旋转烘焙监控系统、方法、装置及计算机可读存储介质

摘要

本发明实施例公开了一种旋转烘焙监控系统、方法、装置及计算机可读存储介质，所述旋转烘焙监控系统包括处理器、变频器、第一浸渍漆传感器和第二浸渍漆传感器，所述处理器与所述变频器连接，所述处理器分别与所述第一浸渍漆传感器和所述第二浸渍漆传感器通信连接，所述第一浸渍漆传感器用于设置在旋转烘焙设备的侧面平台，所述第二浸渍漆传感器用于设置在旋转烘焙设备的底部平台，所述变频器还用于与所述旋转烘焙设备的旋转机构连接，通过第一浸渍漆传感器和第二浸渍漆传感器的实时监测旋转烘焙设备侧面平台和底部平台，通过处理器和变频器实时调整旋转烘焙设备的旋转机构的旋转速度，从而大大优化了对工件绝缘处理的效果。

权利要求

1.一种旋转烘焙监控系统，其特征在于，应用于旋转烘焙设备，所述系统包括：处理器、变频器、第一浸渍漆传感器和第二浸渍漆传感器；

所述处理器与所述变频器连接，所述处理器分别与所述第一浸渍漆传感器和所述第二浸渍漆传感器通信连接；

所述第一浸渍漆传感器用于设置在所述旋转烘焙设备的侧面平台，所述第二浸渍漆传感器用于设置在所述旋转烘焙设备的底部平台，所述第一浸渍漆传感器用于感应掉落在所述侧面平台的浸渍漆量，所述第二浸渍漆传感器用于感应掉落在所述底部平台的浸渍漆量；

所述变频器还用于与所述旋转烘焙设备的旋转机构连接；

所述处理器用于在所述旋转烘焙设备工作时，持续监听所述第一浸渍漆传感器和/或所述第二浸渍漆传感器返回的浸渍漆感应信号，按照预设规则、所述浸渍漆感应信号和所述旋转烘焙设备的当前频率，计算调整频率，将所述调整频率发送至所述变频器，以使所述变频器根据所述调整频率调整所述旋转烘焙设备的旋转机构的转速；

所述处理器按照预设规则、所述浸渍漆感应信号和所述旋转烘焙设备的当前频率，计算调整频率的步骤，包括：

若所述浸渍漆感应信号为第一感应信号，将所述旋转烘焙设备的当前频率减少预设数值后得到所述调整频率，其中，所述第一感应信号为所述第一浸渍漆传感器感应掉落在所述侧面平台的浸渍漆量增加时发送的信号；

若所述浸渍漆感应信号为第二感应信号且无第一感应信号，将所述旋转烘焙设备的当前频率增加预设数值后得到所述调整频率，其中，所述第二感应信号为所述第二浸渍漆传感器感应掉落在所述底部平台的浸渍漆量增加时发送的信号；

若未监听到任一浸渍漆感应信号，则将所述旋转烘焙设备的当前频率直接作为所述调整频率。

2.一种旋转烘焙监控方法，其特征在于，应用于权利要求1所述旋转烘焙监控系统的处理器，所述方法包括：

在所述旋转烘焙设备工作时，持续监听所述第一浸渍漆传感器和/或所述第二浸渍漆传感器返回的浸渍漆感应信号；

按照预设规则、所述浸渍漆感应信号和所述旋转烘焙设备的当前频率，计算调整频率；

将所述调整频率发送至所述变频器，以使所述变频器根据所述调整频率调整所述旋转烘焙设备的旋转机构的转速；

所述按照预设规则、所述浸渍漆感应信号和所述旋转烘焙设备的当前频率，计算调整频率的步骤，包括：

若所述浸渍漆感应信号为第一感应信号，将所述旋转烘焙设备的当前频率减少预设数值后得到所述调整频率，其中，所述第一感应信号为所述第一浸渍漆传感器感应掉落在所述侧面平台的浸渍漆量增加时发送的信号；

若所述浸渍漆感应信号为第二感应信号且无第一感应信号，将所述旋转烘焙设备的当前频率增加预设数值后得到所述调整频率，其中，所述第二感应信号为所述第二浸渍漆传感器感应掉落在所述底部平台的浸渍漆量增加时发送的信号；

若未监听到任一浸渍漆感应信号，则将所述旋转烘焙设备的当前频率直接作为所述调整频率。

3.根据权利要求2中所述的方法，其特征在于，所述按照预设规则、所述浸渍漆感应信号和所述旋转烘焙设备的当前频率，计算调整频率的步骤，还包括：若预定次数地交替接收到所述第一感应信号，减小所述预设数值；

