15、圆盘；16、限位板；17、摆动板；18、固定柱；19、软管；20、驱动轮；21、传输带。
具体实施方式
[0026] 下面通过实施例，并结合附图，对本发明的技术方案作进一步具体的说明。
[0027] 实施例：一种蚀刻喷架，如图1‑图4所示，所述蚀刻喷架包括基座1以及通过立板2固定在所述基座1的上方且与之平行的横板3，还包括：
[0028] 喷头4，所述喷头4通过摆动机构活动设置在所述横板3的下方，用于向电路基板上喷射蚀刻液，所述摆动机构用于驱动所述喷头4往复摆动；
[0029] 驱动机构，所述驱动机构安装在所述横板3上且与所述摆动机构连接，还与安装在所述基座1上的输送机构连接，所述输送机构用于对待蚀刻处理的电路基板进行输送。
[0030] 在本发明实施例中，在使用时，所述驱动机构工作，带动输送机构工作，从而输送机构对多个并列的待蚀刻电路基板进行输送，同时，驱动机构带动摆动机构运动，摆动机构驱动喷头4往复性地摆动，如此一来，实现了喷架摆动式的工作方式，有效防止了板子边缘比板子中心部位蚀刻速度快的问题，提升了最终板面蚀刻的均匀性，且由于喷架工作的[0031] 自动性，大大提升了蚀刻处理工作的效率。
[0032] 一种实施例，所述驱动机构包括安装在所述横板3上的驱动装置6以及连接所述驱动装置6输出端的蜗杆7以及转动安装在所述横板3底部且与所述蜗杆7啮合的蜗轮8；
[0033] 所述蜗杆7同所述摆动机构连接，所述蜗轮8同所述输送机构连接。
[0034] 在本发明实施例中，在使用时，驱动装置6工作，带动蜗杆7与蜗轮8转动，从而蜗轮8带动所述输送机构工作，对电路基板进行输送，同时，蜗杆7带动摆动机构工作，摆动机构驱动喷头4往复性地摆动，如此一来，驱动机构为喷架中各个部件的运动提供了有效动力。
[0035] 一种实施例，所述摆动机构包括安装在所述横板3下部的传动组件以及同所述传动组件连接用于带动所述喷头4摆动的往复组件，所述喷头4则安装在所述往复组件上。
[0036] 在本发明实施例中，驱动机构工作时，通过传动组件带动往复组件运动，往复组件带动喷头4往复性地摆动，如此一来，便实现了喷头4摆动式的喷射方式。
[0037] 一种实施例，所述横板3的下部固定安装有一个与之垂直的固定板10；
[0038] 所述往复组件包括转动安装在所述固定板10侧部上的摆动板17以及转动安装在所述横板3的下方的圆盘15，所述圆盘15的转动轴同所述传动组件连接；
[0039] 所述圆盘15的偏心处固定安装有一个固定柱18，所述固定柱18通过固定在所述摆动板17侧部上的两个限位板16与之配合，所述喷头4则设置在所述摆动板17的底部。
[0040] 在本发明实施例中，驱动机构工作过程中，通过传动组件带动圆盘15转动，从而固定柱18做圆周运动并通过两个所述限位板16与所述摆动板17配合，使得摆动板17带动喷头4往复性地摆动。
[0041] 一种实施例，所述摆动板17上开设有一个通孔，所述通孔中安装有同所述喷头4连接的蚀刻液输送管，所述蚀刻液输送管通过软管19与安装在所述横板3上的储液罐5连接，所述储液罐5用于盛装蚀刻液。
[0042] 在本发明实施例中，所述储液罐5中还设置有增压装置，用于将其中的蚀刻液通过软管19和喷头4泵出，保证了蚀刻液喷射的压力。
[0043] 一种实施例，所述传动组件包括转动安装在所述横板3上的传动轴13，所述传动轴13的一端通过锥齿轮组14与所述圆盘15转动轴的末端连接，另一端则通过齿轮组同所述蜗杆7连接；
[0044] 所述齿轮组包括固定在所述蜗杆7上的第一齿轮11以及固定在所述传动轴13处于所述横板3上部的一端上的第二齿轮12，且二者相互啮合。
[0045] 详细地说，上述所述的锥齿轮组11包括固定安装在所述传动轴13处于所述横板3下部的一端上的第一锥齿轮和固定在所述圆盘15转动轴末端上的第二锥齿轮，且所述第一[0046] 锥齿轮与所述第二锥齿轮啮合。
[0047] 在本发明实施例中，驱动组件工作时，蜗杆7带动第一齿轮11与第二齿轮12转动，从而传动轴13通过锥齿轮组14带动圆盘15转动，使得喷头4往复性地摆动，如此一来，对往复组件起到了有效的传动功能，保证了喷架中各个部件运动的同步性。
[0048] 一种实施例，所述输送机构包括转动安装在所述基座1上的两个驱动轮20以及滚动连接两个所述驱动轮20的传输带21；
[0049] 其中一个所述驱动轮20通过传动带9与所述蜗轮8连接。
[0050] 在本发明实施例中，在使用时，电路基板并列地排布在传输带21上，驱动组件工作，蜗轮8通过传动带9带动驱动轮20转动，从而使得传输带21将电路基板连续性地输送至所述喷头4的下方。
[0051] 一种实施例，所述立板2设置有四个，且两端分别通过螺栓同所述基座1与所述横板3固定。
[0052] 在本发明实施例中，四个所述立板2的设置，对所述横板3及安装在所述横板3的部件起到了稳定支撑的功能，保证了喷架整体架构的稳固性。
[0053] 本发明的原理：驱动装置6工作，蜗轮8带动传输带21对并列排布的多个电路基板进行输送，同时，圆盘15带动固定柱18做圆周运动，使其通过两个限位板16与摆动板17配合，摆动板17带动喷头4往复性地来回摆动，实现了喷架摆动式的工作方式，有效提升最终板面蚀刻的均匀性。
[0054] 最后，应当指出，以上实施例仅是本发明较有代表性的例子。显然，本发明不限于上述实施例，还可以有许多变形。凡是依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均应认为属于本发明的保护范围。
