一种可余辉光监测缓释抗菌的锗酸锌基质纳米材料及其制备方法转让专利
申请号 : CN202110633407.8
文献号 : CN113425684B
文献日 : 2022-08-09
发明人 : 陈丽建 , 严秀平 , 龚嘉华 , 王江悦 , 刘瑶瑶
摘要 :
本发明公开了一种可余辉光监测缓释抗菌的锗酸锌基质纳米材料及其制备方法,属于抗菌纳米材料制备领域。本发明所述锗酸锌基质抗菌纳米材料的化学组成通式为Zn2GeO4:xM,0.001≤x≤0.02,其中,Zn2GeO4为基质,M为具有抗菌作用的金属离子。本发明中的锗酸锌基质抗菌纳米材料经水热法合成,制备简单,成本低,可用于工业化生产;材料在细菌感染部位具有优异的广谱抗菌性能,金属离子缓释可以长期维持较高的抗菌浓度,抗菌周期长,诱导细菌产生耐药性的可能性极小;在细菌感染部位微酸性环境中,材料的余辉光强度随着材料的降解变化,利用其余辉光强度变化可以实现感染部位抗菌过程的实时监测。