若持续预设时间接收到所述第二感应信号，增大所述预设数值。

4.根据权利要求2中所述的方法，其特征在于，所述旋转烘焙设备的传动机构上设置有待监测工件，在所述持续监听所述第一浸渍漆传感器和/或所述第二浸渍漆传感器采集的浸渍漆感应信号的步骤之前，所述方法还包括：获取所述待监测工件的半径；

根据所述半径和预设初始频率计算公式计算初始频率；

将所述初始频率发送至所述变频器，以使所述变频器输出初始频率至所述旋转烘焙设备；

所述预设初始频率计算公式为：其中， 为初始频率， 为参考频率， 为参考工件半径， 为待监测工件的半径，所述参考频率 和所述参考工件半径 为预先设定的固定值。

5.一种旋转烘焙监控装置，其特征在于，应用于权利要求1所述旋转烘焙监控系统的处理器，所述装置包括：

监听模块，用于在所述旋转烘焙设备工作时，持续监听所述第一浸渍漆传感器和/或所述第二浸渍漆传感器返回的浸渍漆感应信号；

计算模块，用于按照预设规则、所述浸渍漆感应信号和所述旋转烘焙设备的当前频率，计算调整频率；

调整模块，用于将所述调整频率发送至所述变频器，以使所述变频器根据所述调整频率调整所述旋转烘焙设备的工作频率；

所述调整模块具体用于：

若所述浸渍漆感应信号为第一感应信号，将所述旋转烘焙设备的当前频率减少预设数值后得到所述调整频率，其中，所述第一感应信号为所述第一浸渍漆传感器感应掉落在所述侧面平台的浸渍漆量时发送的信号；

若所述浸渍漆感应信号为第二感应信号且无第一感应信号，将所述旋转烘焙设备的当前频率增加预设数值后得到所述调整频率，其中，所述第二感应信号为所述第二浸渍漆传感器感应掉落在所述底部平台的浸渍漆量时发送的信号；

若未监听到任一浸渍漆感应信号，则将所述旋转烘焙设备的当前频率直接作为所述调整频率。

6.根据权利要求5所述的装置，其特征在于，所述旋转烘焙设备的传动机构上设置有待监测工件，所述装置还包括：

初始计算模块，用于获取所述待监测工件的半径；

根据所述半径和预设初始频率计算公式计算初始频率；

将所述初始频率发送至所述变频器，以使所述变频器输出初始频率至所述旋转烘焙设备；

所述预设初始频率计算公式为：其中， 为初始频率， 为参考频率， 为参考工件半径， 为待监测工件的半径，所述参考频率 和所述参考工件半径 为预先设定的固定值。

7.一种旋转烘焙设备，其特征在于，包括如权利要求1所述的旋转烘焙监控系统。

8.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质中存储有计算机程序，所述计算机程序在处理器上运行时执行权利要求2‑4中任一项旋转烘焙监控方法。

说明书

旋转烘焙监控系统、方法、装置及计算机可读存储介质

技术领域

[0001] 本发明涉及电机部件烘焙技术领域，尤其涉及一种旋转烘焙监控系统、方法、装置及计算机可读存储介质。

背景技术

[0002] 烘焙是电机定、转子绝缘处理中的一道工序，在浸漆后将定、转子工件放入烘箱加热，以实现浸渍漆烘干固化。传统的烘焙工艺是将工件静置于烘箱内直接烘焙，由于工件刚
进烘箱时温度较低，在温度升至浸渍漆固化温度前浸渍漆呈液态，在重力作用下浸渍漆会
往工件下方流淌并滴落，造成浸渍漆流失，降低了绝缘处理质量。流失的浸渍漆滴落至烘箱
台面，造成工件挂漆量低和浸渍漆浪费的不良影响。此外，由于烘箱内部上下存在温差，导
致静置烘焙的工件受热不均。

[0003] 解决这一问题最有效的方法就是旋转烘焙，即工件在烘箱内加热烘焙的同时以一定的转速旋转，使固化前的液态浸渍漆沿工件表面均匀流淌而不至于滴落流失。实现旋转
烘焙的技术方案是在普通烘箱上增加旋转机构和传动机构，旋转机构由变频器和变频电机
组成，传动机构由减速器和传动轴等组成。

[0004] 现有旋转烘焙技术的旋转转速只能通过人为更改变频器的频率参数实现。由于不同直径尺寸的工件、不同粘度的浸渍漆其对应的最佳旋转转速不同：转速过低浸渍漆会流
淌滴落，转速过高浸渍漆会甩飞。因此，现有的旋转烘焙技术在实际操作时需要反复调整频
率以确定最佳转速，转速确定方案的操作较为复杂、准确性较差。

发明内容

[0005] 为了解决上述技术问题，本公开实施例提出了一种旋转烘焙监控系统、方法、装置及计算机可读存储介质，具体方案如下：

[0006] 第一方面，本公开实施例提供了一种旋转烘焙监控系统，应用于旋转烘焙设备，所述系统包括：处理器、变频器、第一浸渍漆传感器和第二浸渍漆传感器；

[0007] 所述处理器与所述变频器连接，所述处理器分别与所述第一浸渍漆传感器和所述第二浸渍漆传感器通信连接；

[0008] 所述第一浸渍漆传感器用于设置在所述旋转烘焙设备的侧面平台，所述第二浸渍漆传感器用于设置在所述旋转烘焙设备的底部平台，所述第一浸渍漆传感器用于感应掉落
在所述侧面平台的浸渍漆量，所述第二浸渍漆传感器用于感应掉落在所述底部平台的浸渍
漆量；

[0009] 所述变频器还用于与所述旋转烘焙设备的旋转机构连接；

[0010] 所述处理器用于在所述旋转烘焙设备工作时，持续监听所述第一浸渍漆传感器和/或所述第二浸渍漆传感器返回的浸渍漆感应信号，按照预设规则、所述浸渍漆感应信号
和所述旋转烘焙设备的当前频率，计算调整频率，将所述调整频率发送至所述变频器，以使
所述变频器根据所述调整频率调整所述旋转烘焙设备的旋转机构的转速。

[0011] 第二方面，本公开实施例还提供了一种旋转烘焙监控方法，应用于第一方面所述旋转烘焙监控系统的处理器，所述方法包括：

[0012] 在所述旋转烘焙设备工作时，持续监听所述第一浸渍漆传感器和/或所述第二浸渍漆传感器返回的浸渍漆感应信号；

[0013] 按照预设规则、所述浸渍漆感应信号和所述旋转烘焙设备的当前频率，计算调整频率；

[0014] 将所述调整频率发送至所述变频器，以使所述变频器根据所述调整频率调整所述旋转烘焙设备的旋转机构的转速。

[0015] 根据本公开实施例的一种具体实施方式，所述按照预设规则、所述浸渍漆感应信号和所述旋转烘焙设备的当前频率，计算调整频率的步骤，包括：

[0016] 若所述浸渍漆感应信号为第一感应信号，将所述旋转烘焙设备的当前频率减少预设数值后得到所述调整频率，其中，所述第一感应信号为所述第一浸渍漆传感器感应掉落
在所述侧面平台的浸渍漆量增加时发送的信号；

[0017] 若所述浸渍漆感应信号为第二感应信号且无第一感应信号，将所述旋转烘焙设备的当前频率增加预设数值后得到所述调整频率，其中，所述第二感应信号为所述第二浸渍
漆传感器感应掉落在所述底部平台的浸渍漆量增加时发送的信号；

[0018] 若未监听到任一浸渍漆感应信号，则将所述旋转烘焙设备的当前频率直接作为所述调整频率。

[0019] 根据本公开实施例的一种具体实施方式，所述所述按照预设规则、所述浸渍漆感应信号和所述旋转烘焙设备的当前频率，计算调整频率的步骤，还包括：

[0020] 若预定次数地交替接收到所述第一感应信号，减小所述预设数值；

[0021] 若持续预设时间接收到所述第二感应信号，增大所述预设数值。

[0022] 根据本公开实施例的一种具体实施方式，所述旋转烘焙设备的传动机构上设置有待监测工件，在所述持续监听所述第一浸渍漆传感器和/或所述第二浸渍漆传感器采集的
浸渍漆感应信号的步骤之前，所述方法还包括：

[0023] 获取所述待监测工件的半径；

[0024] 根据所述半径和预设初始频率计算公式计算初始频率；

[0025] 将所述初始频率发送至所述变频器，以使所述变频器输出初始频率至所述旋转烘焙设备；

[0026] 所述预设初始频率计算公式为：

[0027]

[0028] 其中， 为初始频率， 为参考频率， 为参考工件半径， 为待监测工件的半径，所述参考频率 和所述参考工件半径 为预先设定的固定值。

[0029] 第三方面，本公开实施例还提供了一种旋转烘焙监控装置，应用于第一方面所述旋转烘焙监控系统的处理器，所述装置包括：

[0030] 监听模块，用于在所述旋转烘焙设备工作时，持续监听所述第一浸渍漆传感器和/或所述第二浸渍漆传感器返回的浸渍漆感应信号；

[0031] 计算模块，用于按照预设规则、所述浸渍漆感应信号和所述旋转烘焙设备的当前频率，计算调整频率；

[0032] 调整模块，用于将所述调整频率发送至所述变频器，以使所述变频器根据所述调整频率调整所述旋转烘焙设备的工作频率。

[0033] 根据本公开实施例的一种具体实施方式，所述调整模块具体用于：

[0034] 若所述浸渍漆感应信号为第一感应信号，将所述旋转烘焙设备的当前频率减少预设数值后得到所述调整频率，其中，所述第一感应信号为所述第一浸渍漆传感器感应掉落
在所述侧面平台的浸渍漆量时发送的信号；

[0035] 若所述浸渍漆感应信号为第二感应信号，将所述旋转烘焙设备的当前频率增加预设数值后得到所述调整频率，其中，所述第二感应信号为所述第二浸渍漆传感器感应掉落
在所述底部平台的浸渍漆量时发送的信号；

[0036] 若未监听到任一浸渍漆感应信号，则将所述旋转烘焙设备的当前频率直接作为所述调整频率。

[0037] 根据本公开实施例的一种具体实施方式，所述旋转烘焙设备的传动机构上设置有待监测工件，所述装置还包括：

[0038] 初始计算模块，用于获取所述待监测工件的半径；

[0039] 根据所述半径和预设初始频率计算公式计算初始频率；

[0040] 将所述初始频率发送至所述变频器，以使所述变频器输出初始频率至所述旋转烘焙设备；

[0041] 所述预设初始频率计算公式为：

[0042]

[0043] 其中， 为初始频率， 为参考频率， 为参考工件半径， 为待监测工件的半径，所述参考频率 和所述参考工件半径 为预先设定的固定值。

[0044] 第四方面，本公开实施例还提供了一种旋转烘焙设备，包括如第一方面所述的旋转烘焙监控系统。

[0045] 第五方面，本公开实施例还提供了一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质中存储有计算机程序，所述计算机程序在处理器上运行 时执行第二方面中的旋转
烘焙监控方法。

[0046] 本公开实施例提供了一种旋转烘焙监控系统、方法、装置及计算机可读存储介质，所述旋转烘焙监控系统包括处理器、变频器、第一浸渍漆传感器和第二浸渍漆传感器，所述
处理器与所述变频器连接，所述处理器分别与所述第一浸渍漆传感器和所述第二浸渍漆传
感器通信连接，所述第一浸渍漆传感器用于设置在旋转烘焙设备的侧面平台，所述第二浸
渍漆传感器用于设置在旋转烘焙设备的底部平台，所述变频器还用于与所述旋转烘焙设备
的旋转机构连接，通过第一浸渍漆传感器和第二浸渍漆传感器的实时监测旋转烘焙设备侧
面平台和底部平台，通过处理器和变频器实时调整旋转烘焙设备的旋转机构的旋转速度，
从而大大优化了对工件绝缘处理的效果。

附图说明

[0047] 为了更清楚地说明本发明的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本发明的某些实施例，因此不应被看作是对本发明
保护范围的限定。在各个附图中，类似的构成部分采用类似的编号。

[0048] 图1示出了本公开实施例提供的一种旋转烘焙监控系统的系统结构示意图；

[0049] 图2示出了本公开实施例提供的一种旋转烘焙监控方法的方法流程示意图；

[0050] 图3示出了本公开实施例提供的一种旋转烘焙监控装置的装置模块示意图。

[0051] 附图标记汇总：处理器‑110；变频器‑120；第一浸渍漆传感器‑130；第二浸渍漆传感器‑140；待监测工件‑150；

[0052] 旋转烘焙监控装置‑300；监听模块‑301；计算模块‑302；调整模块‑303。

具体实施方式

[0053] 下面将结合本发明实施例中附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。

[0054] 通常在此处附图中描述和示出的本发明实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此，以下对在附图中提供的本发明的实施例的详细描述并非旨在限制要求
保护的本发明的范围，而是仅仅表示本发明的选定实施例。基于本发明的实施例，本领域技
术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范
围。

[0055] 在下文中，可在本发明的各种实施例中使用的术语“包括”、“具有”及其同源词仅意在表示特定特征、数字、步骤、操作、元件、组件或前述项的组合，并且不应被理解为首先
排除一个或更多个其它特征、数字、步骤、操作、元件、组件或前述项的组合的存在或增加一
个或更多个特征、数字、步骤、操作、元件、组件或前述项的组合的可能性。

[0056] 此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

[0057] 除非另有限定，否则在这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本发明的各种实施例所属领域普通技术人员通常理解的含义相同的含义。所述术语(诸如在
一般使用的词典中限定的术语)将被解释为具有与在相关技术领域中的语境含义相同的含
义并且将不被解释为具有理想化的含义或过于正式的含义，除非在本发明的各种实施例中
被清楚地限定。

[0058] 本申请中所述烘焙是指电机定、转子绝缘处理中的一道工序，在浸漆后将定、转子工件放入烘箱加热，以实现浸渍漆烘干固化。传统的烘焙工艺是将工件静置于烘箱内直接
烘焙，由于工件刚进烘箱时温度较低，在温度升至浸渍漆固化温度前浸渍漆呈液态，在重力
作用下浸渍漆会往工件下方流淌并滴落，造成浸渍漆流失，降低了绝缘处理质量。这种情况
对于低压散嵌定子更显著，定子绕组漆包线之间有明显空隙且端部绕组外表面无绝缘层，
浸渍漆的吸附性不佳导致更容易造成流失。最终烘焙固化后的工件上方挂漆量明显低于下
方，下方则有柱状漆瘤。流失的浸渍漆滴落至烘箱台面，造成工件挂漆量低和浸渍漆浪费的
不良影响。此外，由于烘箱内部上下存在温差，导致静置烘焙的工件受热不均。

[0059] 解决这一问题最有效的方法就是旋转烘焙，即工件在烘箱内加热烘焙的同时以一定的转速旋转，使固化前的液态浸渍漆沿工件表面均匀流淌而不至于滴落流失。实现旋转
烘焙的技术方案是在普通烘箱上增加旋转机构和传动机构，旋转机构由变频器和变频电机
组成，传动机构由减速器和传动轴等组成。

[0060] 参考图1，为本公开实施例提供的一种旋转烘焙监控系统，应用于旋转烘焙设备。如图1所示，所述旋转烘焙监控系统包括：处理器110、变频器120、第一浸渍漆传感器130和
第二浸渍漆传感器140；

[0061] 所述处理器110与所述变频器120连接，所述处理器110分别与所述第一浸渍漆传感器130和所述第二浸渍漆传感器140通信连接；

[0062] 所述第一浸渍漆传感器130用于设置在所述旋转烘焙设备的侧面平台，所述第二浸渍漆传感器140用于设置在所述旋转烘焙设备的底部平台，所述第一浸渍漆传感器130用
于感应掉落在所述侧面平台的浸渍漆量，所述第二浸渍漆传感器140用于感应掉落在所述
底部平台的浸渍漆量；

[0063] 所述变频器120还用于与所述旋转烘焙设备连接；

[0064] 所述处理器110用于在所述旋转烘焙设备工作时，持续监听所述第一浸渍漆传感器130和/或所述第二浸渍漆传感器140返回的浸渍漆感应信号，按照预设规则、所述浸渍漆
感应信号和所述变频器120的当前频率，计算调整频率，将所述调整频率发送至所述变频器
120，以使所述变频器120根据所述调整频率调整所述旋转烘焙设备的旋转机构的转速。

[0065] 本实施例所提供的旋转烘焙监控系统设置于旋转烘焙设备，用于监控和旋转烘焙设备的工作频率，调整转速。

[0066] 具体的，旋转烘焙监控系统包括主要控制功能的处理器110，以及功能器件变频器120，和数据采集器件即第一浸渍漆传感器130和第二浸渍漆传感器140。所述旋转烘焙设备
包括底部平台、侧面平台、旋转机构和传动机构。在装配时，通过变频器120驱动所述旋转机
构中的变频电机，以使得传动机构开始动作，旋转机构开始旋转。将待监测工件150放置于
所述传动机构之上，则可以开始旋转烘焙所述待监测工件150。

[0067] 具体的，所述第一浸渍漆传感器130和所述第二浸渍漆传感器140可以为液位传感器或高精度且耐高温的质量传感器，优选的，本实施例中的第一浸渍漆传感器130和所述第
二浸渍漆传感器140为液位传感器。所述液位传感器能够精确感应到滴落在所述底部平台
和甩飞到所述侧面平台的浸渍漆的增加量。

[0068] 所述第一浸渍漆传感器130设置在所述旋转烘焙设备的侧面平台，具体可以根据实际使用情况以及工件的具体形状设置在所述旋转烘焙设备的左侧、右侧或两侧，此处不
作具体限定。

[0069] 所述处理器110与所述变频器120连接，具体的，所述处理器110可以集成在所述变频器120中，也可以为独立于变频器120之外的中控设备。

[0070] 所述处理器110分别与所述第一浸渍漆传感器130和所述第二浸渍漆传感器140连接，具体的，所述第一浸渍漆传感器130和所述第二浸渍漆传感器140可以直接通过信号传
输线与所述处理器110通信连接，也可以通过上位机与所述处理器110建立通讯。

[0071] 在所述旋转烘焙设备开始工作时，所述处理器110持续监听所述第一浸渍漆传感器130和所述第二浸渍漆传感器140返回的浸渍漆感应信号，并根据所述浸渍漆感应信号、
预设规则和所述旋转烘焙设备的当前频率，对所述变频器120的工作频率进行实时调整，以
使得变频器120将工作频率通过驱动信号线传输至所述旋转烘焙设备的旋转机构，以驱动
所述旋转机构进行旋转。

[0072] 当所述变频器120的工作频率过高，所述旋转机构的转速过快，则会造成待监测工件150上的浸渍漆被甩飞到所述侧面平台上，所述第一浸渍漆传感器130则返回对应的浸渍
漆感应信号，以降低所述变频器120的工作频率。

[0073] 当所述变频器120的工作频率过低，所述旋转机构的转速过慢，则会造成待监测工件150上的浸渍漆滴落到所述底部平台上，所述第二浸渍漆传感器140则返回对应的浸渍漆
感应信号，以增加所述变频器120的工作频率。

[0074] 通过在所述旋转烘焙设备上增设所述旋转烘焙监控系统，从而能够实时根据待监测工件的浸渍漆流失情况调整进行旋转烘焙的工作频率，使得所述旋转烘焙设备持续以最
佳速度运行，将浸渍漆的流失量降到最低，大大提高了工件绝缘处理效果。

[0075] 参考图2，本公开实施例还提供了一种旋转烘焙监控方法，应用于上述实施例中的所述旋转烘焙监控系统的处理器110。如图2所示，所述旋转烘焙监控方法包括：

[0076] S201，在所述旋转烘焙设备工作时，持续监听所述第一浸渍漆传感器130和/或所述第二浸渍漆传感器140返回的浸渍漆感应信号；

[0077] S202，按照预设规则、所述浸渍漆感应信号和所述旋转烘焙设备的当前频率，计算调整频率；

[0078] S203，将所述调整频率发送至所述变频器120，以使所述变频器120根据所述调整频率调整所述旋转烘焙设备的旋转机构的转速。

[0079] 具体方法流程可以参考上述对旋转烘焙监控系统的传感器的描述，此处不再赘述。

[0080] 根据本公开实施例的一种具体实施方式，待监测工件150用于放置在所述旋转烘焙设备的传动机构上，在所述持续监听所述第一浸渍漆传感器130和/或所述第二浸渍漆传
感器140采集的浸渍漆感应信号的步骤之前，所述方法还包括：

[0081] 获取所述待监测工件150的半径；

[0082] 根据所述半径和预设初始频率计算公式计算初始频率；

[0083] 将所述初始频率发送至所述变频器120，以使所述变频器120输出初始频率至所述旋转烘焙设备；

[0084] 所述预设初始频率计算公式为：

[0085]

[0086] 其中， 为初始频率， 为参考频率， 为参考工件半径， 为待监测工件150的半径，所述参考频率 和所述参考工件半径 为预先设定的固定值。

[0087] 在具体实施时，所述待监测工件150可以为在电机定子、转子绝缘处理中的常用工件，此处不作限定。

[0088] 所述处理器110可以通过接收用户在上位机上输入的数据以获取待监测工件150的半径参数，或是通过光学器件自动识别待监测工件150的半径参数，此处不作具体限定。

[0089] 在进行旋转烘焙转速监控前，应该计算出驱动所述转动烘焙设备的初始频率，并将所述初始频率发送至所述变频器120，所述变频器120输出所述初始频率至所述旋转烘焙
设备，以驱动所述旋转烘焙开始运行。

[0090] 上述参考频率和参考工件半径可以根据工件的类型进行提前设置，此处不作具体限定。

[0091] 举例来说，A型号电机定子外半径R=110mm，经工艺试验和长期生产验证得到最佳变频器输出频率f=20Hz。将上述A型号电机定子外半径R及其对应的变频器输出频率f作为
“参考工件半径”和“参考频率”。

[0092] 新产品B型号电机定子外半径160mm，在上位机的“外半径”参数中输入160后，所述处理器110从上位机获取该待监测工件半径参数并根据“预设初始频率计算公式”计算得到
初始频率为17Hz，并将初始频率参数发送给变频器，从而完成了驱动所述旋转机构开始旋
转的初始频率。

[0093] 因为浸渍漆被甩飞的临界点的附着力=离心力，因离心力 ，故初始角速度 ，又因频率f 角速度 ，所以预设的频率计算公式为
。

[0094] 通过预设的初始频率计算公式能够得到距离所述旋转烘焙设备最佳频率区间最接近的初始频率。

[0095] 根据本公开实施例的一种具体实施方式，所述按照预设规则、所述浸渍漆感应信号和所述旋转烘焙设备的当前频率，计算调整频率的步骤，包括：

[0096] 若所述浸渍漆感应信号为第一感应信号，将所述旋转烘焙设备的当前频率减少预设数值后得到所述调整频率，其中，所述第一感应信号为所述第一浸渍漆传感器130感应掉
落在所述侧面平台的浸渍漆量增加时发送的信号；

[0097] 若所述浸渍漆感应信号为第二感应信号且无第一感应信号，将所述旋转烘焙设备的当前频率增加预设数值后得到所述调整频率，其中，所述第二感应信号为所述第二浸渍
漆传感器140感应掉落在所述底部平台的浸渍漆量增加时发送的信号；

[0098] 若未监听到任一浸渍漆感应信号，则将所述旋转烘焙设备的当前频率直接作为所述调整频率。

[0099] 在具体实施例中，若所述浸渍漆感应信号为第一感应信号，则说明在所述旋转烘焙设备的侧面平台感应到浸渍漆量的增加，此时表示所述旋转烘焙设备的旋转机构转速过
快，使得所述待监测工件150上的浸渍漆被甩飞到所述侧面平台，因此，若所述浸渍漆感应
信号为第一感应信号时，所述处理器110会得到减少所述旋转烘焙设备的当前频率预设数
值的调整频率。

[0100] 值得注意的是，若所述浸渍漆感应信号为第一感应信号，所述处理器110同时还会接收到第二感应信号。即当所述处理器110同时监听到所述第一感应信号和所述第二感应
信号时，所述处理器110将所述旋转烘焙设备的当前频率减少预设数值后得到所述调整频
率。

[0101] 若所述浸渍漆感应信号为第二感应信号且无第一感应信号，则说明在所述旋转烘焙设备的底部平台感应到浸渍漆量的增加，此时表示所述旋转烘焙设备的旋转机构转速过
慢，使得所述待监测工件150上的浸渍漆低落到所述底部平台。若所述浸渍漆感应信号为第
二感应信号时，所述处理器110会得到增加所述旋转烘焙设备的当前频率预设数值的调整
频率。

[0102] 其中，所述预设数值可以根据浸渍漆的类型进行确定，不同类型的浸渍漆对应不同的密度和粘度，导致从工件表面甩飞和滴落的难易程度不同，此处不对预设数值作具体
限定。

[0103] 若并未监听到任一浸渍漆感应信号，则说明此时所述旋转烘焙设备正处于最佳转速区间，所述处理器110直接将所述旋转烘焙设备的当前频率直接作为调整频率。

[0104] 通过上述判定规则，能够有效将所述旋转烘焙设备的旋转机构的转速调整至最佳速度区间运行，从而有效减少浸渍漆的流失量。

[0105] 根据本公开实施例的一种具体实施方式，所述按照预设规则、所述浸渍漆感应信号和所述旋转烘焙设备的当前频率，计算调整频率的步骤，还包括：

[0106] 若预定次数地交替接收到所述第一感应信号，减小所述预设数值；

[0107] 若持续预设时间接收到所述第二感应信号，增大所述预设数值。

[0108] 在具体实施中，可以针对浸渍漆的滴落难易程度分别限定。

[0109] 第一种情况，如果浸渍漆较容易从待监测工件150表面甩飞和滴落，则保持浸渍漆附着在所述待监测工件的旋转烘焙设备的最佳转速和最佳频率的范围区间较小，此时可以
将用于调整频率的增大或减少的预设数值减少，以使得频率和转速的切换变得缓慢，避免
因频率调整过快，直接从一种不佳状态反向超调至另一种不佳状态，而跳过最佳频率区间，
也即所述传感器预定次数地交替接收到所述第一感应信号时，减少所述预设数值，通过上
述步骤可以使得所述浸渍漆更稳定的附在所述待监测工件150上。

[0110] 第二种情况，浸渍漆较难以从工件表面甩飞和滴落，则最佳转速和最佳频率的范围区间较大，此时可以将用于调整频率的增大或减少的预设数值增大，以使得频率和转速
的切换变快，从而可以更快的改善所述处理器110持续感应到所述第二感应信号的情况。

[0111] 通过上述判定逻辑，能够有效规避因为频率变化值过大或过低造成的频率调整问题，从而能够更好的将所述旋转烘焙设备的旋转机构的转速调整至最佳转速区间。

[0112] 参考图3，本公开实施例还提供了一种旋转烘焙监控装置300，应用于上述实施例所述的旋转烘焙监控系统的处理器110，所述旋转烘焙监控装置300包括：

[0113] 监听模块301，用于在所述旋转烘焙设备工作时，持续监听所述第一浸渍漆传感器130和/或所述第二浸渍漆传感器140返回的浸渍漆感应信号；

[0114] 计算模块302，用于按照预设规则、所述浸渍漆感应信号和所述旋转烘焙设备的当前频率，计算调整频率；

[0115] 调整模块303，用于将所述调整频率发送至所述变频器120，以使所述变频器120根据所述调整频率调整所述旋转烘焙设备的工作频率。

[0116] 根据本公开实施例的一种具体实施方式，所述调整模块303，具体用于若所述浸渍漆感应信号为第一感应信号，将所述旋转烘焙设备的当前频率减少预设数值后得到所述调
整频率，其中，所述第一感应信号为所述第一浸渍漆传感器130感应掉落在所述侧面平台的
浸渍漆量时发送的信号；

[0117] 若所述浸渍漆感应信号为第二感应信号且无第一感应信号，将所述旋转烘焙设备的当前频率增加预设数值后得到所述调整频率，其中，所述第二感应信号为所述第二浸渍
漆传感器140感应掉落在所述底部平台的浸渍漆量时发送的信号；

[0118] 若未监听到任一浸渍漆感应信号，则将所述旋转烘焙设备的当前频率直接作为所述调整频率。

[0119] 根据本公开实施例的一种具体实施方式，所述旋转烘焙设备的传动机构上设置有待监测工件，所述装置还包括：

[0120] 初始计算模块，用于获取所述待监测工件的半径；

[0121] 根据所述半径和预设初始频率计算公式计算初始频率；

[0122] 将所述初始频率发送至所述变频器，以使所述变频器输出初始频率至所述旋转烘焙设备；

[0123] 所述预设初始频率计算公式为：

[0124]

[0125] 其中， 为初始频率， 为参考频率， 为参考工件半径， 为待监测工件的半径，所述参考频率 和所述参考工件半径 为预先设定的固定值。

[0126] 另外，本公开实施例还提供了一种旋转烘焙设备，包括上述实施例中所述的旋转烘焙监控系统。

[0127] 本公开实施例还提供了一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质中存储有计算机程序，所述计算机程序在处理器上运行时执行上述实施例中的旋转烘焙监控方
法。

[0128] 综上所述，本公开实施例提供了一种旋转烘焙监控系统、方法、装置及计算机可读存储介质，本公开实施例在不需更改烘箱和传动部件等机械结构的前提下，仅通过增加浸
渍漆感应器和信号传输线即可实现工件旋转自动调速，以保证整个旋转烘焙过程中始终在
最佳转速范围内旋转。用本公开实施例公开的进行旋转烘焙的工艺减少了人工调试转速的
繁琐过程，且不限工件尺寸大小、浸渍漆粘度。最终旋转烘焙后的工件浸渍漆挂漆量高，无
漆瘤。浸渍漆的流失量可降到最低，既提高了工件绝缘处理效果又减少了浸渍漆的损耗浪
费，既提升了产品质量又降低了制造成本。

[0129] 在本申请所提供的几个实施例中，应该理解到，所揭露的装置和方法，也可以通过其它的方式实现。以上所描述的装置实施例仅仅是示意性的，例如，附图中的流程图和结构
图显示了根据本发明的多个实施例的装置、方法和计算机程序产品的可能实现的体系架
构、功能和操作。在这点上，流程图或框图中的每个方框可以代表一个模块、程序段或代码
的一部分，所述模块、程序段或代码的一部分包含一个或多个用于实现规定的逻辑功能的
可执行指令。也应当注意，在作为替换的实现方式中，方框中所标注的功能也可以以不同于
附图中所标注的顺序发生。例如，两个连续的方框实际上可以基本并行地执行，它们有时也
可以按相反的顺序执行，这依所涉及的功能而定。也要注意的是，结构图和/或流程图中的
每个方框、以及结构图和/或流程图中的方框的组合，可以用执行规定的功能或动作的专用
的基于硬件的系统来实现，或者可以用专用硬件与计算机指令的组合来实现。

[0130] 另外，在本发明各个实施例中的各功能模块或单元可以集成在一起形成一个独立的部分，也可以是各个模块单独存在，也可以两个或更多个模块集成形成一个独立的部分。

[0131] 所述功能如果以软件功能模块的形式实现并作为独立的产品销售或使用时，可以存储在一个计算机可读取存储介质中。基于这样的理解，本发明的技术方案本质上或者说
对现有技术做出贡献的部分或者该技术方案的部分可以以软件产品的形式体现出来，该计
算机软件产品存储在一个存储介质中，包括若干指令用以使得一台计算机设备（可以是智
能手机、个人计算机、服务器、或者网络设备等）执行本发明各个实施例所述方法的全部或
部分步骤。而前述的存储介质包括：U盘、移动硬盘、只读存储器（ROM，Read‑Only Memory）、
随机存取存储器（RAM，Random Access Memory）、磁碟或者光盘等各种可以存储程序代码的
介质。

[0132] 以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵
盖在本发明的保护范围之内。